046]優選的，如圖3所示，所述第二預設時間為3?10分鐘。
[0047]優選的，如圖3所示，步驟S3，偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間T后的HDP腔室的壓力變化，包括:
[0048]偵測達到真空極限后的HDP腔室的壓力Pl;
[0049]關閉栗與HDP腔室之間的隔離門閥第二預設時間T后，再次偵測HDP腔室的壓力P2;
[0050]比較Pl和P2的壓力變化。從而計算HDP腔室漏率，達到自動有效監控腔室漏率的目的。
[0051]優選的，步驟S4，根據所述壓力變化計算HDP腔室漏率，包括通過如下計算HDP腔室漏率:
[0052]HDP 腔室漏率=(Ρ2_Ρ1)/Τ。
[0053]如圖3和4所示，根據本發明的另一面，還提供一種監控HDP腔室漏率的系統，包括:
[0054]清冼和凈化模塊I，用于對HDP腔室進行清冼和凈化；
[0055]抽氣模塊2，用于在凈化之后對HDP腔室進行抽氣，以使HDP腔室達到真空極限；
[0056]偵測模塊3，用于偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化；
[0057]計算模塊4，用于根據所述壓力變化計算HDP腔室漏率。本實施例通過優化清洗(clean)之后的凈化(purge)和pump (抽氣)過程，在凈化之后通過比較長時間栗抽和長時間密閉腔室，并偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化，計算腔室漏率，打破現有的單一手動漏率監測模式，實現自動漏率監控，及時發現問題，降低廣品風險。
[0058]優選的，所述抽氣模塊2，用于在凈化之后對HDP腔室進行第一預設時間的抽氣。
[0059]優選的，所述第一預設時間為2?10分鐘。
[0060]優選的，所述第二預設時間為3?10分鐘。
[0061]優選的，所述偵測模塊3，用于偵測達到真空極限后的HDP腔室的壓力Pl;關閉栗與HDP腔室之間的隔離門閥第二預設時間T后，再次偵測HDP腔室的壓力P2;及比較Pl和P2的壓力變化。
[0062]優選的，所述計算模塊4，用于通過如下計算HDP腔室漏率:
[0063]HDP 腔室漏率=(Ρ2_Ρ1)/Τ。
[0064]綜上所述，本發明通過優化清洗(CI ean)之后的凈化(purge)和pump (抽氣)過程，在凈化之后通過比較長時間栗抽和長時間密閉腔室，并偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化，計算腔室漏率，打破現有的單一手動漏率監測模式，實現自動漏率監控，及時發現問題，降低產品風險。
[0065]本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。
[0066]顯然，本領域的技術人員可以對發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包括這些改動和變型在內。
【主權項】
1.一種監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，包括: 對HDP腔室進行清冼和凈化； 在凈化之后對HDP腔室進行抽氣，以使HDP腔室達到真空極限； 偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化； 根據所述壓力變化計算HDP腔室漏率。2.如權利要求1所述的監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，在凈化之后對HDP腔室進行抽氣，以使HDP腔室達到真空極限，包括: 在凈化之后對HDP腔室進行第一預設時間的抽氣。3.如權利要求2所述的監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，所述第一預設時間為2?1分鐘。4.如權利要求1所述的監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，所述第二預設時間為3?1分鐘。5.如權利要求1至4任一項所述的監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化，包括: 偵測達到真空極限后的HDP腔室的壓力Pl; 關閉栗與HDP腔室之間的隔離門閥第二預設時間T后，再次偵測HDP腔室的壓力P2; 比較Pl和P2的壓力變化。6.如權利要求4所述的監控HDP腔室漏率的方法，其特征在于，根據所述壓力變化計算HDP腔室漏率，包括通過如下計算HDP腔室漏率: HDP 腔室漏率=(P2-P1)/T。7.一種監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，包括: 清冼和凈化模塊，用于對HDP腔室進行清冼和凈化； 抽氣模塊，用于在凈化之后對HDP腔室進行抽氣，以使HDP腔室達到真空極限； 偵測模塊，用于偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化； 計算模塊，用于根據所述壓力變化計算HDP腔室漏率。8.如權利要求7所述的監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，所述抽氣模塊，用于在凈化之后對HDP腔室進行第一預設時間的抽氣。9.如權利要求8所述的監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，所述第一預設時間為2?1分鐘。10.如權利要求7所述的監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，所述第二預設時間為3?1分鐘。11.如權利要求7至10任一項所述的監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，所述偵測模塊，用于偵測達到真空極限后的HDP腔室的壓力Pl;關閉栗與HDP腔室之間的隔離門閥第二預設時間T后，再次偵測HDP腔室的壓力Ρ2;及比較Pl和Ρ2的壓力變化。12.如權利要求4所述的監控HDP腔室漏率的系統，其特征在于，所述計算模塊，用于通過如下計算HDP腔室漏率: HDP 腔室漏率=(Ρ2-Ρ1)/Τ。
【專利摘要】本發明提供了一種監控HDP腔室漏率的方法及系統，通過優化清洗(clean)之后的凈化(purge)和抽氣(pump)過程，在凈化之后通過比較長時間泵抽和長時間密閉腔室，并偵測達到真空極限后的HDP腔室和第二預設時間后的HDP腔室的壓力變化，計算腔室漏率，打破現有的單一手動漏率監測模式，實現自動漏率監控，及時發現問題，降低產品風險。
【IPC分類】H01L21/66
【公開號】CN105632963
【申請號】CN201610140059
【發明人】侯多源, 吳以贏, 王科, 韓曉剛, 陳建維
【申請人】上海華力微電子有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2016年3月11日