阻氣膜疊層體、其制造方法、以及電子設備的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及具有至少2片阻氣膜隔著粘合劑層進行層疊的疊層結構且阻氣性優 異的阻氣膜疊層體、其制造方法、以及具備前述阻氣膜疊層體的電子設備。
【背景技術】
[0002] 近年來，作為太陽能電池、液晶顯示器、電致發光（EU顯示器等電子設備用的基 板，為了實現薄型化、輕量化、柔韌化、耐沖擊性等而研究了使用透明塑料膜來代替玻璃板。
[0003] 例如，專利文獻1中公開了如下透明膜，其在第一透明塑料膜基材上形成透明阻 氣層，前述透明阻氣層上隔著透明粘合劑層而配置有第二透明塑料膜基材。另外，專利文獻 2中公開了使用丙烯酸系粘合劑使阻氣膜彼此貼合而成的透明阻氣疊層膜。
[0004] 然而，像這樣隔著粘合劑層使阻氣膜彼此貼合而成的疊層體在高溫和高濕度下長 時間放置時，有時在疊層體內生成氣泡。
[0005] 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本特開2006-327098號公報 專利文獻2 :W004/101276號公報。
【發明內容】
[0006] 發明要解決的課題 本發明是鑒于這種實際情況而進行的，其目的在于，提供具有高阻氣性且即使在高溫 和高濕度下長時間放置時疊層體內也難以生成氣泡等、難以發生外觀不良的阻氣膜疊層 體、該阻氣膜疊層體的制造方法、以及具備前述阻氣膜疊層體的電子設備。
[0007] 用于解決問題的手段 可以認為上述疊層體內生成氣泡的現象是由于將疊層體在高溫和高濕度下長時間放 置時從阻氣膜所使用的基材的側面、基材與粘合劑層的界面、或者阻氣層與基材的界面等 浸透的水分而引起的。疊層體內生成氣泡等時，會成為外觀不良的原因。
[0008] 本發明人等為了解決上述課題而針對使阻氣膜彼此隔著粘合劑層貼合而成的疊 層體進行了深入研究。其結果發現：如下阻氣膜疊層體具有高阻氣性且即使在高溫和高濕 度下長時間放置時，阻氣膜彼此也會確實地粘接?固定、疊層體內難以生成氣泡等、難以發 生外觀不良，所述阻氣膜疊層體為包含至少2片阻氣膜的阻氣膜疊層體，其是將相鄰2片阻 氣膜彼此隔著由能量射線固化型粘合劑組合物形成的粘合劑組合物層進行貼合后，對該粘 合劑組合物層照射能量射線，使前述粘合劑組合物層固化而得到的，從而完成了本發明。
[0009] 這樣根據本發明，提供（1)~ (9)的阻氣膜疊層體、（10)的阻氣膜疊層體的制造方 法、以及（11)的電子設備。
[0010] (1)阻氣膜疊層體，其為包含至少2片阻氣膜的阻氣膜疊層體，其特征在于，相鄰2 片阻氣膜隔著粘合劑層進行層疊， 前述粘合劑層是通過對使用能量射線固化型粘合劑組合物形成的粘合劑組合物層照 射能量射線使其固化而制作的。
[0011] (2)阻氣膜疊層體，其為包含至少2片阻氣膜的阻氣膜疊層體，其特征在于，其是 將相鄰2片阻氣膜隔著由能量射線固化型粘合劑組合物形成的粘合劑組合物層進行貼合 后，對該粘合劑組合物層照射能量射線，使前述粘合劑組合物層固化而得到的。
[0012] (3)根據（1)或（2)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述粘合劑層在60°C下的 儲能模量為IX107~1X109Pa。
[0013] (4)根據（1)或（2)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述能量射線固化型粘合 劑組合物為不具有能量射線固化性的聚合物與能量射線固化型化合物的混合物、或者以具 有能量射線固化性不飽和基團的聚合物作為主成分。
[0014] (5)根據（4)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述不具有能量射線固化性的聚 合物為（甲基）丙烯酸酯系共聚物，前述具有能量射線固化性不飽和基團的聚合物為側鏈具 有能量射線固化性不飽和基團的（甲基）丙烯酸酯共聚物。
[0015] (6)根據（5)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述（甲基）丙烯酸酯系共聚物為 含羧基的（甲基）丙烯酸酯系共聚物。
[0016] (7)根據（1)或（2)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述阻氣膜的水蒸氣透過 率在40°C、相對濕度90%的氣氛下為0. 5g/m2/day以下。
[0017] (8)根據（1)或（2)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，前述阻氣膜在包含合成樹 脂的基材膜上具有至少1層阻氣層。
[0018] (9)根據（8)所述的阻氣膜疊層體，其特征在于，以相鄰2片阻氣膜的至少一者的 基材側與所述粘合劑層接觸的方式進行層疊。
[0019] (10)阻氣膜疊層體的制造方法，其為（1)~ (9)中任一項所述的阻氣膜疊層體的 制造方法，其特征在于，其具備：將相鄰2片阻氣膜隔著由能量射線固化型粘合劑組合物形 成的粘合劑組合物層進行貼合后，對該粘合劑組合物層照射能量射線而使前述粘合劑組合 物層固化的工序。
[0020] (11)電子設備，其具備（1)~ (9)所述的阻氣膜疊層體。
[0021] 發明的效果 本發明的阻氣膜疊層體具有高阻氣性且即使在高溫和高濕度下長時間放置時，疊層體 內也難以生成氣泡等、難以發生外觀不良。
[0022] 根據本發明的阻氣膜疊層體的制造方法，能夠簡便且高效地制造本發明的阻氣膜 疊層體。
[0023] 本發明的阻氣膜疊層體可適合地用于太陽能電池、液晶顯示器、電致發光（EU顯 示器等電子設備。
【附圖說明】
[0024] 圖1為本發明的阻氣膜疊層體的層構成圖。
[0025] 圖2為使用本發明的阻氣膜疊層體的有機EL設備的示意圖。
[0026] 以下，將本發明分為1)阻氣膜疊層體、2)阻氣膜疊層體的制造方法、以及3)電子 設備并詳細說明。
[0027] 1)阻氣膜疊層體 本發明的阻氣膜疊層體為包含至少2片阻氣膜的阻氣膜疊層體，相鄰2片阻氣膜隔著 粘合劑層進行層疊，前述粘合劑層是通過對使用能量射線固化型粘合劑組合物形成的粘合 劑組合物層照射能量射線使其固化而制作的(疊層體A);或者是包含至少2片阻氣膜的阻 氣膜疊層體，其是將相鄰2片阻氣膜隔著由能量射線固化型粘合劑組合物形成的粘合劑組 合物層進行貼合后，對該粘合劑組合物層照射能量射線，使前述粘合劑組合物層固化而得 到的（疊層體B)。本發明中，疊層體A優選為疊層體B。
[0028] (阻氣膜） 本發明中使用的阻氣膜是具有抑制氧、水蒸氣透過的特性（以下稱為"阻氣性"）的膜。
[0029] 要使用的阻氣膜的水蒸氣透過率在40°C、相對濕度90%的氣氛下通常為I.Og/m2/ day以下，優選為0? 5g/m2/day以下，進一步優選為0?lg/m2/day以下。
[0030] 針對水蒸氣透過率的下限值沒有特別限定，越小越優選，但在40°C、相對濕度90% 的氣氛下通常為〇? 00001g/m2/day以上。
[0031] 通過使用這種阻氣膜，能夠得到阻氣性優異的阻氣膜疊層體。
[0032] 需要說明的是，水蒸氣透過率可以使用公知的透氣率測定裝置來測定。
[0033] 本發明中使用的阻氣膜的材質等、層構成沒有特別限定，由于阻氣性優異，因此優 選具有包含合成樹脂的基材膜（以下，有時簡稱為"基材膜"或"基材"。）和設置在該基材膜 上的至少1層阻氣層。
[0034] 阻氣膜的厚度沒有特別限定，通常為20nm~100ym、優選為30nm~1000nm。
[0035] (基材膜） 對構成基材膜的合成樹脂沒有特別限定。可列舉出例如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹 脂；聚苯乙烯等苯乙烯系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂；聚酰胺(尼龍6、尼龍66 等)、聚間苯二甲酰間苯二胺、聚對苯二甲酰對苯二胺等酰胺系樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇 酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯等聚酯系樹脂；降冰片烯系聚合 物、單環的環狀烯烴系聚合物、環狀共輒二烯系聚合物、乙烯基脂環式烴聚合物、以及它們 的氫化物等環烯烴系聚合物；氯乙烯；聚酰亞胺；聚酰胺酰亞胺；聚苯醚；聚醚酮；聚醚醚 酮；聚碳酸酯；聚砜、聚醚砜等聚砜系樹脂；聚苯硫醚；以及這些高分子中的兩種以上的組 合等。另外，基材可以是使上述合成樹脂中含有紫外線固化型物單體的紫外線固化型樹脂 組合物進行固化而成的固化膜，所述紫外線固化型物單體具有1個以上聚合性不飽和鍵。
[0036] 這些之中，由于透明性優異、具有通用性，因此優選為聚酯系樹脂、聚砜系樹脂、酰 胺系樹脂，更優選為聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚砜、聚醚砜、 聚酰胺。
[0037] 另外，要使用的基材膜可以是未拉伸膜，也可以是在縱向或橫向等單軸方向或雙 軸方向進行了拉伸的拉伸膜。
[0038] 要使用的基材膜可以在不損害本發明目的的范圍包含抗氧化劑、光穩定劑、增塑 劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、著色劑、填充劑、顏料、抗靜電劑等添加劑。另外，也可以包含能 量射線固化型化合物。
[0039] 基材膜的厚度沒有特別限定，通常為0. 1~1000ym、優選為5~200ym的范圍。
[0040] (阻氣層） 阻氣層是具有阻氣性的層。阻氣層可以是單層，也可以是多個層進行層疊而成的。
[0041] 作為形成阻氣層的材料，可列舉出例如鋁、鎂、鋅、錫等金屬；氧化硅、氧化鋁、氧 化鎂、氧化鋅、氧化銦、氧化錫等無機氧化物；氮化硅等無機氮化物；無機碳化物；無機硫化 物；它們的復合物即無機氧化氮化物；無機氧化碳化物；無機氮化碳化物；無機氧化氮化碳 化物；高分子化合物等。另外，阻氣層可以是對由含硅高分子化合物形成的層（以下有時稱 為"含硅高分子層"。）實施等離子體處理而形成的層、向含硅高分子層中注入離子而得到的 層。
[0042] 這些可以單獨使用一種，或者組合兩種以上使用。
[0043] 這些之中，從能夠獲得透明且水蒸氣透過率低的阻氣膜這一點出發，優選的是，以 無機氧化物、無機氮化物或金屬作為原料的無機蒸鍍膜；向含硅高分子層中注入離子而得 到的層，更優選為向含硅高分子層中注入離子而得到的層。
[0044] 作為形成阻氣層的方法，沒有特別限定，例如可列舉出如下方法：（i)利用蒸鍍 法、濺射法、離子鍍法、熱CVD法、等離子體CVD法等使上述材料蒸鍍在基材上等而形成的方 法；（ii)利用公知的涂布方法將上述材料溶解或分散在有機溶劑中而成的溶液涂布在基 材上，將所得涂膜適度干燥而形成的方法；（iii)對由含硅高分子化合物形成的層（以下有 時稱為"含硅高分子層"。）實施等離子體處理而形成的方法；以及（iv)向含硅高分子層中 注入離子而形成的方法等。這些之中，從能夠容易獲得透明且水蒸氣透過率低的阻氣膜這 一觀點，特別優選（iv)的方法。
[0045] 作為含硅高分子化合物，可以為有機化合物也可以為無機化合物。可列舉出例如 聚有機硅氧烷系化合物、聚碳硅烷系化合物、聚二甲基硅烷等聚硅烷系化合物；全氫聚硅氮 烷等聚硅氮烷系化合物等。
[0046] 另外，含硅高分子化合物也可以直接使用作為涂覆劑而市售的市售品。
[0047] 含硅高分子層中，除了上述含硅高分子化合物之外，可以在不損害本發明目的的 范圍含有其它成分。作為其它成分，可列舉出固化劑、防老劑、光穩定劑、阻燃劑等。
[0048] 由于能夠獲得具有更優異阻氣性的阻氣層，因此含硅高分子層中的含硅高分子化 合物的含量優選為50質量％以上、更優選為70質量％以上。
[0049] 含硅高分子層的厚度沒有特別限定，通常為20nm~10ym、優選為30~500nm、更優 選為 40~200nm。
[0050] 作為形成含硅高分子層的方法，沒有特別限定，可列舉出例如將含有至少一種含 硅高分子化合物和溶劑等的含硅高分子層形成用溶液利用旋涂機、刮刀涂布機、凹版涂布 機等公知的涂布方法涂布在基材上，將所得涂膜適度干燥而形成的方法。
[0051] 含硅高分子層形成用溶液可以在不損害本發明目的的范圍包含固化劑、其它高分 子、防老劑、光穩定劑、阻燃劑等其它成分。
[0052] 為了提高膜的阻氣性，所得涂膜優選進行加熱?干燥。作為加熱?干燥方法，可以 采用熱風干燥、熱