之間的距離。環狀突狀部3的寬度W是環狀突狀部 3的與直線la交叉的位置處的寬度（(D2 - D1)/2)。這些參數均用根據多個寬度方向上的 凹部列中的凹部2和環狀突狀部3求出的值的平均值來表示。
[0065]作為形成在Fe基非晶態合金薄帶上的凹部的大小，例如在為圓形或橢圓形時，最 大直徑能夠設為30 ym~120 ym的范圍，優選設為35 ym~70 ym的范圍。一般認為通過 使凹部的大小不是過小而是30 ym以上，能夠利用凹部形成使磁疇細分化。此外，通過使凹 部的大小不是過大而是120 ym以下，能夠抑制由于激光處理的影響而導入的局部形變，能 夠將磁滯損耗維持得較低。
[0066]形成在Fe基非晶態合金薄帶上的凹部的深度能夠設為1 ym以上的范圍，優選為 2 ym以上的范圍。此外，凹部的深度能夠設為5 ym以下的范圍，優選為4 ym以下的范圍。 一般認為通過使凹部的深度不是過淺而是2 ym以上，能夠促進利用凹部形成而實現的卷 繞磁芯的鐵損磁疇的減少細分化效果。此外，通過使凹部的深度不是過深而是4 ym以下， 能夠使激光處理高速化，而且抑制由于激光處理的影響而導入的局部形變，能夠將磁滯損 耗維持得較低。由此，能夠將鐵損抑制得較低。
[0067]更優選的是，利用激光處理形成有凹部的部分存在環狀的隆起，Fe基非晶態合金 在利用激光熔融或蒸發之后在周邊沒有附著飛散物的狀態。
[0068] 從提高激光照射效率的方面考慮，Fe基非晶態合金薄帶優選的是薄帶表面的波長 (入）1000nm的反射率（R)處于50 %~80 %的范圍。另外，能夠利用下述式求出反射率（R)。
[0069] R (%) =10〇xq)r/q)
[0070]在上述式中，中表示垂直地入射到薄帶表面的光束量，表示在薄帶表面上向入 射方向反射的光束量。在此，中和是使用分光光度計（日本分光（株）制的JASC0V- 570)在波長lOOOnm下測量的值。
[0071] 一Fe基非晶態合金薄帶一
[0072] 作為構成本發明的卷繞磁芯的Fe基非晶態合金薄帶的合金，能夠應用Fe - B系、 Fe - Si - B 系、Fe - Si - B - C 系、Fe - Si - B - P 系、Fe - Si - B - C - P 系、Fe - P - B系等。從即使照射激光也難以脆化、切斷等加工容易的方面考慮，特別優選為Fe - Si - B系、Fe - Si - B - C系的合金。
[0073] 作為Fe - Si - B系非晶態合金，優選為具有含有2原子％~13原子％的Si和 8原子％~16原子％的B、剩余部分實質上是Fe和不可避免的雜質的組成的系的合金。作 為Fe - Si - B - C系非晶態合金，優選為具有含有2原子％~13原子％的Si、8原子％~ 16原子％的B、以及3原子％以下的C、剩余部分是Fe和不可避的雜質的組成的系的合金。 對于任一種系而言，在Si均為10原子％以下且B均為16原子％以下的情況下，飽和磁通 密度Bs較高，利用激光照射實現的鐵損的減少效果較大，制造容易。
[0074] 此外，在Fe - Si - B - C系非晶態合金薄帶中，若過多地添加C，則薄帶存在變脆 的傾向。因此，C的量優選為0.3原子％以下。
[0075] Fe基非晶態合金除了含有上述成分之外，還可以以相對于Fe量而言合計為5原 子％ 以下的比例含有從由 Co、Ni、Mn、Cr、V、Mo、Nb、Ta、Hf、Zr、Ti、Cu、Au、Ag、Sn、Ge、Re、 Ru、Zn、In以及Ga構成的組中選擇的元素。
[0076] Fe基非晶態合金薄帶的厚度優選為15 ym以上的范圍，更優選為20 ym以上的范 圍。此外，厚度優選為40 ym以下的范圍，更優選為35 ym以下的范圍，進一步優選為30 ym 以下的范圍。在厚度是15 ym以上時，除了能夠保持薄帶的機械強度之外，在能夠提高槽滿 率，卷繞于卷繞磁芯時的層數變少的方面是有利的。此外，通過使厚度是40 ym以下，除了 將渦流損耗抑制得較小之外，在減小對卷繞磁芯進行加工時的彎曲形變、易于穩定地得到 非晶態相的方面是有利的。
[0077] Fe基非晶態合金薄帶的、與長度方向（鑄造方向）正交的寬度方向上的長度（幅 寬）優選為15mm以上且250mm以下。在幅寬是15mm以上時，易于得到大容量的磁芯。此 外，在幅寬是250_以下時，易于得到在寬度方向上板厚均勻的合金薄帶。為了得到大容量 且實用的磁芯，幅寬更優選為50mm以上且220mm以下。
[0078] 例如能夠利用液體驟冷法（單輥法、雙輥法、離心法等）等公知的方法制造（鑄 造）Fe基非晶態合金薄帶。其中，單輥法是制造設備比較簡單且能夠穩定制造的制造法，具 有優異的工業生產率。
[0079] 在此，參照圖6說明采用單輥法的制造方法的實施方式。
[0080] 圖6是概念地表示用于制造Fe基非晶態合金薄帶的Fe基非晶態合金薄帶制造裝 置的一例子的概略剖視圖。圖6表示用與冷卻輥30的軸線方向和Fe基非晶態合金薄帶 22C的寬度方向（這2個方向相同）垂直的面切斷Fe基非晶態合金薄帶制造裝置100時的 截面。
[0081] 圖6所示的Fe基非晶態合金薄帶制造裝置100是采用單輥法的Fe基非晶態合金 薄帶制造裝置，其包括具備熔液噴嘴10的坩堝20和其表面與熔液噴嘴10的頂端相對的冷 卻輥30。
[0082] 坩堝20具有可容納作為Fe基非晶態合金薄帶的原料的合金熔液22A的內部空 間，該內部空間和熔液噴嘴10內的熔液流路連通。由此，能夠利用熔液噴嘴10將容納在坩 堝20內的合金熔液22A噴出到冷卻輥30 (在圖6中用箭頭Q表示合金熔液22A的噴出方 向和流通方向）。另外，坩堝20和熔液噴嘴10既可以一體地構成，也可以獨立地構成。
[0083] 在坩堝20的周圍的至少一部分配置有作為加熱部件的高頻線圈40。由此，能夠將 容納有Fe基非晶態合金薄帶的母合金的狀態的坩堝20加熱而在坩堝20內生成合金熔液 22A、或者維持從外部供給到坩堝20的合金熔液22A的液體狀態。
[0084] 此外，熔液噴嘴10具有用于噴出合金熔液的開口部（噴出口）。開口部優選具有 矩形（狹縫形狀）的開口形狀。
[0085] 矩形的開口部的長邊的長度成為與要制造的Fe基非晶態合金薄帶的寬度相對應 的長度。
[0086] 熔液噴嘴10的頂端和冷卻輥30的表面之間的距離接近在利用熔液噴嘴10噴出 合金熔液22A時形成有由合金熔液22A構成的積液部22B的程度。
[0087] 該距離能夠設為單輯法中通常設定的范圍，但優選為500 ym以下，更優選為 300 y m以下，特別優選為200 y m以下。從抑制熔液噴嘴10的頂端和冷卻輥30的表面接觸 的方面考慮，該距離優選為50 ym以上。
[0088] 冷卻輥30構成為能夠向箭頭P的方向軸旋轉。在冷卻輥30的內部流通有水等冷 卻介質。由此，能夠將被賦予（噴出）到冷卻輥30的表面的合金熔液22A冷卻而制造（鑄 造）Fe基非晶態合金薄帶22C。
[0089] 冷卻輯30的材質優選為從Cu和Cu合金（Cu - Be合金、Cu - Cr合金、Cu - Zr 合金、Cu - Zn合金、Cu - Sn合金、Cu - Ti合金等）中選擇的導熱性較高的材質。
[0090] 冷卻輥30表面的表面粗糙度并沒有特別的限制，但從槽滿率的方面考慮，冷卻輥 30表面的算術平均粗糙度（Ra)優選為0.5ixm以下，更優選為0.3ixm以下。從調整表面粗 糙度的加工性的方面考慮，冷卻輥30表面的算術平均度（Ra)優選為0. 1 ym以上。此外， 為了維持表面粗糙度（Ra)，也可以在制造合金薄帶的過程中用刷子等研磨冷卻輥30的表 面。
[0091] 表面粗糙度（所述算術平均度Ra)是指依照JISB0601 (2001)測量出的表面粗糙 度。
[0092] 此外，冷卻輥30可以使用在單輥法中通常采用的冷卻輥。
[0093] 從冷卻能的方面考慮，冷卻輥30的直徑優選為200mm以上，更優選為300mm以上。 此外，直徑優選為700mm以下。
[0094] 冷卻輥30的轉速能夠設為在單輥法中通常設定的范圍。為了提高生產率，周速較 大的情況較佳，但為了維持輥的穩定的旋轉，優選周速為40m/s以下。考慮到生產率和旋轉 的穩定性，優選周速為l〇m/ S以上，更優選周速為20m/s以上。此外，作為上限，優選周速為 35m/s以下，更優選周速為30m/s以下。
[0095] 此外，冷卻輥30表面的溫度優選為從鑄造開始起就穩定的溫度，具體地講，在從 開始向溫度冷卻輥30表面供給合金熔液