將近紅外線和遠紅外線反射的層，其從透明薄 膜基材10側起按順序具備第一金屬氧化物層21、金屬層25和第二金屬氧化物層22。 巧042] 金屬層
[0043] 金屬層25具有紅外線反射的核屯、作用。在本發明中，從提高可見光透射率和紅外 線反射率的觀點出發，可適宜地使用W銀為主要成分的銀層或銀合金層。由于銀具有高自 由電子密度，因此能夠實現近紅外線?遠紅外線的高反射率，即使在構成紅外線反射層20 的層的層疊數少的情況下，也可得到遮熱效果和絕熱效果優異的紅外線反射薄膜。
[0044] 金屬層25中的銀的含量優選為90重量％ ^上，更優選為93重量％ ^上，進一步優 選為95重量％ ^上，特別優選為96重量％ ^上。通過提高金屬層中銀的含量，能夠提高透射 率和反射率的波長選擇性、提高紅外線反射薄膜的可見光透射率。
[0045] 金屬層25可W為含有銀W外的金屬的銀合金層。例如，為了提高金屬層的耐久性， 存在使用銀合金的情況。作為出于提高金屬層的耐久性的目的而添加的金屬，優選鈕(Pd)、 金(Au)、銅(化）、祕(Bi)、錯(Ge)、嫁(Ga)等。其中，從賦予銀高耐久性的觀點出發，最適宜使 用PcL增加 Pd等的添加量時，存在金屬層的耐久性提高的傾向。在金屬層25含有Pd等銀W外 的金屬的情況下，其含量優選為0.3重量％ ^上，更優選為0.5重量％ ^上，進一步優選為1 重量％ ^上，特別優選為2重量％ ^上。另一方面，增加 Pd等的添加量、降低銀的含量時，存 在紅外線反射薄膜的可見光透射率降低的傾向。因此，金屬層25中的銀W外的金屬的含量 優選為10重量％ ^下，更優選為7重量％ ^下，進一步優選為5重量％ ^下，特別優選為4重 量％^下。 巧046] 金屬氧化物層
[0047]金屬氧化物層21、22出于控制與金屬層25的界面處的可見光的反射量、兼顧高可 見光透射率和紅外線反射率等目的而設置。另外，金屬氧化物層可作為用于防止金屬層25 的劣化的保護層發揮作用。從提高紅外線反射層處的反射和透射的波長選擇性的觀點出 發，金屬氧化物層21、22對于可見光的折射率優選為1.5^上，更優選為1.6^上，進一步優 選為1.7W上。
[004引作為具有上述的折射率的材料，可列舉出1'1、2'、冊、抓、211、41、6曰、111、1'1、6曰、&1等 金屬的氧化物、或者運些金屬的復合氧化物。尤其，在本發明中，作為設置于金屬層25的透 明保護層30側的第二金屬氧化物層22,優選使用含氧化鋒和氧化錫的復合金屬氧化物。含 氧化鋒和氧化錫的金屬氧化物不僅化學穩定性(對酸、堿、氯化物離子等的耐久性)優異，而 且與后述的透明保護層30的密合性優異，因此，第二金屬氧化物層22與透明保護層30協同 作用，能夠提高對金屬層25的保護效果。
[0049] 第二金屬氧化物層22中的鋒原子的含量相對于金屬原子總量優選為10原子％~ 60原子％，更優選為15原子％~50原子％，進一步優選為20原子％~40原子％。鋒原子(氧 化鋒)的含量小時，存在金屬氧化物層成為晶質、耐久性降低的情況。另外，鋒原子(氧化鋒） 的含量小時，存在制膜中使用的瓣射祀的電阻變高、基于DC瓣射法的制膜變得困難的傾向。 另一方面，鋒原子的含量過大時，存在產生紅外線反射層的耐久性的降低、第二金屬氧化物 層22與金屬層25的密合性的降低等情況。
[0050] 第二金屬氧化物層22中的錫原子的含量相對于金屬原子總量優選為30原子％~ 90原子％，更優選為40原子％~85原子％，進一步優選為50原子％~80原子％。錫原子(氧 化錫)的含量過小時，存在金屬氧化物層的化學耐久性降低的傾向。另一方面，錫原子(氧化 錫)的含量過大時，存在制膜中使用的瓣射祀的電阻變高、基于DC瓣射法的制膜變得困難的 傾向。
[0051] 第二金屬氧化物層除了氧化鋒和氧化錫W外可W含有Ti、Zr、Hf、Nb、Al、Ga、In、 TUGa等金屬、或者它們的金屬氧化物。運些金屬或者金屬氧化物可出于提高瓣射制膜時的 祀的導電性來增加制膜率的目的、提高金屬氧化物層的透明性等目的而添加。其中，第二金 屬氧化物層中的鋒原子與錫原子的含量的總和相對于金屬原子總量優選為40原子％ W上， 更優選為50原子％ ^上，進一步優選為60原子％ W上。
[0052] 作為構成第一金屬氧化物層21的材料，可W使用各種金屬氧化物。從提高耐久性、 提高生產率的觀點出發，與第二金屬氧化物層同樣地優選使用含有氧化鋒和氧化錫的復合 金屬氧化物。
[0053] 上述金屬層25和金屬氧化物層21、22的厚度可W考慮材料的折射率等來適當地設 定，W使紅外線反射層透射可見光并選擇性地反射近紅外線。金屬層25的厚度例如可在3nm ~50nm的范圍調整。另外，金屬氧化物層21、22的厚度例如可在3nm~SOnm的范圍調整。對金 屬層和金屬氧化物層的制膜方法沒有特別限定，優選瓣射法、真空沉積法、CV的去、電子射線 沉積法等基于干法的制膜。
[0054] 從實現高制膜率的觀點出發，金屬氧化物層21、22優選通過使用了含有金屬和金 屬氧化物的祀的DC瓣射法來制膜。由于ZTO的導電性小，因此僅含有氧化鋒和氧化錫的燒結 祀的電阻率高，難W通過DC瓣射制膜。另外，使用了含有鋒和錫的金屬祀的反應性瓣射由于 在氧氣氛下進行，因此在金屬層上將ZTO制膜時，成為制膜底層的金屬層被過量的氧氧化， 可能產生紅外線反射層的特性降低運樣的問題。因此，尤其，在金屬層25上將由ZTO形成的 金屬氧化物層制膜作為第二金屬氧化物層22的情況下，優選通過使用了將氧化鋒和氧化錫 與金屬燒結而得到的祀的DC瓣射法來制膜。該祀優選通過將優選0.1重量％~20重量％、更 優選0.2重量％~15重量％的金屬與氧化鋒和/或氧化錫一起燒結來形成。祀形成時的金屬 含量過小時，存在由于祀的導電性變得不充分而制膜變得困難、或者與金屬層的密合性降 低的情況。祀形成時的金屬含量過大時，存在制膜時未被氧化的殘留金屬、氧量不滿足化學 量理論組成的金屬氧化物的量變多、金屬氧化物層的可見光透射率降低的傾向。作為在祀 中含有的金屬，優選為鋒和/或錫，但可W含有其W外的金屬。
[0055]在使用將金屬氧化物和金屬燒結而得到的祀來進行ZTO金屬氧化物層的制膜的情 況下，向制膜室內的氧的導入量相對于總導入氣體流量優選為8體積％^下，更優選為5體 積％ W下，進一步優選為4體積％ ^下。通過減少氧導入量，能夠防止金屬氧化物層制膜時 的金屬層的氧化。氧導入量為相對于在配置有金屬氧化物層的制膜所使用的祀的制膜室中 的總氣體導入量的氧的量(體積％)。在使用具備通過遮蔽板進行了區分的多個制膜室的瓣 射制膜裝置的情況下，W在各個區分開的制膜室中的氣體導入量為基準算出氧導入量。 巧056]紅外線反射層的層疊構成
[0057]紅外線反射層20可W為由第一金屬氧化物層21、金屬層25和第二金屬氧化物層22 運3層形成的層，也可W包含除運些W外的層。例如，W提高金屬層25與金屬氧化物層21、22 的密合性、賦予金屬層耐久性等目的，可W在兩者之間具有其他金屬層、金屬氧化物層等。 另外，也可W在第一金屬氧化物層21的透明薄膜基材10側進一步追加金屬層和金屬氧化物 層，使紅外線反射層20W5層構成、7層構成…的形式增加層疊數，提高可見光、近紅外線的 透射和反射的波長選擇性。
[0058]另一方面，從提高生產率、降低制造成本的觀點出發，紅外線反射層20優選為由第 一金屬氧化物層21、金屬層25和第二金屬氧化物層22運3層形成的層。在本發明中，如后所 述，通過在第二金屬氧化物層22上直接層疊規定的透明保護層，會賦予高耐久性，因此即使 在紅外線反射層為3層構成的情況下，也能夠得到具有可經受實用的充分的耐久性的紅外 線反射薄膜。 巧化9] 透明保護層
[0060] 在紅外線反射層20的第二金屬氧化物層22上，出于防止紅外線反射層的擦傷、劣 化的目的而設置有透明保護層30。在本發明中，透明保護層30與第二金屬氧化物層22直接 相接。
[0061] 作為透明保護層30的材料，優選可見光透射率高、機械強度和化學強度優異的材 料。在本發明中，作為透明保護層30的材料可使用有機物。作為有機物，可優選使用氣系、丙 締酸系、聚氨醋系、醋系、環氧系等活性光線固化型或者熱固化型的有機樹脂、有機成分與 無機成分化學鍵合而得到的有機?無機混合材料。在本發明中，透明保護層30優選在上述 有機物的基礎上還具有源自在同一分子中具有酸性基團和聚合性官能團的醋化合物的交 聯結構。
[0062] 作為在同一分子中具有酸性基團和聚合性官能團的醋化合物，可列舉出憐酸、硫 酸、草酸、班巧酸、鄰苯二甲酸、富馬酸、馬來酸等多元酸與在分子中具有乙締性不飽和基 團、硅烷醇基、環氧基等聚合性官能團和徑基的化合物的醋。需要說明的是，該醋化合物可 W為二醋、=醋等多元醋，優選多元酸的酸性基團中的至少1個未被醋化。
[0063] 透明保護層30通過具有源自上述的醋化合物的交聯結構，能夠提高透明保護層的 機械強度和化學強度，并且提高透明保護層30與第二金屬氧化物層22的密合性、提高紅外 線反射層的耐久性。上述醋化合物當中，憐酸與具有聚合性官能團的有機酸的醋化合物(憐 酸醋化合物)從提高透明保護層與金屬氧化物層的密合性的觀點出發是優選的。推定透明 保護層與金屬氧化物層的密合性的提高是由于醋化合物中的酸性基團顯示與金屬氧化物 的高親和性，尤其是憐酸醋化合物中的憐酸徑基與金屬氧化物層的親和性優異，因此密合 性提局。
[0064]從提高透明保護層30的機械強度和化學強度的觀點出發，上述醋化合物優選含有 (甲基)丙締酷基作為聚合性官能團。上述醋化合物可W在分子中具有多個聚合性官能團。 作為上述醋化合物，例如可適宜地使用W下述式（1)表示的憐酸單醋化合物或憐酸二醋化 合物。其中，也可