溶液可固化的 聚氨基甲酸酯樹脂）、（甲基）丙烯酰基-聚氨基甲酸酯共聚物（例如，丙烯酰基-聚氨基 甲酸酯嵌段共聚物）、聚酯樹脂、丁縮醛樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯基酯共聚物、乙烯-醋酸乙 烯酯共聚物、氯化聚烯烴諸如氯化聚乙烯或氯化聚丙烯、和它們的共聚物和衍生物（例如， 氯化乙烯-丙烯共聚物、氯化乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、丙烯酰基改性的氯化聚丙烯、馬來 酸酐改性的氯化聚丙烯、和聚氨基甲酸酯改性的氯化聚丙烯）等等。當基材為聚丙烯膜時， 底漆包含氯化聚丙烯或改性的氯化聚丙烯是有利的。
[0097] 底漆層可通過使用該技術領域中已知的方法施涂底漆溶液并且然后干燥溶液形 成，其中底漆溶液通過在溶劑中溶解前述樹脂制備。底漆層的厚度通常在約〇. Iym至 20 μ m的范圍內（在若干實施例中，約0. 5 μ m至5 μ m)。
[0098] 在一些實施例中，抗反射制品可在經干蝕刻的表面上具有粘合劑層。經干蝕刻的 表面具有精密的表面粗糙度，從而由粘合劑層產生優異的粘附性。在該實施例中，使用粘合 劑層使得可以容易地提供具有抗反射特性的其它制品。該技術領域中已知的橡膠粘合劑、 丙烯酸系粘合劑、聚氨酯粘合劑、聚烯烴粘合劑、聚酯粘合劑和硅粘合劑或壓敏粘合劑可用 作粘合劑層。粘合劑或壓敏粘合劑優選為光學透明的粘合劑或壓敏粘合劑，諸如光學透明 的丙烯酸系粘合劑或壓敏粘合劑。在本公開中，"光學透明的"意指在可見光范圍（380nm至 780nm)內的總透光率為至少90%并且如果必要的話，其它波長范圍（例如，紫外線范圍） 的光的總透光率也為至少90%。粘合劑層可通過將粘合劑和壓敏粘合劑直接施涂或擠出到 基材上形成，或粘合劑層通過將粘合劑和壓敏粘合劑施涂到可以層合并轉移到基材上的隔 離襯片上而形成。
[0099] 包含粘合劑或壓敏粘合劑的粘合劑層的厚度通常在約1 μπι至IOOym的范圍內 (在若干實施例中，約5 μm至75 μm或約10 μπι至50 μm)。粘合劑或壓敏粘合劑也可包含 上述紫外線吸收劑。
[0100] 如必要，抗反射硬涂層和/或粘合劑層也可具有在該技術領域中已知的隔離襯 片。在該技術領域中已知并且通過在紙材或聚合物膜上執行硅處理等制備的材料可用作隔 離襯片。
[0101] 在一些實施例中，抗反射制品還可包括獨立于支撐抗反射硬涂層的基材而被層合 在經干蝕刻的表面上的第二基材。例如，此類第二基材可通過上述粘合劑層被層合在經干 蝕刻的表面上。粘合劑層優選使用光學透明的粘合劑或壓敏粘合劑形成。
[0102] 如使用本公開抗反射制品的示例，其中第二基材為液晶顯示器面板37、47和57的 顯示單元30、40和50的剖面圖示于圖4至圖6。在圖4中，硬涂層34設置在基材32的兩 偵牝并且經干蝕刻的表面35的一部分和液晶顯示器面板37通過光學透明的粘合劑層36附 著到彼此。在圖4中，印刷層38設置在經干蝕刻的表面35的外周邊，作為液晶顯示器面板 37的圖像顯示區域的框架。相對于用于形成印刷層38的印刷墨等，具有精密的表面粗糙度 的經干蝕刻的表面35也具有優異的印刷特性。在圖5中，在基材42的兩側的硬涂層44均 具有經干蝕刻的表面45,因此相比于圖4,進一步改善了抗反射特性。在圖6中，還在位于 液晶顯示器面板57的相對側的經干蝕刻的表面59上執行硅烷耦合處理，以便提供具有功 能性諸如耐污性、耐霧性等等的顯示單元的表面。
[0103] 例如，本公開的抗反射硬涂層和抗反射制品適用于各種應用諸如液晶顯示器、EL 顯示器、LED顯示器、等離子體顯示器、觸摸面板、用于相機的透鏡等、太陽能供電板（太陽 能板）等等。然而，本公開的抗反射硬涂層和抗反射制品并不局限于這些應用并且可用于 需要抗反射特性的各種應用。
[0104] 本公開提供了抗反射硬涂層、制品和顯示器的各種實施例。
[0105] 實施例1為包含納米顆粒混合物和粘結劑的抗反射硬涂層，該抗反射硬涂層具有 經干蝕刻的表面；納米顆粒構成硬涂層的整個質量的40質量％至95質量％; 10質量％至 50質量％的納米顆粒具有在2nm至200nm范圍內的平均粒度；50質量％至90質量％的納 米顆粒具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度；具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度 的納米顆粒的平均粒度與具有在2nm至200nm范圍內的平均粒度的納米顆粒的平均粒度的 比率在2:1至200:1的范圍內，其中納米顆粒的粒度分布為雙峰的或多峰的。
[0106] 實施例2為實施例1的抗反射硬涂層，其中納米顆粒為表面改性的納米顆粒。
[0107] 實施例3為實施例1或實施例2的抗反射硬涂層，其中干蝕刻為等離子體蝕刻。
[0108] 實施例4為實施例1至實施例3中的任一個的抗反射硬涂層，其中粘結劑包含氟 化（甲基）丙烯酸化合物、它們的反應產物，或它們的組合。
[0109] 實施例5為實施例1至實施例4中的任一個的抗反射硬涂層，其中還在經干蝕刻 的表面上執行硅烷耦合處理。
[0110] 實施例6為包括具有第一表面的基材；和設置在基材的第一表面上的實施例1至 實施例5中的任一個的抗反射硬涂層的層的抗反射制品。
[0111] 實施例7為實施例1至實施例6中的任一個的抗反射制品，其中基材還包括第二 表面并且還包括設置在基材的第二表面上的實施例1至實施例5中的任一個的抗反射硬涂 層的層。
[0112] 實施例8為實施例1至實施例7中的任一個的抗反射制品，其中第二基材被層合 在經干蝕刻的表面上。
[0113] 實施例9為實施例1至實施例8中的任一個的抗反射制品，其中第二基材通過光 學透明的粘合劑層被層合在經干蝕刻的表面上。
[0114] 實施例10為包括根據實施例1至實施例9中的任一個的抗反射制品的顯示單元， 其中第二基材為液晶顯示器面板。
[0115] 實M
[0116] 下面的實例闡述了本公開的具體實施例，但本發明不局限于這些實施例。除非另 外指定，否則所有的"份數"和"百分數"都基于質量。
[0117] 評估方法
[0118] 根據下面的方法評估本公開的抗反射硬涂層的特性。
[0119] L光學特件
[0120] 使用UV-vis分光光度計（U-4100,得自日立高新技術公司（Hitachi High Technologies Corporation))，測量在 350 至 850nm 波長的透射率。
[0121] 2.接觸角
[0122] 通過固著液滴法使用接觸角計（以產品名稱"DROPMASTER FACE"得自協和界面化 學株式會社（Kyowa Kaimen Kagaku Co. ,Ltd.))測量抗反射硬涂層表面的水接觸角。對于 靜態接觸角的測量而言，液體小滴的體積設定為4 μ L。由五次測量的平均值計算水接觸角 的值。具有超過100度水接觸角的表面可阻止粉塵等的沉積。另一方面，具有小于20度的 水接觸角的表面具有高親水性，這可以阻止由于水蒸氣在表面上冷凝而導致的成霧。
[0123] 3.粘合力測試
[0124] 使用2. Okg的輥，將寬度25nm的光學透明的粘合帶（CER)806,得自3Μ公司（3Μ Company))附著到每個基材的抗反射硬涂層表面，并且以90度的剝離角和300毫米/分鐘 的剝離速率在25°C下測量粘合力。
[0125] 表1 :試劑和原料
[0126]
【主權項】
1. 一種包含納米顆粒混合物和粘結劑的抗反射硬涂層，所述抗反射硬涂層具有經干蝕 刻的表面； 所述納米顆粒構成所述硬涂層的整個質量的40質量％至95質量％ ; 10質量％至50質量％的所述納米顆粒具有在2nm至200nm范圍內的平均粒度； 50質量％至90質量％的所述納米顆粒具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度； 具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度的納米顆粒的所述平均粒度與具有在2nm至 200nm范圍內的平均粒度的納米顆粒的所述平均粒度的比率在2:1至200:1的范圍內， 其中所述納米顆粒的粒度分布為雙峰的或多峰的。
2. 根據權利要求1所述的抗反射硬涂層，其中所述納米顆粒為表面改性的納米顆粒。
3. 根據權利要求1或2所述的抗反射硬涂層，其中所述干蝕刻為等離子體蝕刻。
4. 根據權利要求1至3中任一項所述的抗反射硬涂層，其中所述粘結劑包含氟化的 (甲基）丙烯酸化合物、它們的反應產物或它們的組合。
5. 根據權利要求1至4中任一項所述的抗反射硬涂層，其中還在所述經干蝕刻的表面 上執行硅烷耦合處理。
6. -種抗反射制品，其包括：具有第一表面的基材；以及 設置在所述基材的所述第一表面上的根據權利要求1至5中任一項所述的抗反射硬涂 層的層。
7. 根據權利要求6所述的抗反射制品，其中所述基材還包括第二表面并且還包括設置 在所述基材的所述第二表面上的根據權利要求1至5中任一項所述的抗反射硬涂層的層。
8. 根據權利要求6或7所述的抗反射制品，其中第二基材被層合在所述經干蝕刻的表 面上。
9. 根據權利要求8所述的抗反射制品，其中所述第二基材通過光學透明的粘合劑層被 層合在所述經干蝕刻的表面上。
10. -種包括根據權利要求8或9所述的抗反射制品的顯示單元，其中所述第二基材為 液晶顯示器面板。
【專利摘要】本發明提供了抗反射硬涂層，所述抗反射硬涂層包含納米顆粒混合物和粘結劑并且具有經干蝕刻的表面。所述納米顆粒構成所述抗反射硬涂層的整個質量的40質量％至95質量％。10質量％至50質量％的所述納米顆粒具有在2nm至200nm范圍內的平均粒度。50質量％至90質量％的所述納米顆粒具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度。具有在60nm至400nm范圍內的平均粒度的納米顆粒的平均粒度與具有在2nm至200nm范圍內的平均粒度的納米顆粒的平均粒度的比率為2:1至200:1。所述納米顆粒的粒度分布為雙峰的或多峰的。
【IPC分類】C09D5-00, C09D4-00
【公開號】CN104619790
【申請號】CN201380040726
【發明人】上田紗織, 杉山直大, 高松賴信, 南秀樹, 弘重裕司, 原田孝
【申請人】3M創新有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2013年7月30日
【公告號】WO2014022368A2, WO2014022368A3