技術特征：
技術總結
本發明的課題在于，提供一種光掩模相關基板所使用的基板清洗裝置以及基板清洗方法，所述基板清洗裝置在進行清洗處理時，可以防止異物附著在基板上。為了解決上述課題，本發明提供一種光掩模相關基板所使用的基板清洗裝置，具備：保持構件，其只保持基板的端面；旋轉機構，其使該保持構件旋轉；以及，噴嘴，其向所述基板的至少表面側供給液體，所述基板通過該旋轉機構而與所述保持構件一起旋轉；所述基板清洗裝置的特征在于，至少一個所述保持構件的表面具有導電性，該具有導電性的保持構件接地。
技術研發人員：沼波恒夫;稻月判臣;桜田豊久
受保護的技術使用者：信越化學工業株式會社
技術研發日：2016.10.20
技術公布日：2017.08.11