中加熱罐I是做周期性旋轉運動，每個周期中順時針旋轉一周，然后逆時針旋轉一周，這比讓加熱罐I持續旋轉的效果更好，因為高分子化合物在加熱罐I中的運動更加無序。吸收罐3通過第一氣管與加熱罐I連通，抽氣泵4通過第二氣管與吸收罐3連通，抽氣泵4將加熱罐I抽真空，促進低揮發物揮發，而且將低揮發物進一步吸入吸收罐3中，由氧化鋁、活性炭和分子篩三次吸收，除去低揮發物。本發明還設有一個控制器來控制整個裝置的邏輯，并發現當加熱罐I每分鐘旋轉30-60個周期時，能夠很徹底地去除高分子化合物中的低揮發物，而耗費較少的能量。
[0031]在另一種實例中，如圖1所示，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，所述環狀電熱片12的個數為五個，所述環狀電熱片12的寬度為所述加熱罐I長度的1/30到1/20。這里提供了環狀電熱片12的的一種優選的寬度，在該寬度下，能夠使高分子化合物均勻加熱，而且耗費的能量較低。
[0032]在另一種實例中，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，所述第一通孔11為圓形孔，且與所述加熱罐I同軸，所述第一氣管與所述第一通孔11軸承連接。這里提供了第一氣管與第一通孔11的一種連接方式，通過軸承連接避免第一氣管扭曲。
[0033]在另一種實例中，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，所述第一濾板32上的濾孔為三角形孔，所述第二濾板33上的濾孔為正方形孔，所述第三濾板34上的濾孔為圓形孔，所述第四濾板35上的濾孔為細縫狀孔，且所述第一濾板32、第二濾板33、第三濾板34和第四濾板35上濾孔的位置相互對應。這里提供了第一濾板32、第二濾板33、第三濾板34和第四濾板35上濾孔的一種優選的結構，這使穿過濾孔的氣流能夠不斷變換形態，從而使氣流中的低揮發物被充分吸收。
[0034]在另一種實例中，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，還包括:
[0035]溫度傳感器，用于檢測所述加熱罐I的內壁的溫度，所述溫度傳感器還與所述控制器連接，所述控制器根據所述溫度傳感器檢測的所述加熱罐I的內壁的溫度使所述加熱罐I在第一工作狀態、第二工作狀態和第三工作狀態間切換；
[0036]所述控制器設置為:當所述加熱罐I的內壁的溫度為45°C時，所述加熱罐I處于第一工作狀態，所述加熱罐I每分鐘運動30個周期；當所述加熱罐I的內壁的溫度為60°C時，所述加熱罐I處于第二工作狀態，所述加熱罐I每分鐘運動45個周期；當所述加熱罐I的內壁的溫度為75°C時，所述加熱罐I處于第三工作狀態，所述加熱罐I每分鐘運動60個周期。這里提供了選擇加熱罐I運動周期的一種優選方式，主要根據加熱罐I內壁的溫度來調節加熱罐I的運動周期，三種溫度分別對應一種工作狀態，特定的溫度和特定工作狀態結合使用，使低揮發物揮發的效果最好。而且溫度越高，使加熱罐I每分鐘的運動周期越高，通過高速翻攪避免對高分子化合物的局部過度加熱，而使高分子化合物斷鏈。
[0037]在另一種實例中，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，所述加熱罐I的內壁沿所述加熱罐I的軸線方向設有多個凸棱，且所述多個凸棱在所述加熱罐I的內壁均勻分布。凸棱一方面可以加大加熱罐I內壁的面積，使高分子化合物能夠充分被加熱，另一方面增大高分子化合物間的間隙，促進低揮發物揮發。
[0038]在另一種實例中，所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，所述加熱罐I的外壁設有隔熱層。隔熱層可以是隔熱漆或隔熱涂料等，起到保溫作用，減少能量散失，減少能耗。
[0039]盡管本發明的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用。它完全可以被適用于各種適合本發明的領域。對于熟悉本領域的人員而言，可容易地實現另外的修改。因此在不背離權利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本發明并不限于特定的細節和這里示出與描述的圖例。
【主權項】
1.一種滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，包括: 加熱罐，其為中空圓柱狀結構，用于盛放高分子化合物，所述加熱罐的外表面沿圓周向間隔設置有第一嚙合齒和第二嚙合齒，所述加熱罐的罐壁中沿圓周向嵌設有多個環狀電熱片，所述多個環狀電熱片平行間隔設置，所述多個環狀電熱片均連接至電源，所述加熱罐一端設有第一通孔； 支架，其上部平行間隔設置有第一轉軸和第二轉軸，所述第一轉軸上固設有第一齒輪和第二齒輪、所述第二轉軸上固設有第三齒輪和第四齒輪，所述第一齒輪的位置與所述第三齒輪的位置對應，所述第二齒輪的位置與所述第四齒輪的位置對應，且所述加熱罐置于所述支架上時所述第一齒輪和所述第三齒輪同時與所述第一嚙合齒嚙合，所述第二齒輪和所述第四齒輪同時與所述第二嚙合齒嚙合，所述第一轉軸還與一馬達動力連接，所述第一轉軸旋轉帶動所述加熱罐繞軸線作周期性旋轉運動，在每個周期中，所述加熱罐順時針旋轉360°，然后逆時針旋轉360° ； 吸收罐，其兩側分別設置有第二通孔和第三通孔，所述第二通孔通過第一氣管與所述第一通孔連通，所述第三通孔通過第二氣管與抽氣泵連通，所述吸收罐內部由所述第二通孔至所述第三通孔依次設置有第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板，所述第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板平行設置，且表面均開設有多個濾孔，所述第一濾板與所述第二濾板間填塞有氧化鋁，所述第二濾板與所述第三濾板間填塞活性炭，所述第三濾板與所述第四濾板之間填塞有分子篩； 控制器，其與所述馬達連接，以控制所述加熱罐每分鐘旋轉30-60個周期。2.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，所述環狀電熱片的個數為五個，所述環狀電熱片的寬度為所述加熱罐長度的1/30到1/20。3.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，所述第一通孔為圓形孔，且與所述加熱罐同軸，所述第一氣管與所述第一通孔軸承連接。4.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，所述第一濾板上的濾孔為三角形孔，所述第二濾板上的濾孔為正方形孔，所述第三濾板上的濾孔為圓形孔，所述第四濾板上的濾孔為細縫狀孔，且所述第一濾板、第二濾板、第三濾板和第四濾板上濾孔的位置相互對應。5.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，還包括: 溫度傳感器，用于檢測所述加熱罐的內壁的溫度，所述溫度傳感器還與所述控制器連接，所述控制器根據所述溫度傳感器檢測的所述加熱罐的內壁的溫度使所述加熱罐在第一工作狀態、第二工作狀態和第三工作狀態間切換； 所述控制器設置為:當所述加熱罐的內壁的溫度為45°C時，所述加熱罐處于第一工作狀態，所述加熱罐每分鐘運動30個周期；當所述加熱罐的內壁的溫度為60°C時，所述加熱罐處于第二工作狀態，所述加熱罐每分鐘運動45個周期；當所述加熱罐的內壁的溫度為75°C時，所述加熱罐處于第三工作狀態，所述加熱罐每分鐘運動60個周期。6.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，所述加熱罐的內壁沿所述加熱罐的軸線方向設有多個凸棱，且所述多個凸棱在所述加熱罐的內壁均勻分布。7.如權利要求1所述的滾筒式高分子化合物處理裝置，其特征在于，所述加熱罐的外壁設有隔熱層。
【專利摘要】本發明公開了一種滾筒式高分子化合物處理裝置，包括：加熱罐，其為中空圓柱狀結構，加熱罐的外表面沿圓周向間隔設置有第一嚙合齒和第二嚙合齒，加熱罐的罐壁中沿圓周向嵌設有多個環狀電熱片；支架，其上部平行間隔設置有第一轉軸和第二轉軸，第一轉軸上固設有第一齒輪和第二齒輪、第二轉軸上固設有第三齒輪和第四齒輪，加熱罐置于支架上時第一齒輪和第三齒輪同時與第一嚙合齒嚙合，第二齒輪和第四齒輪同時與第二嚙合齒嚙合，第一轉軸旋轉帶動加熱罐繞軸線作周期性旋轉運動；吸收罐；控制器。本發明對高分子化合物的加熱均勻，消耗的能量少，高分子化合物中低揮發物揮發徹底。
【IPC分類】B01D1/30, B01J3/00, B01D53/04, B01D1/00, B01J6/00
【公開號】CN104984556
【申請號】CN201510413207
【發明人】楊曉明, 冼致欣, 施存貴
【申請人】啟仲化工（廣西）有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請日】2015年7月15日