消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法和顯示面板的制作方法與流程

本文涉及但不限于液晶顯示技術，尤指一種消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法和一種顯示面板的制作方法。

背景技術：

顯影后基板上某些特殊的設計結構(如閉環、小孔等)內存在光刻膠殘留(因閉環縫隙寬度或小孔口徑太小而導致光刻膠不能在顯影時被清洗干凈而出現部分光刻膠殘留在閉環或小孔內的問題)，殘留的光刻膠會影響后續的刻蝕工藝(即：不能正常蝕刻，在蝕刻的過程中形成殘留和短路等問題)，最終影響tft薄膜晶體管性能，需要進行顯影清洗(目的是去除基板上閉環或小孔等結構內殘留的光刻膠)。

目前tft-lcd顯影清洗方式分為兩種：水平旋轉模式或水平噴淋模式(板面均水平布置)，但是這兩種顯影清洗方式對于基板上的那些特殊的設計結構(如閉環、小孔等)均不能很好地去除掉其內部殘留的光刻膠，而且隨著設計要求(如分辨率)的不斷提高，基板上線寬設計的越來越窄，水平旋轉和水平噴淋清洗方式也很難再將顯影后的玻璃清洗干凈，存在顯影后基板上曝光區域的光刻膠殘留的問題。

技術實現要素：

為了解決上述技術問題中的至少之一，本文提供了一種消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，將基板上殘留的光刻膠沖洗干凈，避免光刻膠在基板上殘留，而且不影響產量、關鍵尺寸和電學性能。

為了達到本文目的，本發明提供了一種消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，直立旋轉殘留有光刻膠的基板，通過清洗液沖洗所述基板來去除所述基板上殘留的光刻膠。

可選地，所述直立旋轉殘留有光刻膠的基板的步驟包括：垂直布置殘留有光刻膠的所述基板，再使所述基板進入顯影沖洗單元，然后再直立旋轉所述基板。

可選地，所述垂直布置殘留有光刻膠的所述基板，再使所述基板進入顯影沖洗單元的步驟包括：在卡盤上垂直固定殘留有光刻膠的所述基板，通過所述卡盤帶動所述基板進入所述顯影沖洗單元。

可選地，所述直立旋轉所述基板的步驟包括：通過電機帶動所述基板進行直立勻速旋轉。

可選地，所述通過清洗液沖洗所述基板來去除所述基板上殘留的光刻膠的步驟之后，還包括：在所述顯影沖洗單元內移出所述基板。

可選地，所述通過清洗液沖洗所述基板來去除所述基板上殘留的光刻膠的步驟包括：所述清洗液在所述基板的斜上方對所述基板進行噴淋沖洗，來去除所述基板上殘留的光刻膠。

可選地，所述清洗液在所述基板的斜上方對所述基板進行噴淋沖洗的步驟中，沖洗噴嘴傾斜布置于所述基板的斜上方，所述清洗液自所述沖洗噴嘴噴出而噴淋在所述基板上。

可選地，所述清洗液為去離子水。

可選地，所述基板為玻璃基板。

本發明還提供了一種顯示面板的制作方法，包括上述任一實施例所述的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法。

與現有技術相比，本發明提供的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，沖洗過程中，基板進行直立旋轉，以通過重力及沖洗力的作用下使得殘留的光刻膠完全的被沖洗掉，沖洗后的基板上的曝光區域不存在殘留的光刻膠，確保了后續蝕刻工藝的正常進行，進而確保了后續制成的薄膜晶體管的性能，并且不會影響產量、關鍵尺寸和電學性能。

本文的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本文而了解。本文的目的和其他優點可通過在說明書、權利要求書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。

附圖說明

附圖用來提供對本文技術方案的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本申請的實施例一起用于解釋本文的技術方案，并不構成對本文技術方案的限制。

圖1為本發明中所述的基板的主視結構示意圖；

圖2為本發明中清洗液沖洗基板的結構示意圖。

其中，圖1和圖2中附圖標記與部件名稱之間的對應關系為：

1基板，2沖洗噴嘴，3清洗液，4小孔。

具體實施方式

為使本文的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下文中將結合附圖對本文的實施例進行詳細說明。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互任意組合。

在下面的描述中闡述了很多具體細節以便于充分理解本文，但是，本文還可以采用其他不同于在此描述的方式來實施，因此，本文的保護范圍并不受下面公開的具體實施例的限制。

下面結合附圖描述本文一些實施例的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法和顯示面板的制作方法。

本發明提供的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，(正向或反向)直立旋轉殘留有光刻膠的基板1(如圖1所示，箭頭表示旋轉方向)，通過清洗液3沖洗所述基板1來去除所述基板1上殘留的光刻膠。

本發明提供的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，沖洗過程中，基板1進行直立旋轉，以通過重力及沖洗力的作用下使得殘留的光刻膠完全的被沖洗掉，沖洗后的基板1上(的曝光區域)不存在殘留的光刻膠，確保了后續蝕刻工藝的正常進行，進而確保了后續制成的薄膜晶體管的性能，并且不會影響產量、關鍵尺寸和電學性能。

進一步地，所述直立旋轉殘留有光刻膠的基板1的步驟包括：垂直布置殘留有光刻膠的所述基板1，再使所述基板1進入顯影沖洗單元(如勻速直線或變速直線進入顯影沖洗單元)，然后再直立旋轉(勻速或變速旋轉)所述基板1，基板1在顯影沖洗單元內進行沖洗。

其中，基板1在布置的過程中可以略與豎直方向傾斜，以滿足安裝誤差的要求，也可實現本申請的目的，其宗旨未脫離本發明的設計思想，在此不再贅述，也應屬于本申請的保護范圍內。

再進一步地，所述垂直布置殘留有光刻膠的所述基板1，再使所述基板1進入顯影沖洗單元的步驟包括：在卡盤上垂直固定殘留有光刻膠的所述基板1，通過所述卡盤帶動所述基板1進入所述顯影沖洗單元，以實現自動化。

其中，基板1可以是通過機械手垂直固定在卡盤上，也可以是通過作業者手動固定在卡盤上等的方式，均可實現本申請的目的，其宗旨未脫離本發明的設計思想，在此不再贅述，均應屬于本申請的保護范圍內。

再進一步地，所述直立旋轉所述基板1的步驟包括：通過電機帶動所述基板1進行直立勻速旋轉，對基板1進行均勻清洗，殘留的光刻膠可清洗的更干凈。

可以是卡盤固定在電機上，電機帶動卡盤和基板1一起旋轉等的方式，均可實現本申請的目的，在此不再贅述，也應屬于本發明的保護范圍內。

可選地，所述通過清洗液3沖洗所述基板1來去除所述基板1上殘留的光刻膠的步驟之后，還包括：在所述顯影沖洗單元內移出所述基板1，以使基板1進入后續的工序(如：蝕刻等)，實現連續化生產。

可選地，所述通過清洗液3沖洗所述基板1來去除所述基板1上殘留的光刻膠的步驟包括：所述清洗液3在所述基板1的斜上方對所述基板1進行噴淋沖洗(如圖2所示)，來去除所述基板1上殘留的光刻膠，同時還清除掉基板1上附著的灰塵等污物。

清洗液3在所述基板1的斜上方對基板1進行噴淋沖洗，使清洗液3與小孔4(如圖1所示)或閉環等結構進行切向清洗，以更好地沖洗出里面殘留的光刻膠，殘留的光刻膠清除的更干凈。

可選地，所述清洗液3在所述基板1的斜上方對所述基板1進行噴淋沖洗的步驟中，沖洗噴嘴2傾斜布置于所述基板1的斜上方(如圖2所示)，所述清洗液3自所述沖洗噴嘴2噴出而噴淋在所述基板1上。

當然，沖洗噴嘴2也可以傾斜不至于基板1的斜下方，或者對基板1進行垂直清洗，殘留的光刻膠的清除效果也較好，同樣能夠實現本申請的目的，其宗旨未脫離本發明的設計思想，在此不再贅述，均應屬于本申請的保護范圍內。

較好地，所述清洗液3為去離子水等，所述基板1為玻璃基板等，標號4為小孔。

本發明提供的顯示面板的制作方法，包括上述任一實施例所述的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法。

本發明提供的顯示面板的制作方法，包括上述任一實施例所述的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法的全部優點，在此不再贅述；而且蝕刻后的結構尺寸精度更高，后續制成的薄膜晶體管的性能更好

綜上所述，本發明提供的消除光刻工藝過程中顯影殘留的方法，沖洗過程中，基板進行直立旋轉，以通過重力及沖洗力的作用下使得殘留的光刻膠完全的被沖洗掉，沖洗后的基板上的曝光區域不存在殘留的光刻膠，確保了后續蝕刻工藝的正常進行，進而確保了后續制成的薄膜晶體管的性能，并且不會影響產量、關鍵尺寸和電學性能。

在本文的描述中，術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等均應做廣義理解，例如，“連接”可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本文中的具體含義。

在本說明書的描述中，術語“一個實施例”、“一些實施例”、“具體實施例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或特點包含于本文的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或實例。而且，描述的具體特征、結構、材料或特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。

雖然本文所揭露的實施方式如上，但所述的內容僅為便于理解本文而采用的實施方式，并非用以限定本文。任何本文所屬領域內的技術人員，在不脫離本文所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實施的形式及細節上進行任何的修改與變化，但本文的專利保護范圍，仍須以所附的權利要求書所界定的范圍為準。