圖形可以包括步驟102cl或者步驟102c2?102c3,可以根據(jù)具體的實(shí)施方 案選擇執(zhí)行步驟l〇2cl或者步驟102c2?102c3;
[0080] 102cl、利用激光掃描設(shè)備，通過(guò)激光掃描工藝處理第一掩膜層圖形，形成與待固 化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
[0081] 具體的，采用激光掃描設(shè)備掃描第一掩膜層圖形，去除第一掩膜層圖形中的待固 化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的光刻膠和掩膜層材料，同時(shí)采用激光掃描設(shè)備刻蝕掉第一掩 膜層圖形中的光刻膠，得到如圖1中所示的掩膜層圖形。
[0082] 102c2、利用掩膜板處理第一掩膜層圖形，形成紫外圖形制作區(qū)。
[0083] 其中，紫外圖形制作區(qū)是與待固化封框膠層做在膜層對(duì)應(yīng)，需要在其上制作封框 膠固化掩膜板的圖形的區(qū)域。
[0084] 102c3、利用激光掃描設(shè)備，通過(guò)激光掃描工藝處理紫外圖形制作區(qū)，形成與待固 化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
[0085] 具體的，當(dāng)對(duì)位標(biāo)識(shí)與封框膠在同一條線上時(shí)，先采用掩膜板遮擋住已形成的第 一掩膜層圖形中的對(duì)位標(biāo)識(shí)區(qū)域和選擇區(qū)域的金屬材料，形成紫外圖形制作區(qū)，之后采用 激光掃描設(shè)備在紫外圖形制作區(qū)中去除封框膠未覆蓋區(qū)域的金屬材料和第一掩膜層圖形 中的光刻膠，得到如圖2中所示的掩膜層圖形。
[0086] 本發(fā)明實(shí)施例中的紫外線固化掩膜板的制作方法只需要采用一次成膜、曝光、顯 影和刻蝕工藝就可以形成封框膠固化中需要的紫外線固化掩膜板，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中的紫 外線掩膜板的制作方法需要多次成膜、曝光、顯影和刻蝕工藝，極大的減少了工藝流程，具 有很高的優(yōu)勢(shì)和較大的市場(chǎng)價(jià)值。
[0087] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的紫外線固化掩膜板的制作方法，通過(guò)在襯底基板上形成掩 膜層的圖形，且掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料，從而在封框膠的固化工藝中， 采用該制作方法只需要進(jìn)行一次成膜、曝光和刻蝕工藝就可以形成紫外線固化掩膜板，解 決了現(xiàn)有的封框膠固化工藝中使用的紫外線掩膜板的制作需要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕 工藝的問(wèn)題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜度。進(jìn)而，可以節(jié)省時(shí)間，提高 生產(chǎn)效率。
[0088] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種顯示裝置，該顯示裝置中的待固化膜層采用上述任一實(shí) 施例提供的紫外線固化掩膜板進(jìn)行固化，該顯示裝置可以為：手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、筆記 本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0089] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的顯示裝置，通過(guò)采用一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成掩膜 層圖形，同時(shí)形成的紫外線固化掩膜板中只有襯底基板和掩膜層，且掩膜層的材料為具有 阻擋紫外光作用的材料，這樣，在制作該紫外線固化掩膜板時(shí)只需要進(jìn)行一次成膜、曝光和 刻蝕工藝即可，采用該紫外線固化掩膜板對(duì)該顯示裝置中的待固化膜層進(jìn)行固化，解決了 現(xiàn)有的封框膠固化工藝中使用的紫外線掩膜板的制作需要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕工藝 的問(wèn)題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜度。進(jìn)而，可以節(jié)省時(shí)間，提高生產(chǎn) 效率。
[0090] 以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何 熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵 蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種紫外線固化掩膜板，所述紫外線固化掩膜板包括襯底基板，待固化膜層的面板 上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述紫外線固化掩膜板還包括：掩膜層，其中： 所述掩膜層設(shè)置在所述襯底基板上，且與所述對(duì)位標(biāo)識(shí)、選擇標(biāo)識(shí)和所述待固化膜層 未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的位置； 所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的紫外線固化掩膜板，其特征在于， 所述掩膜層的材料包括金屬材料。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的紫外線固化掩膜板，其特征在于， 所述金屬材料包括：鉬、鋁、銅、鎢中的至少一種。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3任一所述的紫外線固化掩膜板，其特征在于， 所述掩膜層的厚度為2000~4GG0人。
5. -種紫外線固化掩膜板的制作方法，其特征在于，所述方法包括： 提供一襯底基板； 通過(guò)一次構(gòu)圖工藝在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形； 其中，所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，待固化膜層的面板上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選 擇標(biāo)識(shí)，所述通過(guò)一次構(gòu)圖工藝在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形，包括： 在所述襯底基板上形成掩膜層材料薄膜； 通過(guò)一次構(gòu)圖工藝處理所述掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖形；其中，所述第一 掩膜層圖形為所述掩膜層上具有與所述對(duì)位標(biāo)識(shí)和所述選擇標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的圖形； 處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述通過(guò)一次構(gòu)圖工藝處理所述掩膜層 材料薄膜，形成為第一掩膜層圖形，包括： 在形成有掩膜層材料薄膜的基板上，涂布光刻膠； 利用掩膜板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，再對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，顯影后形成光刻 膠完全保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域；其中，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)所述對(duì)位標(biāo) 識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)的區(qū)域，其他區(qū)域?yàn)楣饪棠z完全去除區(qū)域； 去除位于光刻膠完全去除區(qū)域的掩膜層材料薄膜。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所 述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形，包括： 利用激光掃描設(shè)備，通過(guò)激光掃描工藝處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化 膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所 述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形，包括： 利用掩膜板處理所述第一掩膜層圖形，形成紫外圖形制作區(qū)； 利用激光掃描設(shè)備，通過(guò)激光掃描工藝處理所述紫外圖形制作區(qū)，形成與所述待固化 膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
10. -種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置中的待固化膜層采用權(quán)利要求1?4任 一所述的紫外線固化掩膜板進(jìn)行固化。
【專利摘要】本發(fā)明的實(shí)施例提供一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有的封框膠固化時(shí)需要的紫外線掩膜板的制作需要多次進(jìn)行成膜、曝光和刻蝕工藝的問(wèn)題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜度。所述紫外線固化掩膜板包括襯底基板，待固化膜層的面板上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)，所述紫外線固化掩膜板還包括：掩膜層，其中：所述掩膜層設(shè)置在所述襯底基板上，且與所述對(duì)位標(biāo)識(shí)、選擇標(biāo)識(shí)和待固化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的位置；所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。本發(fā)明應(yīng)用于掩膜板制作工藝中。
【IPC分類】G03F7-20, G03F1-38
【公開號(hào)】CN104614948
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510053834
【發(fā)明人】張小祥, 劉正, 郭總杰, 張治超, 劉明懸, 陳曦
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2015年2月2日