為800r/min ;最后將拋光后的金屬分別采用3wt%氫氧化鈉溶液、無水乙醇、蒸餾水清洗；
[0027]化學鍍復合拋光:將化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒混勻后滴加在精拋光后的金屬表面上，利用真絲絨拋光布25°C拋光lOmin，其化學反應式為:
[0028]nAg++C6H1206+3/2n0H — nAg+l/2RC00 +ηΗ20
[0029]所述真絲絨拋光布與拋光金屬表面的接觸壓力為40g/cm2，所述真絲絨拋光布回轉速度為60r/min，所述拋光金屬轉速為600r/min ；
[0030]所述化學鍍溶液包括化學鍍主鹽硝酸銀溶液、化學鍍還原劑葡萄糖溶液；
[0031]所述化學鍍主鹽硝酸銀溶液的制備方法為:將3.5g主鹽AgNO3溶于60mL去離子水中，攪拌加入氨水，至生成的黑色沉淀溶解，溶液澄清，加入1.6g NaOH固體，混合后再加入氨水，至溶液澄清；
[0032]所述化學鍍還原劑葡萄糖溶液的制備方法為:將2.25g還原劑葡萄糖溶于50mL去離子水中，加入5mL無水乙醇溶解后，再加入0.2g濃硝酸，沸煮15min ;
[0033]所述化學鍍溶液的制備方法為:將化學鍍主鹽硝酸銀溶液與化學鍍還原劑葡萄糖溶液按體積比1:1混勻；
[0034]所述化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒的重量比為1:0.04。
[0035]拋光前，采用TR200型粗糙度儀測得待拋光金屬表面粗糙度Ra為0.14 μ m，拋光后，金屬表面粗糙度Ra為< 0.008 μ m，在金相顯微鏡下觀察，微凹處被填補，金屬表面光潔無缺陷；用于光干涉油膜厚度測量儀時，光干涉圖像均勻，無隔斷，無缺陷，滿足質量要求。
[0036]實施例2
[0037]—種基于化學鍍拋光復合工藝的高光潔金屬表面制備方法，與實施例1的區別為:
[0038]化學鍍復合拋光:將化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒混勻后滴加在精拋光后的金屬表面上利用真絲絨拋光布進行80°C拋光lOmin，其化學反應式為:
[0039]Sn2++Ti3+— Sn+Ti 4+
[0040]所述真絲絨拋光布與拋光金屬表面的接觸壓力為40g/cm2，所述真絲絨拋光布回轉速度為60r/min，所述拋光金屬轉速為600r/min ；
[0041]所述化學鍍溶液的制備方法為:將1.5g主鹽氯化亞錫溶于20mL去離子水、10.2g檸檬酸鈉溶于20mL去離子水、3g EDTA.2Na溶于1mL去離子水、4g氨基三乙酸溶于1mL去離子水、0.6g還原劑三氯化鈦溶于1mL去離子水，將檸檬酸鈉溶液、EDTA.2Na溶液、氨基三乙酸溶液加入到氯化亞錫溶液中混勻后再加入氯化亞錫溶液，混勻，稀釋至lOOmL，滴加氨水至pH值為9 ；
[0042]所述化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒的重量比為1:0.04。
[0043]實施例3
[0044]—種基于化學鍍拋光復合工藝的高光潔金屬表面制備方法，與實施例1的區別為:
[0045]化學鍍復合拋光:將化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒混勻后滴加在精拋光后的金屬表面上利用真絲絨拋光布進行40°C拋光lOmin，所述真絲絨拋光布與拋光金屬表面的接觸壓力為40g/cm2，所述真絲絨拋光布回轉速度為60r/min，所述拋光金屬轉速為600r/min ；
[0046]所述化學鍍溶液的制備方法為:2g主鹽硫酸鎳溶于20mL去離子水、2g還原劑次亞磷酸鈉溶于20mL去離子水、2g配位劑檸檬酸鈉溶于1mL去離子水，將硫酸鎳溶液加入到檸檬酸鈉溶液中混勻后再加入次亞磷酸鈉溶液，混勻，稀釋至lOOmL，滴加氨水至pH值為9 ；
[0047]所述化學鍍溶液與粒度為1nm金剛石納米拋光顆粒的重量比為1:0.04。
[0048]以上所述，僅為本發明較佳的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種基于化學鍍拋光復合工藝的高光潔金屬表面制備方法，其特征在于:所述制備方法為將化學鍍及拋光復合液加在機械拋光后的金屬表面上進行拋光。2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:所述化學鍍及拋光復合液為化學鍍溶液與納米拋光顆粒的混合液。3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于:所述納米拋光顆粒為粒度<1nm的金剛石或三氧化二鋁。4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于:所述化學鍍溶液與納米拋光顆粒的重量比為I:0.02?0.05。5.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于:所述化學鍍溶液為主鹽硝酸銀溶液與還原劑葡萄糖溶液、主鹽氯化亞錫溶液與還原劑三氯化鈦溶液或主鹽硫酸鎳溶液與還原劑次亞磷酸鈉溶液。6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:拋光布與金屬拋光面的接觸壓力為40 ?200g/cm2。7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:拋光布回轉速度為30?90r/min。8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:所述拋光金屬轉速為600?1500r/min09.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:拋光溫度為20?80°C。10.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于:所述制備方法包括如下步驟: 粗拋光:米用磨輪將金屬表面拋光； 精拋光:將拋光液加在粗拋光后的金屬表面上進行拋光； 化學鍍復合拋光:將化學鍍及拋光復合液加在精拋光后的金屬表面上進行拋光。
【專利摘要】本發明涉及一種基于化學鍍拋光復合工藝的高光潔金屬表面制備方法，屬于金屬表面處理技術領域，所述制備方法為將化學鍍及拋光復合液加在機械拋光后的金屬表面上進行拋光，本發明有益效果為可以快速得到高光潔的金屬表面。
【IPC分類】C23F3/00
【公開號】CN105177585
【申請號】
【發明人】嚴志宇, 嚴志軍, 何紅坤, 朱新河, 程東, 董文仲
【申請人】大連海事大學
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年10月19日