例?；?本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0043] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種紫外線(xiàn)固化掩膜板，該紫外線(xiàn)固化掩膜板應(yīng)用于封框膠 固化工藝流程中，參照?qǐng)D1和圖2所示，該紫外線(xiàn)固化掩膜板包括：襯底基板1和掩膜層2， 待固化膜層的面板1上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)，其中：
[0044] 掩膜層2設(shè)置在襯底基板1上，且與對(duì)位標(biāo)識(shí)、選擇標(biāo)識(shí)和待固化膜層未覆蓋區(qū)域 對(duì)應(yīng)的位置。
[0045] 掩膜層2的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0046] 其中，如圖1和2中所示，掩膜層2中包括：與對(duì)位標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的區(qū)域3、與選擇標(biāo)識(shí) 對(duì)應(yīng)的區(qū)域3和與待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域。本實(shí)施例中示例性的，待固化膜層 可以為待固化封框膠。
[0047] 具體的，如圖1中所示，需要固化的封框膠覆蓋的區(qū)域與需要使用的紫外線(xiàn)固化 掩膜板中的對(duì)位標(biāo)識(shí)不在同一條線(xiàn)上。因此，可以采用圖1中所示的紫外線(xiàn)固化掩膜板對(duì) 封框膠進(jìn)行固化。其中，如圖3中所示，為圖1中的紫外線(xiàn)固化掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0048] 可選的，如圖2中所示，此時(shí)需要固化的封框膠覆蓋的區(qū)域與需要使用的紫外線(xiàn) 固化掩膜板中的對(duì)位標(biāo)識(shí)在同一條線(xiàn)上，則需要采用圖2中所示的紫外線(xiàn)固化掩膜板對(duì)封 框膠進(jìn)行固化。其中，如圖4中所示，為圖2中的紫外線(xiàn)固化掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0049] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的紫外線(xiàn)固化掩膜板，通過(guò)采用一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上 形成掩膜層圖形，同時(shí)形成的紫外線(xiàn)固化掩膜板中只有襯底基板和掩膜層，且掩膜層的材 料為具有阻擋紫外光作用的材料，這樣，在制作該紫外線(xiàn)固化掩膜板時(shí)只需要進(jìn)行一次成 膜、曝光和刻蝕工藝即可，解決了現(xiàn)有的封框膠固化工藝中使用的紫外線(xiàn)掩膜板的制作需 要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問(wèn)題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜 度。
[0050] 進(jìn)一步，掩膜層2的材料包括金屬材料。
[0051] 金屬材料包括：鉬、鋁、銅、鎢中的至少一種。
[0052] 其中，本實(shí)施例中優(yōu)選的采用電導(dǎo)率和磁導(dǎo)率相對(duì)較大的鉬、鋁、銅、鎢金屬作為 掩膜層的材料，可以更好的保證對(duì)紫外光的遮擋作用。當(dāng)然，此處只是舉例說(shuō)明采用上述金 屬材料并沒(méi)有限定只能使用這些材料，現(xiàn)有技術(shù)中的可以實(shí)現(xiàn)對(duì)紫外光遮擋作用的金屬材 料都是可以適用的。
[0053] 掩膜層2的厚度為2000?4000人。
[0054] 其中，示例性的一般采用的掩膜層的厚度為2GGG人。本發(fā)明實(shí)施例中選用掩膜 層的厚度為2000?4000人，可以實(shí)現(xiàn)在遮擋紫外光的同時(shí)，避免形成的紫外線(xiàn)固化掩膜 板的厚度過(guò)大，占用空間過(guò)大。同時(shí)，可以節(jié)省成本。
[0055] 具體的，現(xiàn)有技術(shù)方案中的封框膠固化使用的紫外線(xiàn)固化掩膜板需要襯底基板、 保護(hù)層和掩膜層，而本發(fā)明實(shí)施例中提供的紫外線(xiàn)固化掩膜板只需要襯底基板和掩膜層就 可以；相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明中的紫外線(xiàn)固化掩膜板不需要額外的制作保護(hù)層，當(dāng)然制作 工藝也大大簡(jiǎn)化，極大的節(jié)省了成本，減少了形成紫外線(xiàn)掩固化膜板的工藝復(fù)雜度。
[0056] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的紫外線(xiàn)固化掩膜板，通過(guò)采用一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上 形成掩膜層圖形，同時(shí)形成的紫外線(xiàn)固化掩膜板中只有襯底基板和掩膜層，且掩膜層的材 料為具有阻擋紫外光作用的材料，這樣，在制作該紫外線(xiàn)固化掩膜板時(shí)只需要進(jìn)行一次成 膜、曝光和刻蝕工藝即可，解決了現(xiàn)有的封框膠固化工藝中使用的紫外線(xiàn)掩膜板的制作需 要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問(wèn)題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜 度。進(jìn)而，可以節(jié)省時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
[0057] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種紫外線(xiàn)固化掩膜板的制作方法，該方法應(yīng)用于封框膠固 化工藝中，參照?qǐng)D5所示，本實(shí)施例中以待固化膜層為待固化封框膠為例進(jìn)行說(shuō)明，該方法 包括以下步驟：
[0058] 101、提供一襯底基板。
[0059] 其中，襯底基板可以是玻璃基板或石英基板、塑料基板等透明基板。
[0060] 102、通過(guò)一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成掩膜層的圖形。
[0061] 其中，掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0062] 所謂"構(gòu)圖工藝"是將薄膜形成包含至少一個(gè)圖案的層的工藝；而構(gòu)圖工藝通常包 含：在薄膜上形成薄膜材料、涂光刻膠，利用掩膜板對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光，再利用顯影液將需 去除的光刻膠去除掉，再刻蝕掉未覆蓋光刻膠的薄膜部分，最后將剩下的光刻膠剝離。而在 本發(fā)明所有實(shí)施例中，"一次構(gòu)圖工藝"是指該構(gòu)圖工藝過(guò)程中所包含的掩膜和曝光過(guò)程只 有一次。
[0063] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種紫外線(xiàn)固化掩膜板的制作方法，該方法應(yīng)用于封框膠固 化工藝中具體的，參照?qǐng)D6和圖7中所示，步驟102通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成掩膜層的圖形具 體可以該方法包括以下步驟：
[0064] 102a、在襯底基板上形成掩膜層材料薄膜。
[0065] 具體的，可以采用磁控濺射的方法在襯底基板例如玻璃基板上沉積一層厚度在 2000人至4000人的掩膜層材料薄膜，其中掩膜層材料薄膜可以是金屬材料；該金屬材料 通?？梢圆捎勉f、鋁、銅、鎢等金屬。
[0066] 102b、通過(guò)一次構(gòu)圖工藝處理掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖形。
[0067] 其中，第一掩膜層圖形為掩膜層上具有與待固化的封框膠的面板上的對(duì)位標(biāo)識(shí)和 選擇標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的圖形。
[0068] 具體的，在掩膜層材料薄膜上涂覆光刻膠之后用普通的掩膜板經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻 蝕形成第一掩膜層圖形。
[0069] 其中，參照?qǐng)D7所示，步驟102b通過(guò)一次構(gòu)圖工藝處理掩膜層材料薄膜，形成為第 一掩膜層圖形具體可以包括以下步驟：
[0070] 102bl、在形成有掩膜層材料薄膜的基板上，涂布光刻膠。
[0071] 優(yōu)選采用采用磁控濺射的方法在襯底基板上形成掩膜層材料薄膜，之后在掩膜層 材料薄膜上面涂覆一層光刻膠。如圖8所示，在掩膜層材料薄膜21上面涂布有一層光刻膠 22〇
[0072] 102b2、利用掩膜板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，再對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，顯影 后形成光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域。
[0073] 其中，光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)的區(qū)域，其他區(qū)域?yàn)楣饪棠z 完全去除區(qū)域。
[0074] 其中，掩膜板包括：全透光部分和不透光部分，全透光部分對(duì)應(yīng)全透光區(qū)域，不透 光部分對(duì)應(yīng)不透光區(qū)域。
[0075] 具體的，如圖9中所示，光刻膠完全保留區(qū)域如圖9中所示的A區(qū)域；光刻膠完全 保留部分的厚度應(yīng)盡量均勻，且為光刻膠涂覆完成的初始厚度，其他區(qū)域的光刻膠完全被 去除。
[0076] 102b3、去除位于光刻膠完全去除區(qū)域的掩膜層材料薄膜。
[0077] 具體的，可以是利用刻蝕液將掩膜層材料薄膜21未覆蓋光刻膠的區(qū)域刻蝕掉，將 掩膜層材料薄膜形成為第一掩膜層圖形。
[0078] 102c、處理第一掩膜層圖形，形成與待固化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖 形。
[0079] 其中，如圖7中所示，102c處理第一掩膜層圖形，形成與待固化的封框膠未覆蓋區(qū) 域?qū)?yīng)的掩膜層