技術(shù)特征：
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法和顯示面板的制作方法。消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法包括：直立旋轉(zhuǎn)殘留有光刻膠的基板，通過清洗液沖洗基板來去除基板上殘留的光刻膠。本發(fā)明提供的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，沖洗過程中，基板進行直立旋轉(zhuǎn)，以通過重力及沖洗力的作用下使得殘留的光刻膠完全的被沖洗掉，沖洗后的基板上的曝光區(qū)域不存在殘留的光刻膠，確保了后續(xù)蝕刻工藝的正常進行，進而確保了后續(xù)制成的薄膜晶體管的性能，并且不會影響產(chǎn)量、關(guān)鍵尺寸和電學性能。
技術(shù)研發(fā)人員：董立文;谷豐
受保護的技術(shù)使用者：京東方科技集團股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.26
技術(shù)公布日：2017.08.18