變型設計方案也是可能的。
[0061]根據在圖2至6中示出的例子，爐子10的殼體14的面對支承裝置66的側壁28配設有用于傳送輥24的通道32。在圖2中示出的傳送輥24穿過爐子10的殼體14的通道30、32延伸且部分地布置在殼體14內和部分地布置在該殼體外。
[0062]在圖2至6的例子中，在支承裝置66與對應于支承裝置66的側壁28之間設有柔性的補償元件78。傳送輥24的部分區域布置在補償元件78中或穿過優選地至少基本上管形地設計的補償元件78延伸。因此可以實現容易地更換各個爐輥、例如輸送系統22的傳送輥24(見圖2)。輸送系統22中的輥間距例如可以近似等于或大于75_。
[0063]補償元件78可以這樣預緊地布置，使得密封布置結構95被朝向至少一個支承裝置66的方向擠壓。以這種方式可以借助于補償元件78這樣實現自動調整，即對磨損和回轉不精確性進行補償。在此可以優選地調節作用于密封布置結構95上的力。柔性的補償元件在根據圖2至6的例子中設計為波紋管。通過其彈性效果，波紋管78可以至少部分地補償密封布置結構95的損耗。原則上可以例如通過選擇材料、結構和/或幾何形狀規定補償元件78的柔性或其彈性。
[0064]此外，在圖2至6的例子中設有與補償元件78相連的密封布置結構95。該密封布置結構95將支承裝置66與位于外罩20內或爐子10的殼體14中的環境分開。為此，密封布置結構95優選地具有接納元件，該接納元件基本上設計為片材形式，且該接納元件基本上在垂直于傳送輥24的轉動軸的平面中延伸。
[0065]在例如設計為波紋管78的補償元件78的面對殼體14的一側上設有密封的固定法蘭74，其中，根據圖2的固定法蘭74布置在波紋管78與側壁28之間，其中，固定法蘭74的一部分延伸到通道32中。
[0066]在圖2至6的例子中示出的棍套管(Rol Iendurchfuehrung)的密封件的設計方案適用于在超壓時的保護氣體運行中的爐子10。在此，處理室16的外罩20和補償元件78及密封布置結構95—起且在包含固定法蘭74或密封元件96的情況下形成環境區域的邊界，在該環境區域中存在外罩內部的受控制的環境。該環境區域的邊界或邊界的元件在此優選設計為氣密的。
[0067]圖2示出密封布置結構95，其具有密封元件86和作為用于密封元件86的接納元件的止推片/擋圈82。止推片82運動學地與傳送輥24耦合且在傳送輥24轉動時與其一起轉動，其中，止推片82例如可以與輥軸52焊接。密封元件86也可以設計為環形且在傳送輥24移動時在止推片82和輥軸52上發生摩擦。密封元件86布置在止推片82與波紋管78之間，其中，波紋管78的端部區域和密封元件86的一部分由密封布置結構95的環形元件90包圍。
[0068]圖2示意性和示例性地示出爐子10，其中，與爐子10的兩個側壁26、28相對且與側壁26、28間隔開地各設有位于殼體14外的支承裝置64、66。在此，在殼體14的兩側上設有例如設計為波紋管的補償元件76、78和與補償元件76、78相連的密封布置結構93、95。傳送輥24的輥軸52的軸部段68、70的部分區域分別經過設置在相應的殼體側上的波紋管76或78延伸。在殼體14的兩側，在相應的波紋管76、78與側壁26、28相應的通道30、32之間設有優選氣密的密封件，該密封件例如可以設計為固定法蘭72或74。密封布置結構93、95根據圖2中示出的例子在兩側具有隔離分別對應的支承裝置64、66的止推片80、82，該止推片借助于至少一個密封元件84、86與波紋管76、78相連，其中，還設有環形元件88、90，該環形元件包圍波紋管76、78的端部區域和密封元件84、86的至少一部分。
[0069]因此可以將傳送輥24的支承功能與處理室16的密封功能彼此分開，這能夠實現設備的安全運行，特別是在用于傳送輥24的通道30、32的區域中溫度非常高時。支承裝置64、66關于傳送棍24的支承功能與爐子10的殼體14脫親。
[0070]圖3示出爐子10，其中，傳送輥24的輥體部50比爐子10的內部寬度短。輥軸52為了實現形鎖合的帶動而通過多邊形軸62與輥體部50相連。在圖3中示出的密封布置結構95具有止推片94，該止推片裝備有用于接納在示出的例子中設計為密封環92的密封元件的槽。密封布置結構95還具有另一個環形元件90，該環形元件徑向布置在密封環92和波紋管78夕卜。止推片94可以夾緊地安裝在輥軸52上，其中，例如可以使用墊圈和/或套筒。
[0071]在圖4中示出的爐子1的傳送輥24的輥體部50比爐子1的內部寬度長。在此，輥體部50伸入在例子中設計為波紋管的補償元件78中。密封布置結構95的在圖4中示出的止推片100具有多個帶動銷釘106，該帶動銷釘伸入傳送輥24中。為此，輥體部50的底部98例如可以配設有用于接納帶動銷釘106的鉆孔。止推片100還具有用于接納密封布置結構95的密封環92的槽，其中，設有另一個環形元件90，該環形元件包括密封環92的一部分和波紋管78的一部分。
[0072]在圖4中可以看到在傳送輥的軸與用于傳送輥24的、設置在側壁28中的通道32的軸之間的偏移。這種偏移可以通過補償元件78補償。相應地，波紋管78在示出的例子中偏離于水平軸取向，其中，波紋管78從殼體14的壁朝向支承裝置66上升地取向。通過設計為波紋管的補償元件78的靈活的取向，即使在傳送輥24的軸線與通道32的軸線之間存在偏差，仍確保了密封。
[0073]根據在圖2至4中示出的例子，補償元件78布置在殼體14外。在此，設置在波紋管78與側壁28之間的固定法蘭74優選最大部分地布置在通道32外。
[0074]根據在圖5和6中示出的例子，補償元件78的至少一部分布置在殼體14的通道32中。因此能夠實現包括傳送輥24的布置結構的更緊湊的結構形式。在兩個示出的例子中，在此在側壁28上設有密封元件96，該密封元件布置在設計為波紋管78的補償元件78與側壁28之間，其中，密封元件96被拉入側壁28的通道32中或優選地其大部分布置在通道32內。
[0075]在圖5和6中示出的密封布置結構95——類似于前面已經描述的密封布置結構95一一具有密封環92、外部環形元件和帶有用于接納密封環92的槽的止推片94。根據圖5，傳送輥24的輥軸52借助于多邊形軸62形鎖合地與輥體部54相連。
[0076]根據圖6，傳送棍24的棍軸52配設有卡圈104。在此，棍軸通過例如布置在卡圈104上的帶動件102與輥體部54相連。帶動件102在示出的例子中設計為銷釘形且伸入輥體部54的底部98中。這種設計方案可以特別對于大的輥來說是有利的。通道32的直徑或波紋管78的直徑在此通常匹配于所使用的傳送輥24的大小。
[0077]根據圖2至6說明的本發明示例性設計方案適用于在處理室16中溫度非常高的設備，其中，材料選擇和設計形式可以適配于特殊的使用條件。這種設計方案的優點之一在于，特別是對于運行重要的密封面可以更容易接近地布置且因此可以相對簡單地監控狀態和功能。另一優點在于，支承裝置64、66的軸承更好地被保護以免受所述高溫的影響。
[0078]作為本發明的基礎的思想可以概括如下:本發明涉及一種用于處理物料的例如設計為輥式爐的設備，該設備具有處理室16，該處理室裝備有外罩20，該外罩將位于其內的環境與