述內(nèi)部體積進(jìn)行抽氣。43. 根據(jù)權(quán)利要求41或42所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊抽氣 控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至盡管在所述再處理過(guò)程中遭受溫度升高但足以維 持所述氣囊的抽氣的負(fù)壓。44. 根據(jù)權(quán)利要求41至43任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-5毫巴至-300毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。45. 根據(jù)權(quán)利要求41至44任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至-100毫巴至-250毫巴范圍內(nèi)的負(fù)壓。46. 根據(jù)權(quán)利要求41至45任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至低于-150毫巴的負(fù)壓。47. 根據(jù)權(quán)利要求41至45任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值在再處理 過(guò)程中隨時(shí)間而變。48. 根據(jù)權(quán)利要求41至47任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值在所述再 處理過(guò)程中作為所述氣囊內(nèi)窺鏡的溫度的函數(shù)而變。49. 根據(jù)權(quán)利要求41至48任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值的負(fù)壓，所述負(fù)壓閾值作為在所 述再處理之前或過(guò)程中的特定時(shí)間所述氣囊內(nèi)部的測(cè)量的負(fù)壓的函數(shù)而變。50. 根據(jù)權(quán)利要求41至49任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中： PT(t) =F(Tt，T0，P0)， 其中： Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度； T0是在初始時(shí)間to所述內(nèi)窺鏡的溫度；并且 P0是在所述初始時(shí)間to所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力。51. 根據(jù)權(quán)利要求41至50任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述氣囊 抽氣控制功能模塊操作成將所述氣囊抽氣至小于負(fù)壓閾值PT(t)的負(fù)壓，其中： PF(t) =Fl(Tt,TO,P0)+F2(t-t0) 其中： Tt是在時(shí)間t所述內(nèi)窺鏡的溫度； T0是在初始時(shí)間to所述內(nèi)窺鏡的溫度； P0是在所述初始時(shí)間to所述內(nèi)窺鏡的所述氣囊的所述內(nèi)部的壓力；并且 F2是從時(shí)間t0至t流逝的時(shí)間的函數(shù)。52. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，F(xiàn)1 = (Tt/ΤΟ) ·P0， 其中，Tt和TO以K氏溫度被測(cè)量，P0以高于用于PT(t)的零壓力的絕對(duì)壓力單位被測(cè)量。53. 根據(jù)權(quán)利要求51或52所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，F(xiàn)2 = K· (t-to)，其中，K是常數(shù)，表示壓力隨時(shí)間的變化。54. 根據(jù)權(quán)利要求53所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，K是在0. 01至0. 20 毫巴每秒的范圍內(nèi)。55. 根據(jù)權(quán)利要求53所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，K是在0. 02至0. 10 毫巴每秒的范圍內(nèi)。56. 根據(jù)權(quán)利要求22至55任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括 負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊，其操作成在再處理過(guò)程中檢測(cè)處于負(fù)壓下的所述氣囊內(nèi)窺鏡的泄 漏。57. 根據(jù)權(quán)利要求56所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述負(fù)壓泄漏檢測(cè) 功能模塊被構(gòu)造成連接至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，以便感測(cè)處于負(fù)壓下的所述內(nèi)窺鏡的泄 漏，并且所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊包括指示器，所述指示器對(duì)所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模 塊的操作做出響應(yīng)而操作，以便指示所述內(nèi)窺鏡中的泄漏的存在或缺失。58. 根據(jù)權(quán)利要求56或57所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述負(fù)壓泄漏 檢測(cè)功能模塊操作成在所述再處理的過(guò)程中在多個(gè)時(shí)間感測(cè)泄漏。59. 根據(jù)權(quán)利要求58所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)時(shí)間周期 性出現(xiàn)。60. 根據(jù)權(quán)利要求58所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)時(shí)間彼此 前后緊接地出現(xiàn)。61. 根據(jù)權(quán)利要求22至60任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括非 氣囊內(nèi)窺鏡再處理功能模塊。62. 根據(jù)權(quán)利要求61所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括操作者選擇 界面裝置，允許操作者選擇適于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的功能模塊或者適于對(duì)非氣囊內(nèi) 窺鏡進(jìn)行再處理的功能模塊。63. 根據(jù)權(quán)利要求59至62任一所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述負(fù)壓 泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積處于這樣的負(fù)壓時(shí)執(zhí)行泄漏檢測(cè)， 該負(fù)壓不同于泄漏檢測(cè)未執(zhí)行時(shí)再處理過(guò)程中的所述內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體積的負(fù)壓。64. 根據(jù)權(quán)利要求63所述的氣囊內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，其特征在于，所述泄漏檢測(cè)過(guò)程 中的所述內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積的所述負(fù)壓是處于比泄漏檢測(cè)未執(zhí)行時(shí)再處理過(guò)程中的 所述內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積的所述負(fù)壓更強(qiáng)的真空。65. -種用于與具有泄漏檢測(cè)端口的內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，所述泄漏檢測(cè)裝置 包括： 負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊，其被構(gòu)造成連接至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，以便感測(cè)處于負(fù) 壓下的所述內(nèi)窺鏡的泄漏；以及 指示器，所述指示器對(duì)所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊的操作做出響應(yīng)而操作，以便指示 所述內(nèi)窺鏡中的泄漏的存在或缺失。66. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在于，所述負(fù) 壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓處于-5毫巴至-300毫巴的范圍內(nèi)時(shí)執(zhí)行所述泄漏 檢測(cè)。67. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在于，所述負(fù) 壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓處于-100毫巴至-250毫巴的范圍內(nèi)時(shí)執(zhí)行所述泄 漏檢測(cè)。68. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在于，所述負(fù) 壓泄漏檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓低于-150毫巴時(shí)執(zhí)行所述泄漏檢測(cè)。69. 根據(jù)權(quán)利要求65至68任一所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在 于，所述泄漏檢測(cè)裝置適合與具有內(nèi)部體積的氣囊內(nèi)窺鏡的再處理結(jié)合地使用，并且所述 裝置還包括負(fù)壓建立功能模塊，其在至少一個(gè)泄漏檢測(cè)隨后操作成在所述氣囊內(nèi)窺鏡的所 述內(nèi)部體積中建立適合對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的負(fù)壓。70. 根據(jù)權(quán)利要求65至69任一所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在 于，還包括正壓泄漏檢測(cè)功能模塊。71. 根據(jù)權(quán)利要求70所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在于，所述正 壓泄漏檢測(cè)功能模塊包括用于消除由于在泄漏檢測(cè)過(guò)程中內(nèi)窺鏡氣囊隨時(shí)間膨脹造成的 虛假泄漏指示的功能模塊。72. 根據(jù)權(quán)利要求65至71任一所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在 于，還包括自動(dòng)化氣囊內(nèi)窺鏡/非氣囊內(nèi)窺鏡感測(cè)功能模塊。73. 根據(jù)權(quán)利要求72所述的用于與內(nèi)窺鏡使用的泄漏檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括 計(jì)算機(jī)控制器，用于取決于所述泄漏檢測(cè)裝置是否與氣囊內(nèi)窺鏡或與非氣囊內(nèi)窺鏡相連而 不同地操作所述泄漏檢測(cè)裝置。74. -種用于具有泄漏檢測(cè)端口的內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，所述方法包括： 將負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊連接至內(nèi)窺鏡的內(nèi)部體積； 采用所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊，以便感測(cè)負(fù)壓下的所述內(nèi)窺鏡的泄漏；以及 響應(yīng)于所述負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊的操作，指示所述內(nèi)窺鏡中的泄漏的存在或缺失。75. 根據(jù)權(quán)利要求74所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述負(fù)壓泄漏 檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓處于-5毫巴至-300毫巴的范圍內(nèi)時(shí)執(zhí)行所述泄漏檢測(cè)。76. 根據(jù)權(quán)利要求74所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述負(fù)壓泄漏 檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓處于-100毫巴至-250毫巴的范圍內(nèi)時(shí)執(zhí)行所述泄漏檢 測(cè) 。77. 根據(jù)權(quán)利要求74所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述負(fù)壓泄漏 檢測(cè)功能模塊操作成在所述負(fù)壓低于-150毫巴時(shí)執(zhí)行所述泄漏檢測(cè)。78. 根據(jù)權(quán)利要求74至77任一所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述 方法適合與具有內(nèi)部體積的氣囊內(nèi)窺鏡的再處理結(jié)合地使用，并且所述方法還包括在至少 一個(gè)泄漏檢測(cè)隨后在所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述內(nèi)部體積中建立適合對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行 再處理的負(fù)壓。79. 根據(jù)權(quán)利要求74至78任一所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，還包 括正壓泄漏檢測(cè)。80. 根據(jù)權(quán)利要求79所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述正壓泄漏 檢測(cè)包括消除由于在泄漏檢測(cè)過(guò)程中內(nèi)窺鏡氣囊隨時(shí)間膨脹造成的虛假泄漏指示。81. 根據(jù)權(quán)利要求74至80任一所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，還包 括自動(dòng)化感測(cè)與氣囊內(nèi)窺鏡或非氣囊內(nèi)窺鏡的連接。82. 根據(jù)權(quán)利要求81所述的用于內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)方法，其特征在于，還包括取決于 所述泄漏檢測(cè)裝置是否與氣囊內(nèi)窺鏡或與非氣囊內(nèi)窺鏡相連而不同地操作所述泄漏檢測(cè) 裝置。83. -種具有雙模式泄漏檢測(cè)端口連接功能模塊的內(nèi)窺鏡再處理系統(tǒng)，所述雙模式泄 漏檢測(cè)端口連接功能模塊具有第一、非氣囊內(nèi)窺鏡、再處理模式以及第二、氣囊內(nèi)窺鏡、再 處理模式，在所述第一、非氣囊內(nèi)窺鏡、再處理模式中，加壓的氣體被供應(yīng)至經(jīng)歷再處理的 非氣囊內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，在所述第二、氣囊內(nèi)窺鏡、再處理模式中，加壓的氣體未被 供應(yīng)至氣囊內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口。84. -種用于與具有加壓氣體源的傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)使用的改進(jìn)的自動(dòng)化氣囊內(nèi) 窺鏡再處理系統(tǒng)，所述傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)不適于再處理氣囊內(nèi)窺鏡，所述改進(jìn)的系統(tǒng) 包括： 預(yù)-再處理氣囊內(nèi)窺鏡氣囊抽氣校驗(yàn)器；以及 氣囊內(nèi)窺鏡再處理實(shí)現(xiàn)器，在所述氣囊內(nèi)窺鏡的所述泄漏檢測(cè)端口未與加壓氣體源加 壓氣體連通時(shí)允許所述傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)的正常操作。85. -種用于與具有加壓氣體源的傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)使用的改進(jìn)的自動(dòng)化氣囊內(nèi) 窺鏡再處理系統(tǒng)，所述傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)不適于再處理氣囊內(nèi)窺鏡，所述改進(jìn)的系統(tǒng) 包括： 預(yù)-再處理氣囊內(nèi)窺鏡氣囊抽氣校驗(yàn)器；以及 再處理氣囊內(nèi)窺鏡泄漏檢測(cè)端口充氣防止器，其操作成防止氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊經(jīng)由氣 囊內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口充氣，而允許所述傳統(tǒng)的自動(dòng)化再處理機(jī)的其它正常操作。86. -種內(nèi)窺鏡泄漏檢測(cè)裝置，包括： 泄漏檢測(cè)端口接頭； 計(jì)算機(jī)負(fù)壓施加器，其被構(gòu)造成將負(fù)壓經(jīng)由所述泄漏檢測(cè)端口接頭施加至內(nèi)窺鏡的泄 漏檢測(cè)端口；以及 計(jì)算機(jī)壓力傳感器，其被構(gòu)造成在所述泄漏檢測(cè)端口處于負(fù)壓下時(shí)的時(shí)間感測(cè)所述內(nèi) 窺鏡的所述泄漏檢測(cè)端口的隨時(shí)間的壓力變化。87. -種內(nèi)窺鏡泄漏檢測(cè)裝置，包括： 泄漏檢測(cè)端口接頭； 計(jì)算機(jī)壓力施加器，其被構(gòu)造成在不同的時(shí)間將正壓和負(fù)壓經(jīng)由所述泄漏端口接頭施 加至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口；以及 計(jì)算機(jī)壓力傳感器，其被構(gòu)造成在所述泄漏檢測(cè)端口處于正壓下時(shí)的時(shí)間以及在所述 泄漏檢測(cè)端口處于負(fù)壓下時(shí)的時(shí)間都感測(cè)所述內(nèi)窺鏡的所述泄漏檢測(cè)端口處的隨時(shí)間的 壓力變化。88. -種內(nèi)窺鏡泄漏檢測(cè)裝置，包括： 正壓源； 負(fù)壓源； 計(jì)算機(jī)壓力控制器，其被構(gòu)造成在不同的時(shí)間將來(lái)自所述正壓源的正壓以及將來(lái)自所 述負(fù)壓源的負(fù)壓施加至內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口；以及 計(jì)算機(jī)壓力傳感器，其被構(gòu)造成在所述泄漏檢測(cè)端口處于正壓下時(shí)的時(shí)間以及在所述 泄漏檢測(cè)端口處于負(fù)壓下時(shí)的時(shí)間都感測(cè)所述內(nèi)窺鏡的所述泄漏檢測(cè)端口處的隨時(shí)間的 壓力變化。89. -種自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，包括： 內(nèi)窺鏡再處理室，其被構(gòu)造成用于接收待再處理的內(nèi)窺鏡； 流體供應(yīng)子系統(tǒng)，其操作成將再處理材料的流提供至所述內(nèi)窺鏡再處理室；以及 泄漏檢測(cè)子系統(tǒng)，其被構(gòu)造成用于連接至所述待再處理的內(nèi)窺鏡的泄漏檢測(cè)端口，所 述泄漏檢測(cè)子系統(tǒng)具有負(fù)壓泄漏檢測(cè)功能模塊，用于提供所述內(nèi)窺鏡的負(fù)壓泄漏檢測(cè)。90. 根據(jù)權(quán)利要求89所述的自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，其特征在于，還包括計(jì)算機(jī)控制 器，其協(xié)調(diào)所述流體供應(yīng)子系統(tǒng)和所述泄漏檢測(cè)子系統(tǒng)的操作的相對(duì)時(shí)序。91. 根據(jù)權(quán)利要求90所述的自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，其特征在于， 在所述再處理器的操作的至少一個(gè)階段的過(guò)程中，所述流體供應(yīng)子系統(tǒng)將升高溫度的 流體提供至所述內(nèi)窺鏡再處理室；并且 所述計(jì)算機(jī)控制器確保在所述再處理器的操作的至少一個(gè)階段的過(guò)程中，所述內(nèi)窺鏡 的內(nèi)部體積至少處于預(yù)定的負(fù)壓。92. 根據(jù)權(quán)利要求91所述的自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)控制器 操作成以氣囊內(nèi)窺鏡再處理模式和非氣囊內(nèi)窺鏡再處理模式選擇性管理所述流體供應(yīng)子 系統(tǒng)和所述泄漏檢測(cè)子系統(tǒng)的操作。93. 根據(jù)權(quán)利要求92所述的自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)控制器 在所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理模式中操作成僅在所述氣囊內(nèi)窺鏡處于降壓的狀態(tài)中以使得所 述氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊處于抽氣的狀態(tài)中時(shí)執(zhí)行泄漏檢測(cè)。94. 根據(jù)權(quán)利要求92或93所述的自動(dòng)化內(nèi)窺鏡再處理器，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)控 制器在所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理模式中操作成僅在所述氣囊內(nèi)窺鏡處于降壓的狀態(tài)中以使 得所述氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊處于抽氣的狀態(tài)中時(shí)執(zhí)行再處理。95. -種用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，所述氣囊內(nèi)窺鏡具有內(nèi)窺鏡內(nèi)部體積 并且包括具有氣囊內(nèi)部體積的氣囊，所述內(nèi)窺鏡內(nèi)部體積和所述氣囊內(nèi)部體積正常情況下 經(jīng)由至少一個(gè)開(kāi)口彼此流體連通，所述方法包括在所述氣囊內(nèi)窺鏡的再處理的至少一部分 過(guò)程中密封所述至少一個(gè)開(kāi)口。96. 根據(jù)權(quán)利要求95所述的用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，其特征在于，所述 密封通過(guò)機(jī)械地密封所述至少一個(gè)開(kāi)口而實(shí)現(xiàn)。97. 根據(jù)權(quán)利要求96所述的用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，其特征在于，所述 密封通過(guò)以下方式實(shí)現(xiàn)，將真空施加至所述內(nèi)窺鏡內(nèi)部體積，這將所述氣囊緊密地保持與 所述至少一個(gè)開(kāi)口密封接合。98. 根據(jù)權(quán)利要求96所述的用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，其特征在于，所述 氣囊附著在所述氣囊內(nèi)窺鏡的外護(hù)套上安裝，所述密封通過(guò)施加外夾具來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述外夾 具操作成將所述氣囊周向圍繞所述至少一個(gè)開(kāi)口壓靠著所述外護(hù)套，因而密封所述至少一 個(gè)開(kāi)口。99. 根據(jù)權(quán)利要求96所述的用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，其特征在于，所述 氣囊附著在所述氣囊內(nèi)窺鏡的外護(hù)套上安裝，所述密封通過(guò)施加機(jī)械密封元件來(lái)實(shí)現(xiàn)，所 述機(jī)械密封元件操作成阻塞所述至少一個(gè)開(kāi)口，因而密封所述至少一個(gè)開(kāi)口并防止流體的 流經(jīng)所述開(kāi)口。100. 根據(jù)權(quán)利要求99所述的用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，其特征在于，所述 機(jī)械密封元件位于所述氣囊的內(nèi)側(cè)。101. -種具有內(nèi)窺鏡內(nèi)部體積的氣囊內(nèi)窺鏡，包括： 氣囊，所述氣囊附著在所述氣囊內(nèi)窺鏡的外護(hù)套上密封地安裝并且具有氣囊內(nèi)部體 積； 在所述外護(hù)套中設(shè)置在所述氣囊下方的至少一個(gè)開(kāi)口，其正常情況下提供所述內(nèi)窺鏡 內(nèi)部體積與所述氣囊內(nèi)部體積之間的流體連通；以及 密封元件，所述密封元件操作成用于在所述氣囊內(nèi)窺鏡的再處理的至少一部分的過(guò)程 中密封所述至少一個(gè)開(kāi)口。102. 根據(jù)權(quán)利要求101所述的氣囊內(nèi)窺鏡，其特征在于，所述密封元件包括外夾具，所 述外夾具操作成將所述氣囊周向圍繞所述至少一個(gè)開(kāi)口壓靠著所述外護(hù)套，因而密封所述 至少一個(gè)開(kāi)口。103. 根據(jù)權(quán)利要求101所述的氣囊內(nèi)窺鏡，其特征在于，所述密封元件包括機(jī)械密封 元件，所述機(jī)械密封元件操作成阻塞所述至少一個(gè)開(kāi)口，因而密封所述至少一個(gè)開(kāi)口并防 止流體的流經(jīng)所述開(kāi)口。104. 根據(jù)權(quán)利要求103所述的氣囊內(nèi)窺鏡，其特征在于，所述機(jī)械密封元件位于所述 氣囊的內(nèi)側(cè)。105. -種準(zhǔn)備氣囊內(nèi)窺鏡以便再次使用的方法，所述方法包括以下步驟： 在氣囊內(nèi)窺鏡的臨床使用之后將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊充氣至正壓的狀態(tài)； 在所述氣囊處于所述正壓狀態(tài)時(shí)清潔所述氣囊； 此后，將氣囊內(nèi)窺鏡的所述氣囊抽氣至負(fù)壓的狀態(tài)；并且 此后，再處理所述氣囊內(nèi)窺鏡，同時(shí)在對(duì)所述氣囊內(nèi)窺鏡再處理的至少一部分過(guò)程中 維持氣囊的內(nèi)部處于負(fù)壓狀態(tài)中。106. 根據(jù)權(quán)利要求1至21所述的方法，其特征在于，在將所述氣囊抽氣至所述負(fù)壓狀 態(tài)之前還包括以下步驟： 在所述氣囊的臨床使用之后將所述氣囊充氣至正壓的狀態(tài)；以及 在所述氣囊處于所述正壓的狀態(tài)時(shí)清潔所述氣囊。
【專(zhuān)利摘要】用于對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的方法，所述方法包括這樣的步驟：在氣囊內(nèi)窺鏡的臨床使用之后將氣囊內(nèi)窺鏡的氣囊抽氣至負(fù)壓的狀態(tài)，并且此后在對(duì)氣囊內(nèi)窺鏡進(jìn)行再處理的至少一部分過(guò)程中將氣囊的內(nèi)部維持在負(fù)壓的狀態(tài)中。
【IPC分類(lèi)】B08B3/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105263641
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480029252
【發(fā)明人】G·特柳克, G·盧里亞, E·霍赫曼
【申請(qǐng)人】智能醫(yī)療系統(tǒng)有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2014年5月21日
【公告號(hào)】CA2912875A1, EP2999552A1, US20160095508, WO2014188402A1...