[0102]像素限定膜(Pixel define layer ;PDL) 324可以被形成在所述平坦化膜323上以覆蓋有機發光元件0LED的第一電極325的邊緣位置。所述像素限定膜324通過圍繞所述第一電極325的邊緣位置來限定各個子像素的發光區域。
[0103]所述像素限定膜324由有機物或無機物形成。
[0104]例如，所述像素限定膜324可以由諸如聚酰亞胺、聚酰胺、苯并環丁烯、丙烯酸樹月旨、酚醛樹脂等的有機物形成、或者由如SiNx的無機物形成。所述像素限定膜324可以形成為單層膜，或者可以形成為多層膜。
[0105]中間層326可以被形成在通過蝕刻所述像素限定膜324的一部分而暴露的所述第一電極325的區域中。所述中間層326可以通過沉積工藝形成。
[0106]所述中間層326可以由低分子有機物或高分子有機物構成。
[0107]所述中間層326可以包括有機發光層(Emissive layer ;EML)。作為可選的示例，除了包括有機發光層以外，所述中間層326還可以包括空穴注入層(Hole inject1nlayer ；HIL)、空穴傳輸層(Hole transport layer ；HTL)、電子傳輸層(Electron transportlayer ;ETL)、電子注入層(Electron inject1n layer ；EIL)中的任一個。本實施方式并不限于此，所述中間層326包括有機發光層，并且還可以包括其他多種功能層。
[0108]第二電極327可以被形成在所述中間層326上。所述第二電極327對應于公共電極。與第一電極325相似，所述第二電極327可以形成為透明電極或反射電極。
[0109]當所述第一電極325形成為透明電極或反射電極時，其可以形成為與各個子像素的開口對應的形態。相反，所述第二電極327可以將透明電極或反射電極整面地沉積在顯示部上。可選地，所述第二電極327也可以用特定圖案形成以替代整面沉積。應明確，所述第一電極325和所述第二電極327也可以位置倒置并層疊。
[0110]另外，所述第一電極325與所述第二電極327通過中間層326彼此絕緣。當向所述第一電極325和所述第二電極327施加電壓時，所述中間層326中發出可見光來實現用戶可識別的圖像。
[0111]封裝部(Encapsulat1n) 340可以被形成在有機發光元件0LED的上部。所述封裝部340是為了保護中間層326和其他薄膜免受外部水分或氧氣等的影響而形成的。
[0112]所述封裝部340可以是至少各層疊有一個有機膜和無機膜的結構。
[0113]例如，所述封裝部340可以是層疊有諸如環氧樹脂、聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯，聚乙烯，聚丙烯酸酯等的至少一個有機膜341、342和諸如硅氧化物(Si02)、硅氮化物(SiNx)、鋁氧化物(A1203)、鈦氧化物(Ti02)、鋯氧化物(ZrOx)、鋅氧化物(ZnO)等的至少一個無機膜343、344、345的結構。
[0114]所述封裝部340可以是具有至少一個有機膜341、342和至少兩個無機膜343、344、345的結構。所述封裝部340中暴露到外部的最上層345可以由無機膜形成以防止水分滲進有機發光元件0LED。
[0115]如上所述，雖然參照附圖中所示的實施方式對本發明進行了說明，但是這僅僅是示例性的，本領域的普通技術人員應理解，能夠由此進行多種變型和實施方式的變型。因此，本發明真正的技術保護范圍應由所附權利要求書中的技術思想來定義。
[0116]符號的說明
[0117]100、200:掩模框架組件110、210:框架
[0118]120、220:掩模130、230:位置固定部
[0119]132、232:輪133、233:凸出部
[0120]133a:第一凸出部133b:第二凸出部
[0121]133c:第三凸出部140、240:支承件
[0122]145、245:鎖定槽150、250:焊接部
[0123]241:基體部242:彈性部
[0124]243:固定部件
【主權項】
1.一種掩模框架組件，包括: 框架，包括開口部和圍繞所述開口部的支承部； 掩模，在與所述開口部對應的位置包括沉積區域；以及 位置固定部，可旋轉地設置到所述支承部，并且與所述掩模連接。2.如權利要求1所述的掩模框架組件，還包括: 支承件，供所述位置固定部的至少一部分插入，并且接合到所述框架。3.如權利要求2所述的掩模框架組件，其中， 所述位置固定部包括多個凸出部，其中，所述多個凸出部中的一個凸出部與所述掩模接合，所述多個凸出部中的另一個凸出部插入到所述支承件的鎖定槽中。4.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述位置固定部包括: 軸，固定到所述支承部；以及 輪，具有多個凸出部，其中所述軸插入到所述輪中。5.如權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述凸出部以所述軸為中心形成為放射形。6.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述位置固定部沿著所述框架布置為多個。7.如權利要求2所述的掩模框架組件，其中，所述支承件能夠相對于所述框架進行上下運動。8.如權利要求7所述的掩模框架組件，其中，所述支承件包括: 基體部，形成有供所述位置固定部的至少一部分插入的鎖定槽； 彈性部，布置在所述基體部與所述框架之間；以及 固定部件，一部分插入到所述框架中，并且貫穿所述基體部和所述彈性部。9.如權利要求8所述的掩模框架組件，其中，所述彈性部在其壓縮方向的相反方向上形成排斥力。10.如權利要求3所述的掩模框架組件，其中，如果調節所述鎖定槽的高度，則所述位置固定部進行旋轉以調節所述掩模的張力。11.一種掩模框架組件，包括: 框架，包括開口部和圍繞所述開口部的支承部； 掩模，在與所述開口部對應的位置包括沉積區域； 位置固定部，可旋轉地設置到所述框架，并且與所述掩模接合；以及 支承件，與所述框架接合，并且通過相對于所述框架上下運動來旋轉所述位置固定部。12.如權利要求11所述的掩模框架組件，其中， 所述位置固定部包括多個凸出部， 所述多個凸出部中的一個凸出部與所述掩模接合，所述多個凸出部中的另一個凸出部插入到所述支承件中。13.如權利要求11所述的掩模框架組件，其中，所述支承件包括: 基體部，形成有供所述位置固定部的一部分插入的鎖定槽； 彈性部，布置在所述基體部與所述框架之間；以及 固定部件，一部分插入到所述框架中，并且貫穿所述基體部和所述彈性部。14.如權利要求13所述的掩模框架組件，其中，如果調節所述鎖定槽的高度，則所述位置固定部進行旋轉以調節所述掩模的張力。15.如權利要求13所述的掩模框架組件，其中，所述彈性部在其壓縮方向的相反方向上形成排斥力。16.如權利要求11所述的掩模框架組件，其中，所述支承件在所述框架的外側布置成與所述位置固定部對應。17.—種掩模框架組件制造方法，包括: 將包括多個凸出部的位置固定部設置在框架的凹槽中的步驟； 將所述位置固定部的所述多個凸出部中的第一凸出部與掩模的邊緣部焊接并接合的步驟；以及 將所述多個凸出部中的、不同于所述第一凸出部的第二凸出部插入到支承件的鎖定槽中以固定所述位置固定部的步驟。18.如權利要求17所述的掩模框架組件制造方法，還包括: 為了替換所述掩模，將與所述第一凸出部相鄰的第三凸出部與替換的掩模的邊緣部接合并且將與所述第二凸出部相鄰的第四凸出部插入到所述鎖定槽中以固定所述位置固定部的步驟。19.如權利要求17所述的掩模框架組件制造方法，還包括: 使所述支承件相對于所述框架上下運動來旋轉所述位置固定部以調節所述掩模的張力的步驟。
【專利摘要】本發明公開了掩模框架組件及其制造方法。本發明包括具有開口部和圍繞所述開口部的支承部的框架、在與所述開口部對應的位置包括沉積區域的掩模以及可旋轉地設置到所述支承部并且與所述掩模連接的位置固定部。
【IPC分類】C23C16/04, H01L51/56, C23C14/04
【公開號】CN105401123
【申請號】CN201510072580
【發明人】韓政洹
【申請人】三星顯示有限公司
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2015年2月11日