裝備步驟，用噴涂方法涂布。
[0022]所述一種防偽材料的制備方法，其特征在于:還包括S215步驟，刮膠，提供刮膠裝備，將無定形娃表面的S210步驟噴涂的混合物刮去。刮膠是制備無定形娃模塊與稀土氧化物模塊等厚目的，即:所述稀土氧化物模塊底面與無定形硅模塊底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模塊與無定形硅模塊厚度一致。刮膠裝備可以外購;也可以SMT刮錫設備刮膠，工作時不裝絲網，送料軌道下設置廢膠回收裝置即可完成。
[0023]所述一種防偽材料的制備方法，其特征在于:所述光固膠可以選擇正光固膠和負光固膠其中的一種，所述S170步驟提到的固化部分光固膠是指，曝光或未曝光的部分光固膠，具體地，對于正光固膠曝光的部分光固膠不固化，未曝光的部分光固膠固化;對應地，對于負光固膠曝光的部分光固膠固化，未曝光的部分光固膠不固化。
[0024]所述一種防偽材料的制備方法，其特征在于:所述SllO提供玻璃基底，還包括把玻璃片切成方形或長方形，以及倒角、拋光、清洗、干燥步驟，供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之間。
[0025]所述一種防偽材料的制備方法，其特征在于:所述S190步驟刻蝕無定形硅層，所用氣體是CF6，當然也可以增加輔助氣體。
[0026]所述一種防偽材料的制備方法，其特征在于:所述S250步驟，提供犧牲層蝕刻液，對于S130步驟所鍍的犧牲層是Al的話，提供蝕刻液是鹽酸、氫氧化鈉中的一種;對于S130步驟所鍍的犧牲層是Cu的話，提供蝕刻液是鹽酸和三氯化鐵的水溶液。
[0027]本發明所涉及的防偽材料包括片狀的無定形硅模塊，該防偽材料包括片狀的無定形硅模塊，無定形硅模塊具有鏤空區域，該防偽材料還包括稀土氧化物模塊，稀土氧化物模塊鑲嵌于所述鏤空區域;在可見光下，稀土氧化物模塊設置成白色，在紅外線照射下，稀土氧化物模塊是彩色的，面且不同的稀土氧化物模塊子模塊可以設置成不同的顏色，無定形硅模塊設置成黑色；而且在可見光下，稀土氧化物模塊與無定形硅模塊構成黑白色的第一防偽信息;在紅外線照射下，稀土氧化物模塊與無定形硅模塊構成彩色與黑色背景互映的第二防偽信息;具有多種材質，而且在可見光與紅外線下具有雙重防偽信息，其工藝上比現有技術難度大，不易仿制，優其是稀土氧化物模塊形態分布數據無法從電子顯微鏡反向抄數，較現有技術安全。
[0028]本發明所涉及的一種防偽材料的制備方法，通過在玻璃基底上面鍍附著層，在附著層上面鍍犧牲層，在犧牲層上面鍍無定形硅層，在無定形硅層上面涂布光固膠，提供紫外線光源，提供第一淹模板，將涂布的光固膠涂層曝光，顯影，清洗，清洗掉了鏤空區域的光固膠，也清洗掉了各個單位防偽材料之外的周邊區域的光固膠;提供等離子刻蝕裝備，刻蝕沒有光固膠保護的無定形硅層，即鏤空區域及各個單位防偽材料之外的周邊區域，提供清洗液，清洗，就是清洗掉用于保護無定硅層的光固膠;在無定形硅表面涂布稀土氧化物粉和光固膠的混合物;提供第二淹模板，曝光，顯影，用純凈水清洗，只留下鏤空區域的稀土氧化物模塊，提供犧牲層蝕刻液，刻蝕犧牲層，提供清洗過濾裝備及純凈水，清洗，過濾;工藝過程作為一個整體，環環相扣，仿制難度大，沒有曝光用淹模板數據，發明人也不能再現別人實施的本發明的個案。
【附圖說明】
[0029]圖1是本發明第一個和第二個實施例的正面示意圖。
[0030]圖2是本發明第一個實施例的圖1中A-A剖面示意圖。
[0031]圖3是本發明第二個實施例的圖1中A-A剖面示意圖。
[0032]圖4是本發明第三個和第四個實施例的SllO至S150步驟的示意圖。
[0033]圖5是本發明第三個和第四個實施例的S160至S180步驟的示意圖。
[0034]圖6是本發明第三個和第四個實施例的S190步驟的示意圖。
[0035]圖7是本發明第三個和第四個實施例的S200步驟的示意圖。
[0036]圖8是本發明第三個和第四個實施例的S210步驟的示意圖。
[0037]圖9是本發明第三個實施例的S215步驟的示意圖。
[0038]圖10是本發明第三個實施例的S220至S240步驟的示意圖。
[0039]圖11是圖10和圖12中P處放大示意圖。
[0040]圖12是本發明第四個實施例的S220至S240步驟的示意圖。
[0041 ]圖13是本發明第三個和第四個實施例的S250步驟的示意圖。
[0042]圖14是本發明第三實施例的流程圖。
【具體實施方式】
[0043]下面將結合附圖對本發明作進一步詳述。
[0044]參考圖1、圖2，圖2是圖1中A-A面剖面圖，本發明第一個實施例是一種防偽材料，該防偽材料包括片狀的無定形硅模塊001，無定形硅模001塊具有鏤空區域，該防偽材料還包括稀土氧化物模塊002，稀土氧化物模塊002鑲嵌于所述鏤空區域，在本實施例中稀土氧化物模塊002完全填充了所述鏤空區域。
[0045]所述的稀土氧化物模塊002，是指在單位防偽材料000中，由稀土氧化物材料構成的各個子模塊的總和，各個子模塊之間離散分布，所述稀土氧化物模塊002可以是一個圖形或字符，也可以是由多數個子模塊組成一組圖形或字符串，在本實施例中，稀土氧化物模塊002是一組字符串“Red”，由離散分布的三個子模塊“R”、“e”、“d”構成;所述的無定形硅模塊001，是指在單位防偽材料中，由無定形硅材料構成的各個子模塊的總和，各個子模塊之間離散分布，所述無定形硅模塊可以是一個圖形或字符，也可以是由多數個子模塊組成一組圖形或字符串，在本實施例中，無定形硅模塊001由四個離散分布子模塊構成，即字符“R”上部的封閉部分、字符“e”上部的封閉部分、字符“d”下部封閉部分、還有字符串“Red”周圍的部分;在本實施例中單位防偽材料000就是指一個防偽材料。
[0046]再次參考圖2，在本實施例中，所述稀土氧化物模塊002底面與無定形硅模塊001底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模塊002與無定形硅模塊001厚度一致。
[0047]所述稀土氧化物模塊002是稀土氧化物粉均勻固化在光固膠之中的結構;所述稀土氧化物材料是稀土氧化物粉與光固膠的均勻混合物。
[0048]在可見光下，稀土氧化物模塊002設置成白色，在紅外線照射下，稀土氧化物模塊002是彩色的，面且不同的稀土氧化物模塊子模塊可以設置成不同的顏色，在本實施例中，字符串“Red”是同一種顏色和，應當理解，也可以是不同色彩的，在第三個實施例中說明了不同色彩子模塊的制備手段;無定形硅模塊001設置成黑色；而且在可見光下，稀土氧化物模塊與無定形硅模塊構成黑白色的第一防偽信息；在紅外線照射下，稀土氧化物模塊與無定形硅模塊構成彩色與黑色背景互映的第二防偽信息。
[0049]參考圖1、圖3，圖3是圖1中A-A面剖面圖，本發明第二個實施例是一種防偽材料，與本發明第一個實施例的不同之處在于，所述稀土氧化物模塊002底面與無定形硅模塊001底面位于同一平面上，所述稀土氧化物模塊002比無定形硅模塊001厚度大，本實施例可見光下立體效果加強。
[0050]參考圖4至圖11、圖13至圖14，本發明第三個實施例是一種防偽材料的制備方法，即制備本發明第一個實施例所描述的防偽材料的制備方法，該方法包括以下步驟:S110，提供玻璃基底;S120，在玻璃基底上面鍍附著層;S130，在附著層上面鍍犧牲層;S140，在犧牲層上面鍍無定形硅層;SI 50，在無定形硅層上面涂布光固膠;S160，提供紫外線光源，提供第一淹模板，將S150步驟涂布的光固膠涂層曝光;