1.一種水分解反應用催化電極，該催化電極是CoaZnbC3NO微粒生長于金屬基底上，其中a和b分別表示Co原子和Zn原子的含量，a的范圍是0.5～1，b的范圍是0.01～0.1；CoaZnbC3NO微粒的尺寸為1～50μm；該催化電極應用于水分解反應制備氫氣和氧氣的過程，其產氫的過電位為-68mV vs RHE，產氧的過電位為320mV vs RHE。
2.一種制備權利要求1所述的水分解反應用催化電極的方法是，具體步驟如下：
A.先在金屬基底上生長含鈷類水滑石納米膜，該納米膜是含鈷類水滑石納米片垂直生長在基底上形成膜，其中單個納米片的厚度為20～80納米、寬度為200～500納米；納米膜的厚度為400納米～1微米。
B.將可溶性鈷鹽溶于甲醇中配成0.01-0.1mol/L的鈷鹽溶液；將2-甲基咪唑溶于甲醇中配成0.1-1mol/L濃度的甲醇溶液；再將這兩種溶液混合劇烈攪拌1～20min制備混合溶液；其中鈷鹽與2-甲基咪唑的摩爾比為1～10:1，鈷鹽的摩爾濃度為1～10mmol/L；
C.將步驟A所述的含鈷類水滑石納米膜垂直放入步驟B的混合溶液中，靜置10～20小時后取出，用去離子水清洗3-6次，在60～80℃下干燥0.5～3小時，得到復合納米膜；復合納米膜是金屬有機骨架化合物C24H30Co3N12O2的納米顆粒嵌于類水滑石納米片網狀結構之間或納米膜之上，其中C24H30Co3N12O2顆粒大小為100～300nm；
D.將步驟C得到的復合納米膜在惰性氣氛下以2～10℃每分鐘的升溫速率升至500℃～600℃，碳化0.5～6小時，得到碳化復合納米膜；所述的惰性氣氛是氮氣或氬氣氣氛：
E.將步驟D得到的碳化復合納米膜置于0.05～0.5mol/L的酸溶液中，浸泡1～10分鐘，用去離子水清洗3～6次，取出晾干，經酸處理后得到催化電極；所述酸溶液是鹽酸、硫酸中的一種。
3.根據權利要求2所述的水分解反應用催化電極的制備方法，其特征是步驟A所述的含鈷類水滑石的化學式是：MxCoy(OH)z(A)·nH2O或CouFev(OH)w(A)·nH2O，其中M代表鋅、鎳、鐵、錳離子，x:y表示M與鈷離子的摩爾比為1～4:1，u:v表示鈷離子與鐵離子的摩爾比為1～4:1，n表示結晶水數目，n＝5～15，A代表陰離子，是硫酸根、碳酸根或硝酸根中的一種或兩種；所述金屬基底是泡沫鎳、鎳片、鎳鉻合金片，其厚度為0.03mm～0.15mm，面積為1～100cm2。
4.根據權利要求2所述的水分解反應用催化電極的制備方法，其特征是步驟B所述的可溶性鈷鹽為Co(NO3)2·6H2O或CoSO4·7H2O。