污染性氣體過濾設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型有關于過濾污染性粉塵廢氣的設備，特別是指一種低維修、低水耗、過濾性佳的污染性氣體過濾設備。
【背景技術】
[0002]隨著IC產品需求量的日益提升，推動了電子構裝產業的蓬勃發展。而電子制造技術的不斷發展演進，在IC芯片“輕、薄、短、小、高功能”的要求下，亦使得封裝技術不斷推陳出新，以符合電子產品的需要，并進而充分發揮其功能。半導體產品的附加價值高、制造成本尚，且廣品的性能對于日后其用于最終電子商品的功能有關鍵性的影響。
[0003]半導體工業因產品不斷研發而制程亦隨著更改，從以往所采用的濕式制程到現在采用減壓后的氣體干式制程，及目前興起的化合物半導體研究也正在迅速發展中。隨著這些技術的革新，半導體制造時所使用的酸堿溶液、有機溶劑、特殊氣體材料的種類及數量均在增加之中，而這些制程原料大部分都其有毒性，所以應特別注意并加以防范與控制。
[0004]在今日，環境保護與安全議題已是企業社會責任的一環，除了各國政策要求之外，半導體、面板、印刷電路板(PCB)等各產業，均日漸重視環境保護的重要性，在生產設備不斷升級的同時，希望產線所產生的廢氣對周邊自然環境的沖擊降到最低，也盡可能避免工安意外的發生。畢竟，環安衛事件一旦發生，不僅賠上企業形象，更會給日常營運帶來實質的損害，輕則罰款、重則人命傷亡，產生難以復原的傷害；因此，重視環安、環衛風潮的觀念已逐漸在產業鏈上普及。
[0005]很多3C產品都需要高科技研發，相對科技半導體產業也需不斷生產及研發，而晶圓的制程亦為其中的一種，此類產品制程中采用的各種氣體通常都具有毒性、高度可燃、高爆性等特性；晶圓及集成電路制造過程中幾乎每個步驟皆分別使用各式各樣的酸堿物質、有機溶劑及毒性氣體，而各種物質經過反應后又形成種類頗為復雜的產物，幾乎所有制程都可能是空氣污染源;一般而言如果每個月產出1000片晶圓，那么會需要10-15臺廢氣處理設備，若建造一座晶圓廠，每月生產2萬片晶圓，需要大約200-300臺設備，因此對于廢氣處理設備需求極高。
[0006]為使廢氣的排放能符合要求，滿足相關法條的規定并為后代子孫保留下完整的環境，現階段大多廠商皆引進國外知名的過濾系統(如德國DAS公司所開發的過濾系統)來處理廢氣，但是由于國外引進的機器成本高、水耗高，且由于整體結構復雜，后續維修極為不便，因此難以滿足各大廠的龐大需求。
[0007]日前臺積電董事長張忠謀先生得到半導體產業環安衛最高榮譽“AkiraInoueAward”，這是全球半導體產業中相當崇高的獎，表彰臺積電在環境保護、工作健康與廠房安全(EHS)方面所做的努力，在這方面目前仍是臺積電處于領先地位，其他業者仍有持續努力的空間。目前，產業間對環境保護的共識只是個開始，未來還有很長的道路要走，有鑒于此，如何能在效能不變的情況下，打造成本低、耗能低、維修速度迅速等多重功效的廢氣捕捉過濾系統，為本產業首重的課題。【實用新型內容】
[0008]本實用新型的主要目的在于提供了一種低維修、低水耗的污染性氣體過濾設備，其能降低成本及降低生產設備排氣風管內粉塵含量，提升空污處理效能，使環境更加無污染。
[0009]本實用新型主要利用了橫向通道架構、雙集水槽的設計來達到低水耗的目的，以及噴頭的設計以提高粉塵捕捉的效率，透過新創的袪水結構設計來減少除霧濾材厚度，節省設備安置空間及降低維修更換所需的成本。
[0010]為達上述目的，本實用新型所采用的技術方案是:一種污染性氣體過濾設備，其特點是，該設備包括:殼體，其兩側分別設有入風口及出風口，使該殼體由入風口至出風口間形成可供氣體通過的過濾空間，并依序設有第一水霧過濾區、第一濾網層、第二水霧過濾區、第二濾網層、第三水霧過濾區及第三濾網層，其中，該第一水霧過濾區、該第二水霧過濾區及該第三水霧過濾區至少設有一個朝氣體流動相反方向噴灑水霧的噴頭，藉以直接與氣體中粉塵微粒碰撞凝聚，該第一濾網層、該第二濾網層及該第三濾網層分別由數個立體形狀的網板所構成;鼓風裝置，其設于該出風口，用以控制氣體流動方向；第一集水槽，其相對位于該第一水霧過濾區及該第一濾網層的下方，用以集中該第一水霧過濾區及該第一濾網層所凝聚的廢水并排出；以及，第二集水槽，其相對位于該第二水霧過濾區、該第二濾網層、該第三水霧過濾區及該第三濾網層的下方，用以集中該第二水霧過濾區、該第二濾網層、該第三水霧過濾區及該第三濾網層所凝聚的廢水，并可經由一循環水栗循環供應至該第一水霧過濾區、該第二水霧過濾區及該第三水霧過濾區的噴頭。
[0011 ]藉此，利用噴頭與氣流反向噴灑的水霧，可直接與廢氣中的粉塵微粒碰撞凝聚，落下集中至集水槽，而無須依賴濾材，降低配置所需的空間；而立體形狀的網板，可有效提高液滴與廢氣接觸的面積，提高凝聚粉塵微粒的效能;再者，利用第一集水槽與第二集水槽區隔出需排放的廢水與可循環的用水，能大幅降低耗水量而不至于影響粉塵捕捉的效能。
[0012]依上述結構，該第一水霧過濾區及該第二水霧過濾區的噴頭為雙向噴頭，用以分別朝氣體流動的順向與反向噴灑水霧。
[0013]依上述結構，該第二集水槽中進一步設有第二傳感器，用以感測第二集水槽中所凝聚的廢水狀態來調節該循環水栗的循環狀態。
[0014]依上述結構，該網板相互組成數個緊密排列且呈立體的菱形單元。藉此，當水霧過濾區噴灑的液滴落至其上時，將加大液滴比表面積，提高與廢氣接觸的面積，來提升將廢氣中污染物溶解于水中的目的。
[0015]依上述結構，該菱形單元包含有二個橫肋面與二個縱肋面，該橫肋面設有數個由橫肋所形成的橫向網孔，而該縱肋面設有數個由縱肋所形成的縱向網孔。藉此，當廢氣通過每個菱形單元時，皆須先后經過橫向網孔與縱向網孔，有效地達到讓廢氣與液滴接觸的目的。
[0016]藉由本實用新型采用的菱形立體網板，因水氣被快速、連續改變運動方向，離心力和慣性的作用，可有效收集氣體中含粉塵微粒的液滴，藉重力滑落于下方集水槽內，實現氣液分離的目的，可有效避免液滴被風車帶出至管路中造成積水及設備耗損。
[0017]為使本實用新型的上述目的、功效及特征可獲致更具體的了解，茲舉一較佳實施例，并配合圖式說明如下。
【附圖說明】
[0018]圖1是本實用新型較佳實施例整體結構的示意圖。
[0019]圖2是本實用新型粉塵微粒捕捉狀態的示意圖。
[0020]圖3是網板的局部外觀圖。
[0021]圖4是圖3的分解不意圖。
[0022]圖5及圖6是菱形單元的結構示意圖。
[0023]圖7是本實用新型較佳實施例使用狀態示意圖一。
[0024]圖8是本實用新型較佳實施例使用狀態示意圖二。
[0025]圖9是本實用新型較佳實施例使用狀態示意圖三。
[0026]符號說明:
[0027]10 殼體11 入風口
[0028]12 出風口21 第一水霧過濾區
[0029]22 第二水霧過濾區23 第三水霧過濾區
[0030]24 噴頭31 第一濾網層
[0031]32 第二濾網層33 第三濾網層
[0032]34 網板340菱形單元
[0033]341橫肋面342縱肋面
[0034]40 鼓風裝置51 第一集水槽
[0035]510第一傳感器52 第二集水槽
[0036]520第二傳感器61 廢水栗
[0037]62 循環水栗A 供水端
[0038]B 排放端。
【具體實施方式】
[0039]請參見圖1所示，可知本實用新型的污染性氣體過濾設備主要有一外殼10，其兩側分別設有入風口 11及出風口 12，讓殼體10內部形成可供氣體通過的過濾空間，并依氣體通過的先后順序設有