一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯示技術鄰域，尤其涉及一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示 裝置。
【背景技術】
[0002] 在薄膜晶體管液晶顯不面板（ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay， 簡稱TFT-LCD)的成盒工藝中，為防止陣列基板和彩膜基板之間的液晶流出，需要在陣列基 板和彩膜基板的四周邊緣處涂覆封框膠，從而形成液晶盒，達到液晶導光和顯示的目的。這 樣就要求液晶面板四周的封框膠在最短時間內固化，以防液晶受到未固化封框膠的污染， 影響產品品質。現有的封框膠固化包括紫外固化和熱固化，在封紫外固化中需要采用紫外 光進行選擇性地照射。一般都是專門制作一張對應相應產品的紫外線掩膜板UVmask實現 封框膠的固化，但是設計一張UVmask需要較長的時間而且成本也較高。
[0003] 為了節省生產時間，降低成本，現有技術中多采用如下方法來形成封框膠固化使 用的掩膜板：先使用具有遮擋紫外線的掩膜板對基板進行拼接曝光和刻蝕工藝，形成與紫 外線對位標識對應的掩膜層；然后在基板上沉積保護層保護該掩膜層；之后沉積金屬薄 膜，采用特定曝光設備進行曝光形成與封框膠膜層中需要固化的區域對應的紫外線掩膜圖 形，并刻蝕得到對應的紫外線掩膜圖案。但是，現有技術中形成掩膜板的這種方法需要多次 成膜、曝光和刻蝕工藝，流程較為復雜，而且，形成的掩膜板中具有多層膜層，使用的生產材 料也較多，相應的成本也較高。
【發明內容】
[0004] 本發明的實施例提供一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置，解決了現 有的封框膠固化時需要的紫外線掩膜板的制作需要進行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問 題，降低了生產成本，減少了工藝流程，降低了復雜度。
[0005] 為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：
[0006] 第一方面，提供一種紫外線固化掩膜板，所述紫外線固化掩膜板包括襯底基板，待 固化膜層的面板上具有對位標識和選擇標識，所述紫外線固化掩膜板還包括：掩膜層，其 中：
[0007] 所述掩膜層設置在所述襯底基板上，且與所述對位標識、選擇標識和所述待固化 膜層未覆蓋區域對應的位置；
[0008] 所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0009] 可選的，所述掩膜層的材料包括金屬材料。
[0010] 可選的，所述金屬材料包括：鉬、鋁、銅、鎢中的至少一種。
[0011] 可選的，所述掩膜層的厚度為2000?4000人。
[0012] 第二方面，提供一種紫外線固化掩膜板的制作方法，所述方法包括：
[0013]提供一襯底基板；
[0014] 通過一次構圖工藝在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形；
[0015] 其中，所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0016] 可選的，待固化膜層的面板上具有對位標識和選擇標識，所述通過一次構圖工藝 在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形，包括：
[0017] 在所述襯底基板上形成掩膜層材料薄膜；
[0018] 通過一次構圖工藝處理所述掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖形；其中，所述 第一掩膜層圖形為所述掩膜層上具有與所述對位標識和所述選擇標識對應的圖形；
[0019] 處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區域對應的掩膜層圖 形。
[0020] 可選的，所述通過一次構圖工藝處理所述掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖 形，包括：
[0021] 在形成有掩膜層材料薄膜的基板上，涂布光刻膠；
[0022] 利用掩膜板對所述光刻膠進行曝光，再對曝光后的光刻膠進行顯影，顯影后形成 光刻膠完全保留區域和光刻膠完全去除區域；其中，所述光刻膠完全保留區域對應所述對 位標識和選擇標識的區域，其他區域為光刻膠完全去除區域；
[0023] 去除位于光刻膠完全去除區域的掩膜層材料薄膜。
[0024] 可選的，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區域對應 的掩膜層圖形，包括：
[0025] 利用激光掃描設備，通過激光掃描工藝處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待 固化膜層膠未覆蓋區域對應的掩膜層圖形。
[0026] 可選的，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區域對應 的掩膜層圖形，包括：
[0027] 利用掩膜板處理所述第一掩膜層圖形，形成紫外圖形制作區；
[0028] 利用激光掃描設備，通過激光掃描工藝處理所述紫外圖形制作區，形成與所述待 固化膜層未覆蓋區域對應的掩膜層圖形。
[0029] 第三方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置中的待固化膜層采用第一方面所述 的任一紫外線固化掩膜板進行固化。
[0030] 本發明的實施例提供的紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置，通過采用一 次構圖工藝在襯底基板上形成掩膜層圖形，同時形成的紫外線固化掩膜板中只有襯底基板 和掩膜層，且掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料，這樣，在制作該紫外線固化掩膜 板時只需要進行一次成膜、曝光和刻蝕工藝即可，解決了現有的封框膠固化工藝中使用的 紫外線掩膜板的制作需要進行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問題，降低了生產成本，減少了 工藝流程，降低了復雜度。
【附圖說明】
[0031] 為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現 有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以 根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0032]圖1為本發明的實施例提供的一種紫外線固化掩膜板的結構示意圖；
[0033] 圖2為本發明的實施例提供的另一種紫外線固化掩膜板的結構示意圖；
[0034] 圖3為本發明的實施例提供的又一種紫外線固化掩膜板的俯視結構示意圖；
[0035] 圖4為本發明的另一實施例提供的一種紫外線固化掩膜板的俯視結構示意圖；
[0036]圖5為本發明的實施例提供的一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意圖；
[0037]圖6為本發明的實施例提供的另一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意 圖；
[0038] 圖7為本發明的實施例提供的又一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意 圖；
[0039]圖8為制作圖1所示紫外線固化掩膜板的過程中，在掩膜層層材料薄膜上涂一層 光刻膠后的示意圖；
[0040] 圖9為制作圖1所示陣列基板的過程中，對圖8中的光刻膠進行顯影后的示意圖。
[0041] 附圖標記：1-襯底基板；2-掩膜層；3-掩膜層中與對位標識對應的區域；4-掩 膜層中與選擇標識對應的區域；5-掩膜層中與待固化的封框膠未覆蓋區域對應的區域； 21-掩膜層材料薄膜；22-光刻膠。
【具體實施方式】
[0042] 下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施