內的每個組件的位置具有客觀的靈活度，從而允許設備尺寸得以被最小化或者被限定為使得操作更為簡單。這在測量設備由消費者使用時是特別有利的。
[0031]還可以有利的是，配置并設置測量設備而使得在測量設備的操作期間，探測軸線和皮膚外表面所夾的角度處于45至90度的范圍之內。為了能夠在多個點進行測量，探測光束必須穿透皮膚到達處理位置的期望定位，從而大于45度的角度是優選的。多個探測位置的圖像可能受每個探測位置與皮膚外表面之間的距離和組織類型所影響。因此，優選對成像光學軸線進行部署而使得皮膚外表面和每個探測位置之間的距離盡可能相似。
[0032]可能甚至更為有利的是，配置并設置測量設備而使得檢測器軸線和探測軸線互相平行。這可以通過預先定義第二光學系統的透鏡平面以便于平行于探測軸線而實現。雖然光學檢測器陣列可以從該平行位置傾斜從而補償從透鏡平面的平行的任何偏離，但是平行檢測器軸線配置預期提供最簡單且最快速的測量系統。
[0033]可以有利的是，測量方法進一步包括:
[0034]-對由光學檢測器陣列所檢測的圖像進行處理以生成一個或多個控制參數；
[0035]-應用一個或多個控制參數以確定探測激光源和/或第一光學系統的操作參數。
[0036]這使得設備所測量的皮膚特性可能立即被用來改善或修改測量。例如，如果平均強度過低，則探測激光源的操作參數可以被調適從而提供更多能量。
[0037]本發明的目的還通過提供用于使用電磁處理輻射進行皮膚處理的非侵入式處理設備而實現，設備包括根據本發明的測量設備，并且處理設備進一步包括處理模塊，其中:
[0038]-處理模塊包括用于提供處理輻射束的處理輻射源以及束成形和導引組件，處理模塊被配置并設置為使得在使用中處理輻射束沿處理軸線離開設備并且撞擊在待被處理的皮膚的外表面上；束成形和導引組件被配置并設置為在使用中將輻射處理束導引至部署在探測區之內的處理位置。
[0039]本發明的目的還通過使用電磁處理輻射進行非侵入式皮膚處理的方法來實現，其包括根據本發明的測量方法，處理方法進一步包括:
[0040]-提供處理模塊，該處理模塊包括用于提供處理輻射束的處理輻射源以及束成形和導引組件；
[0041 ]-配置并設置處理模塊而使得在使用中處理輻射束沿處理軸線離開設備并且撞擊在待被處理的皮膚的外表面上；
[0042]-配置并設置束成形和導引組件以在使用中將處理輻射束導引至部署在探測區之內的處理位置。
[0043]通過將處理模塊包括到測量設備之中，提供了處理設備。探測軸線和處理軸線之間的角度可以被預先確定，因此使得處理位置能夠處于探測區內的期望位置。這提高了測量的可再現性，因為探測區和處理位置之間的位置差異受到了限制。
[0044]可以有利的是，根據本發明的處理方法進一步包括:
[0045]-對由光學檢測器陣列強度所檢測的圖像進行處理以生成一個或多個控制參數；
[0046]-應用一個或多個控制參數以確定處理輻射源和/或束成形和導引組件的操作參數。
[0047]由此，由設備所測量的皮膚特性可以立即被用來改善或修改處理。例如，如果皮膚特性指示并未檢測到膠原蛋白的存在，則可以改變處理位置的定位。
[0048]如果處理輻射為激光，則可以特別有利的是，以使得處理軸線與探測軸線相符的方式對如所描述的處理模塊進行配置和設置。這進一步改善了可再現性，原因在于處理位置更可能被部署在探測區之中。
【附圖說明】
[0049]圖1用圖解法示出了本領域已知的對皮膚進行處理的過程中的非侵入式輻射處理設備；
[0050]圖2示出了用于使用激光測量皮膚特性的非侵入式測量設備的第一實施例30，其包括探測模塊70和成像模塊50 ;
[0051]圖3描繪了適當的光學檢測器陣列的三個示例60、160、260 ;
[0052]圖4描繪了用于使用激光測量皮膚特性的非侵入式測量設備的第二實施例130，其包括探測模塊70、成像模塊50和處理模塊110 ;
[0053]圖5A和5B分別示意性地示出了第一實施例30和第二實施例130的不同組件之間的可能控制連接；和
[0054]圖6A至6D示意性圖示了分別針對第一 30和第二 130實施例、第三實施例230、第四實施例330和第五實施例430的探測軸線71、成像光學軸線51和皮膚外表面軸線11之間的相對角度。
[0055]應當注意的是，不同圖中具有相同附圖標記的項具有相同的結構特征和相同的功能，或者是相同的信號。當這樣的項的功能和/或結構已經進行過解釋時，就不必在【具體實施方式】中對其進行重復解釋。
【具體實施方式】
[0056]圖2圖示了本發明的第一實施例30。其描繪了用于使用激光進行皮膚特性的測量的非侵入式測量設備30。該測量設備包括具有固定的相對部署的探測模塊70和成像模塊50 ο
[0057]探測模塊包括激光源80和第一光學系統87，后者用于從源80接收激光并且將激光束82導引至測量設備30中的開孔。探測模塊70被配置并設置為使得在使用中，探測光束82沿探測軸線71離開設備30并且撞擊在處理的皮膚的外表面上。第一光學系統87被配置為且設置為在使用中將探測光束82導引至皮膚內的探測區95。
[0058]探測激光源80被選擇為提供穿透皮膚至充分深度的激光，其具有根據輻射處理期間皮膚的探測區95中所預期的預計生理改變的適當特性，并且方法被選擇以測量相關的皮膚特性。
[0059]設備30還可以包括光學耦合器12以優化針對處理位置90的能量遞送。可以使用諸如本領域已知的那些的任意適當光學耦合器12。
[0060]成像模塊50包括第二光學系統67和光學檢測器陣列60，光學檢測器陣列60沿第二光學系統67的成像平面中所包括的檢測器軸線61進行部署。第二光學系統67被配置并設置為使得在使用中在光學檢測器陣列60中所包括的多個光學檢測器上分別獲得沿探測區95內的探測軸線71進行分布的多個探測位置的圖像。由于設備30內的探測70和成像模塊50的固定相對部署，光學系統67的成像光學軸線51在探測區95內與探測軸線75相交。
[0061]如圖3中所描繪的，光學檢測器陣列60、160、260可以是個體光傳感器65的線性陣列一一換句話說，多個光傳感器沿縱向軸線以相距彼此的相等距離進行部署。典型地，光學檢測器陣列60、160、260所收集的光經由電路而被轉換為電信號，電路可以被構建到陣列基板之中。多個探測位置中的每一個都被成像到檢測器陣列上、被成像到一個或多個光學檢測器上。
[0062]由于成像模塊50對沿探測軸線71的多個探測位置進行成像，所以檢測器陣列60需要為矩形一一也就是說，陣列60的縱向軸線沿檢測器軸線61進行部署。換句話說，如果檢測器在使用期間包括沿檢測器軸線61延伸的方向上的Υ個光檢測元件65乘以沿垂直于檢測器軸線61的另一軸線延伸的方向上的X個光檢測元件65的矩陣，則Υ將大于X。Υ是檢測器陣列60的縱向軸線的方向。
[0063]在圖3中所描繪的第一示例60中，X為1且Υ為14。這使得其適于測量沿探測軸線71的14個探測位置。這例如可以是線性(XD檢測器。
[0064]在圖3的第二示例160中，X為3且Y為14。這同樣使得其適于測量沿探測軸線71的14個探測位置。在那種情況下，僅考慮來自檢測器陣列160的中心列(在Y方向上延伸)的信號，或者以某一方式(諸如平均)將來自每一行(在X方向上延伸)的信號進行組合。類似地，Y方向上的光傳感器65也可以以一些方式進行組合，例如以便測量沿探測軸線71的7個探測位置。如果Y方向中使用多個光傳感器65，則可以獲得有關處理分布的明顯增加的空間信息，例如損傷寬度，并且實現了激光處理功效提高的更大靈活度。
[0065]在圖3的第三示例260中，使用在X和Y方向兩者上進行延伸的大量光傳感器65形成線性陣列，諸如CCD陣列，但是不需要的光傳感器覆蓋有掩模63。可替換地，當對信號進行處理時，不需要的來自光傳感器65的電信號可以簡單地被忽略，或者可以不使用這些信號。
[0066]光檢測元件的Y與X之比優選地大于或等于5比1。
[0067]多個檢測器是本領域已知的，諸如在公開的美國專利6，413，257中的。該專利公開了使用多個檢測器在處理期間監視皮膚組織的能量特點。部署兩個至四個紅外檢測器而使得它們測量從處理位置所發射的漫射輻射的徑向依賴性。處理輻射以90度進入皮膚，并且檢測器以距皮膚的進