一種通訊設備金屬外殼及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及一種通訊設備金屬外殼及其制備方法。

背景技術：

手機天線是手機上用于接收信號的設備，目前智能手機多為內(nèi)置天線，這就要求手機后蓋不能對信號起屏蔽作用。塑膠手機不存在此問題，對于正在興起的熱門-金屬機身手機，如何解決信號屏蔽問題是其設計制造的關鍵之一。

目前，金屬手機多采用開天線槽并注塑的方法解決其機身信號屏蔽的問題，如HTC ONE的上下兩條天線槽，iphone5/5s的側邊天線槽等。上述現(xiàn)有技術均通過在天線槽中填充塑料來防止信號的屏蔽，但是對金屬手機機身整體結構造成了一定破壞，影響了其外觀整體的整潔性及連續(xù)性。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術中存在的問題，提供一種通訊設備金屬外殼及其制備方法。本發(fā)明提供的通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種通訊設備金屬外殼，其中，所述通訊設備金屬外殼包括金屬底材和裝飾層；所述裝飾層覆蓋所述金屬底材外表面；所述金屬底材的內(nèi)表面開設有凹槽，所述凹槽的底部開設有貫穿所述金屬底材的狹縫。

本發(fā)明還提供一種通訊設備金屬外殼的制備方法，其中，該方法包括以下步驟：

1)在金屬底材表面形成第一保護層的步驟；

2)在金屬底材的內(nèi)表面?zhèn)刃纬韶灤┧龅谝槐Ｗo層和部分金屬底材的凹槽的步驟；

3)除去所述第一保護層，并在所述金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護層的步驟；

4)在所述金屬底材外表面形成裝飾層的步驟；

5)在所述凹槽底部形成貫穿金屬底材的狹縫的步驟。

通過本發(fā)明的方法得到的通訊設備金屬外殼具有狹縫，可供通訊信號穿過，實現(xiàn)正常的通訊功能。并且，本發(fā)明提供的通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。并且，通過電泳、普通陽極氧化、瓷質(zhì)陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化、微弧氧化和噴涂中的一種或多種在金屬底材的表面形成裝飾層，進而，在狹縫內(nèi)填有填充件，能夠顯著提高其硬度、耐磨、抗震及耐蝕性能。

本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構成對本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1是本發(fā)明的通訊設備金屬外殼的制備過程的截面示意圖。

圖2是本發(fā)明一種實施方式的通訊設備金屬外殼的截面示意圖。

附圖標記說明

1 金屬底材

2 第一保護層

3 凹槽

4 第二保護層

5 遮蔽件

6 裝飾層

7 開口

8 狹縫

9 填充件

具體實施方式

以下對本發(fā)明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

如圖2所示，所述通訊設備金屬外殼包括金屬底材1和裝飾層6；所述裝飾層6覆蓋所述金屬底材1外表面；所述金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，所述凹槽的底部開設有貫穿所述金屬底材的狹縫8。

另外，需要指出的是，雖然在圖2中示意地僅表示了二條狹縫，但本發(fā)明的通訊設備金屬外殼顯然可以具有多條狹縫。

在本發(fā)明中，所述通訊設備例如可以為：手機、平板電腦、筆記本電腦、藍牙耳機等。優(yōu)選地，所述通訊設備金屬外殼為手機金屬外殼。

在本發(fā)明中，所述金屬外殼的內(nèi)表面定義為將其用于通訊設備中時，金屬外殼朝向通訊設備內(nèi)部的表面?？梢岳斫獾氖?，金屬外殼的外表面定義為將其用于通訊設備中時，金屬外殼朝向外界的表面。另外，用于制備金屬外殼的金屬底材的內(nèi)外表面也適用于上述定義。

在本發(fā)明中，所述金屬底材的材質(zhì)可以為本領域通常用于通訊設備的各種金屬，例如可以為鋁合金、不銹鋼、鎂合金或鈦合金等；優(yōu)選為鋁合金。

所述金屬底材的厚度沒有特別的限定，本領域技術人員可以根據(jù)具體的 通訊設備適當?shù)剡M行選擇。例如所述金屬底材的厚度可以為0.3-0.6mm，優(yōu)選為0.3-0.5mm，更優(yōu)選為0.3-0.4mm。

在本發(fā)明中，所述凹槽和所述狹縫相互連通，用于保證天線與外界的信號傳輸，實現(xiàn)通訊。

對于上述凹槽，該凹槽的深度可以為0.22-0.5mm，優(yōu)選為0.22-0.4，更優(yōu)選為0.22-0.3。

上述凹槽的寬度可以為2-5mm，優(yōu)選為3-4mm。

上述凹槽的長度可以為10-100mm，進一步優(yōu)選為10-60mm。

對于上述狹縫，該狹縫的深度為0.08-0.15mm，優(yōu)選為0.08-0.12mm，更優(yōu)選為0.08-0.1mm。

上述狹縫的寬度可以為30-60μm，優(yōu)選為40-50μm。

上述狹縫的長度可以為10-100mm；進一步優(yōu)選為10-60mm。另外，特別優(yōu)選所述狹縫的長度與所述的凹槽的長度相同。

另外，凹槽和狹縫的條數(shù)沒有特別的限定，只要能夠?qū)崿F(xiàn)通訊即可，例如可以為1-200條，優(yōu)選為5-50條。此外，當所述凹槽和狹縫為多條時，相鄰兩條凹槽之間的間距可以為2-5mm，優(yōu)選為2-3mm。

根據(jù)本發(fā)明，所述通訊設備金屬外殼還具有位于金屬底材外表面的裝飾層，所述裝飾層覆蓋所述狹縫。

作為上述裝飾層可以為通過電泳、普通陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化、微弧氧化和噴涂中的一種或多種形成的裝飾層。

根據(jù)本發(fā)明，對所述裝飾層的厚度沒有特別的限定，可以為本領域的常規(guī)厚度。例如所述裝飾層的厚度可以為15-35μm，優(yōu)選為25-35μm。

根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的情況下，所述通訊設備金屬外殼還包括保護層，所述保護層覆蓋所述金屬底材內(nèi)表面的除狹縫以外的區(qū)域。

在本發(fā)明中，作為上述保護層可以為通過電泳和/或噴涂形成的保護層。 對所述保護層的厚度沒有特別的限定，例如所述保護層的厚度可以為5-25μm，優(yōu)選為5-15μm。

根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的情況下，所述通訊設備金屬外殼還包括填充件，所述填充件位于所述凹槽和所述狹縫中。

更優(yōu)選地，所述填充件是通過UV膠水固化形成的填充件。所述UV膠水例如為購于樂泰公司的3211型號的UV膠水。

如圖1中的(h)所示，在本發(fā)明的一個特別優(yōu)選的實施方式中，所述通訊設備金屬外殼包括金屬底材1、裝飾層6、保護層4和填充件9；所述裝飾層6覆蓋所述金屬底材1外表面；所述金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3；所述凹槽的底部開設有貫穿所述金屬底材的狹縫8；所述保護層4覆蓋所述金屬底材1內(nèi)表面的除狹縫8以外的區(qū)域；所述填充件9位于所述凹槽3和所述狹縫8中。

本發(fā)明還提供上述通訊設備金屬外殼的制備方法，其中，該方法包括以下步驟：

1)在金屬底材表面形成第一保護層的步驟；

2)在金屬底材的內(nèi)表面?zhèn)刃纬韶灤┧龅谝槐Ｗo層和部分金屬底材的凹槽的步驟；

3)除去所述第一保護層，并在所述金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護層的步驟；

4)在所述金屬底材外表面形成裝飾層的步驟；

5)在所述凹槽底部形成貫穿金屬底材的狹縫的步驟。

下面對本發(fā)明的上述步驟分別進行詳細地說明。

步驟1)：在金屬底材表面形成第一保護層的步驟

在本發(fā)明中，對于所使用的金屬底材的厚度沒有特別的限定，本領域技術人員可以根據(jù)具體的通訊設備適當?shù)剡M行選擇。例如所述金屬底材的厚度 可以為0.3-0.6mm，優(yōu)選為0.3-0.5mm，更優(yōu)選為0.3-0.4mm。

所述金屬底材的材質(zhì)可以為本領域通常用于通訊設備的各種金屬，例如可以為鋁合金、不銹鋼、鎂合金或鈦合金等；優(yōu)選為鋁合金。

在本步驟中，優(yōu)選所述第一保護層為UV油墨層。

在金屬底材表面形成UV油墨層的方法可以采用本領域常用的各種方法和條件，例如可以在位于所述金屬底材表面上噴涂UV油墨后，在70-90℃下烘烤20-30分鐘。

上述UV油墨可以使用本領域常用的各種UV油墨，例如可以為5680系UV油墨。

在本發(fā)明中，通過上述方法形成的油墨層的厚度沒有特別的限定，可以為本領域的常規(guī)厚度，例如該厚度可以為10-30μm，優(yōu)選為15-25μm。

如圖1中的(a)所示，通過步驟1)得到的金屬底材的結構為：在金屬底材1的上下表面形成有第一保護層(UV油墨層)2。

步驟2)：在金屬底材的內(nèi)表面?zhèn)刃纬韶灤┧龅谝槐Ｗo層和部分金屬底材的凹槽的步驟

本步驟用于在所述金屬底材的內(nèi)表面開設所述凹槽，如上所述，該凹槽貫穿所述第一保護層和部分金屬底材的凹槽，也即，所述凹槽貫穿所述第一保護層但不完全貫穿所述金屬底材，由此在金屬底材內(nèi)表面開設凹槽。

在本發(fā)明中，只要是能夠在金屬底材內(nèi)表面開設所述凹槽的方法即可，對于開設凹槽的方法沒有特別的限定，可以是本領域常規(guī)使用的方法。優(yōu)選地，在該步驟中，通過紫外光曝光對步驟1)中形成的UV油墨層進行曝光，從而在金屬底材的外表面曝光顯影出1條以上的底材帶，然后通過蝕刻形成所述凹槽。

上述底材帶的寬度可以為2-5mm，優(yōu)選為3-4mm。

更優(yōu)選地，所述底材帶的長度為10-100mm，優(yōu)選為10-60mm。

在所述底材帶為多條時，相鄰兩條底材帶之間的間距為2-5mm，優(yōu)選為2-3mm。

在本發(fā)明中，通過步驟2)在金屬底材的外表面上形成所述凹槽，也即通過所述蝕刻對所述金屬的底材帶區(qū)域的金屬進行蝕刻，在金屬底材的底材帶區(qū)域形成凹槽。優(yōu)選地，通過蝕刻，使得所述底材帶區(qū)域的金屬底材厚度的厚度為0.08-0.15mm；更優(yōu)選地，通過蝕刻，使得所述底材帶區(qū)域的金屬底材厚度的厚度為0.08-0.12mm；進一步優(yōu)選地，通過蝕刻，使得所述底材帶區(qū)域的金屬底材厚度的厚度為0.08-0.1mm。

在本發(fā)明中，所述蝕刻只要能夠達到上述目的即可，可以采用本領域常規(guī)的蝕刻的方法。優(yōu)選地，步驟2)中，所述蝕刻包括酸性蝕刻液蝕刻和堿性蝕刻液蝕刻。

上述酸性蝕刻液優(yōu)選為三氯化鐵、鹽酸和水的混合溶液。更優(yōu)選地，相對于100g水，所述三氯化鐵可以為550-600g，鹽酸可以為30-50g。另外，上述酸性蝕刻液蝕刻的條件包括：溫度為10-35℃，時間為8-10分鐘。

上述堿性蝕刻液優(yōu)選為含有50-60g/L氫氧化鈉、50-60g/L碳酸鈉和50-60g/L硝酸鈉的溶液。另外，上述堿性蝕刻液蝕刻的條件包括：溫度為35-45℃，時間為20-40分鐘。

如圖1中的(b)所示，通過上述步驟2)得到的金屬底材的結構為：金屬底材1的內(nèi)表面開設有所述凹槽3，金屬底材1的凹槽3以外的表面覆蓋有第一保護層(UV油墨層)2。

步驟3)：除去所述第一保護層，并在所述金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護層的步驟

在本步驟中，先要除去所述第一保護層，得到具有所述凹槽的金屬底材。

除去所述第一保護層后的金屬底材的結構如圖1中的(c)所示。

對于除去所述第一保護層的方法可以為本領域常規(guī)的各種方法。例如， 在所述第一保護層為UV油墨層時，可以在溫度為10-35℃下，將具有第一保護層的金屬底材在脫漆劑中浸泡10-20min，所述脫漆劑例如可以為購于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號的脫漆劑。

在除去所述第一保護層后，為了僅在所述金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護層，需要在將所述金屬底材的外表面使用遮蔽件進行遮蔽的條件下形成所述第二保護層。

作為將所述金屬底材的外表面進行遮蔽的遮蔽件可以采用本領域的常用的各種遮蔽件。所述遮蔽件例如可以為絕緣膠帶。另外，所述絕緣膠帶可以購于深圳市西盟特電子有限公司。

作為形成所述第二保護層的方法沒有特別的限定，在本步驟中，優(yōu)選通過電泳和/或噴涂來形成所述第二保護層。

作為所述電泳的條件可以包括：溫度為29-31℃，電泳電壓為120-140V，pH為7-9，時間為1-3min。另外，所述電泳的電泳液可以為含有日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)的電泳液，其中，日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)的重量比可以為0-4：1，優(yōu)選為7：3。另外，電泳液的固含量可以為8-15重量％，優(yōu)選為13重量％。

所述噴涂是指在金屬基材表面的噴涂一層或多層的有機或無機物涂層，涂層厚度可以控制在10-25μm。所述噴涂的涂料例如可以為環(huán)氧樹脂。

在本發(fā)明中，通過上述方法形成的第二保護層的厚度可以為5-25μm，優(yōu)選為5-15μm。

如圖1中的(d)所示，通過上述步驟3)得到的金屬底材的的結構為：金屬底材1的外表面遮蔽有遮蔽件5，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4。

步驟4)：在所述金屬底材外表面形成裝飾層的步驟

本步驟用于在步驟3)得到的金屬底材的外表面形成裝飾層。

在本步驟中，先要去除所述金屬底材的外表面的遮蔽件，然后在所述金屬底材的外表面形成裝飾層。

所述裝飾層可以采用本領域的常規(guī)方法和條件進行，例如可以通過電泳、普通陽極氧化、瓷質(zhì)陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化、微弧氧化和噴涂中的一種或多種在金屬底材的表面形成裝飾層。

根據(jù)本發(fā)明，所述裝飾層的厚度可以為15-35μm。

作為所述電泳的條件可以包括：溫度為28-32℃，電壓為140-200V，時間為1-3min，pH為7-9。另外，所述電泳的電泳液可以為含有日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)的電泳液，其中，日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)的重量比可以為0-4：1，優(yōu)選為7：3。另外，電泳液的固含量可以為8-15重量％，優(yōu)選為13重量％。通過上述電泳方法形成的裝飾層厚度通常為25-35μm。

作為所述普通陽極氧化的條件可以包括：陽極電壓為13-17V，溫度為17-21℃，氧化時間為30-60min。另外，陽極氧化液為180-200g/L硫酸。通過上述陽極氧化方法形成的裝飾層厚度通常為15-25μm。

作為所述硬質(zhì)陽極氧化的條件可以包括：電流密度為4A/dm2，時間為30-60min，溫度為5-10℃，電解液為180-200g/L硫酸和5-15g/L草酸。通過上述硬質(zhì)陽極氧化方法形成的裝飾層厚度通常為25-45μm。

作為所述瓷質(zhì)陽極氧化的條件可以包括：電壓為80-120V，氧化時間為30-60min，氧化溫度為30-50℃。另外，瓷質(zhì)陽極電解液為40-50g/L草酸鈦鉀、1-4g/L草酸、6-10g/L硼酸以及0.5-2g/L檸檬酸。通過上述瓷質(zhì)陽極氧化方法形成的裝飾層厚度通常為15-30μm。

作為所述微弧氧化的條件可以包括：氧化溫度為20-30℃，氧化正向電 壓：400-600V，氧化時間40-100min。另外，微弧氧化電解液的組成為：0.02-0.05mol/L硅酸鈉和0.03-0.07mol/L氫氧化鈉。通過上述微弧氧化方法形成的裝飾層厚度通常為15-40μm。

所述噴涂是指在金屬基材表面的噴涂一層或多層的有機或無機物涂層，涂層厚度可以控制在10-50μm。所述噴涂的涂料例如可以為環(huán)氧樹脂。

根據(jù)本發(fā)明，在步驟4)中，優(yōu)選地，在金屬底材的表面形成裝飾層之前，優(yōu)選對所述金屬底材進行前處理，以清潔表面臟污及提高表面光澤。

所述前處理的方法優(yōu)選采用以下步驟進行：

(1)在50-70℃下，將金屬底材在堿蝕液中進行堿蝕1-2min，然后用去離子水清洗2次；

(2)在10-35℃下，在出光液中出光3-5min，然后用去離子水清洗2次；

(3)在10-35℃下，在化拋液中拋光10-30s，然后用去離子水清洗2次。

上述堿蝕液優(yōu)選為15-20g/L氫氧化鈉溶液；上述出光液優(yōu)選為200-300ml/L硝酸溶液；所述化拋液優(yōu)選為含有650-750ml/L磷酸和350-250ml/L硫酸的溶液。

如圖1中的(e)所示，通過上述步驟4)得到的金屬底材的結構為：金屬底材1的外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，且金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4。

步驟5)：在所述凹槽底部形成貫穿金屬底材的狹縫的步驟

在本步驟中，可以采用本領域常規(guī)的方法在所述凹槽底部形成貫穿金屬底材的狹縫。但本步驟優(yōu)選在所述凹槽底部形成貫穿金屬底材的狹縫的步驟包括：

(1)在所述凹槽底部的第二保護層上形成開口以暴露所述金屬底材的金屬；

(2)對暴露的金屬底材進行堿性蝕刻液蝕刻，以形成狹縫。

在本發(fā)明中，優(yōu)選通過激光在所述凹槽底部的第二保護層上形成開口。另外，優(yōu)選在凹槽內(nèi)形成的開口的長度與凹槽的長度相同。

所述開口的寬度可以為30-60μm；優(yōu)選為30-40μm。

作為所述激光的條件可以為：功率70％，走光速度3000mm/s，頻率80KHz。

如圖1中的(f)所示，通過上述步驟(1)得到的金屬底材的結構為：金屬底材1的外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，第二保護層在凹槽3底部具有開口7。

在步驟(2)中，所述堿性蝕刻液為含有50-60g/L氫氧化鈉、50-60g/L碳酸鈉以及50-60g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性液蝕刻的條件包括：溫度為35-45℃，時間為10-20分鐘。

如圖1中的(g)所示，通過上述步驟(2)得到的金屬底材的結構為：金屬底材1的外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8。

根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的情況下，本發(fā)明的通訊設備金屬外殼的制備方法還包括，步驟6)：在所述凹槽和所述狹縫中填充UV膠水并固化的步驟。

根據(jù)本發(fā)明，在所述凹槽和所述狹縫中填充UV膠水之前，可以除去或不除去所述第二保護層。

所述UV膠水可以為本領域常用的各種UV膠水，所述UV膠水例如為購于樂泰公司的3211型號的UV膠水。另外，所述UV膠水的固化方法可以采用本領域常規(guī)方法進行，例如可以為紫外光曝光。所述紫外光曝光的條件為本領域所公知，在此不在累述。

如圖1中的(h)所示，通過上述步驟6)得到的金屬底材的結構為：金屬底材1的外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9(也即被填充件9填充)。

以下將通過實施例對本發(fā)明進行詳細描述。但本發(fā)明并不僅限于下述實施例。

實施例1

1)將鋁合金(購于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號為6063，厚度為0.4mm)切割為15mm x 80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材表面噴涂5680系UV油墨(購于深圳萬佳原精化科技股份有限公司，以下相同)后，然后在80℃下烘烤25分鐘后，進行紫外曝光(曝光條件為時間2min，光強度為800mJ/cm²)，形成2條2mm寬的底材帶，其中，所述底材帶的長度為75mm，相鄰兩條底材帶之間的間距為3mm。另外，形成的UV油墨層的厚度為20μm。

2)將步驟1)得到的金屬底材進行酸性蝕刻液蝕刻后，再進行堿性蝕刻液蝕刻。其中，所述酸性蝕刻液為550g的三氯化鐵、30g的鹽酸以及100g的水的混合溶液，所述酸性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為30℃，時間為10分鐘；所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉和50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為40℃，時間為33分鐘。由此，得到在金屬底材的內(nèi)表面開設有凹槽的金屬底材，其中，所述凹槽的寬度為2mm左右，凹槽區(qū)域的金屬底材厚度為0.08mm左右，凹槽的長度為75mm，相鄰凹槽之間的間距為2mm。

3)通過在購于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號的脫漆劑中侵泡15min除去所述金屬底材表面的油墨層。

4)用絕緣膠帶(購于深圳市西盟特電子有限公司，以下相同)將所述 金屬底材的外表面遮蔽，并通過電泳在所述金屬底材的內(nèi)表面形成厚度為10μm的保護層；其中，電泳液為：日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，電泳的條件為電壓為140V，時間為1min，溫度為30℃，pH為7.8。

5)去除所述金屬底材的外表面的絕緣膠帶，并通過電泳在所述金屬底材的外表面形成厚度為30μm的裝飾層。其中，電泳液為：日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，電泳的條件為：溫度為30℃，電壓為160V，時間為2min，pH為7.8。

6)通過激光在凹槽底部的保護層上形成30μm寬的開口以露出金屬底材的金屬(在凹槽內(nèi)形成的開口的長度與凹槽的長度相同)；其中，激光的條件為：功率70％，走光速度3000mm/s，頻率80KHz。

7)對步驟6)中所述30μm寬的開口露出的金屬底材進行堿性蝕刻液蝕刻除去30μm寬的開口處殘留的金屬，以形成寬度為30μm的狹縫，其中，所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性液蝕刻的條件包括：溫度為40℃，時間為12分鐘。

8)在所述金屬底材的凹槽和狹縫中填充膠水(購于樂泰公司的3211型號的UV膠水)后在紫外光照射強度為800mJ/cm²的條件下進行固化，由此得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

實施例2

1)將鋁合金(購于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號為6063，厚度為0.4mm)切割為15mm x 80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材表面噴涂5680系UV油墨后，然后在80℃下烘烤25分鐘后，進行紫外曝光(曝光條件為時間2min，光強度為800mJ/cm²)，形成2條3mm寬的底材帶，其中，所述底材帶的長度為75mm，相鄰兩條底材帶之間的間距為3mm。另外，形成的UV油墨層的厚度為20μm。

2)將步驟1)得到的金屬底材進行酸性蝕刻液蝕刻后，在進行堿性蝕刻液蝕刻。其中，所述酸性蝕刻液為550g的三氯化鐵、30g的鹽酸和100g的水的混合溶液，所述酸性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為30℃，時間為10鐘；所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為40℃，時間為27分鐘。由此，得到在金屬底材的內(nèi)表面開設有凹槽的金屬底材，其中，所述凹槽的寬度為3mm左右，凹槽區(qū)域的金屬底材厚度為0.12mm左右，凹槽的長度為75mm，相鄰凹槽之間的間距為3mm。

3)通過在購于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號的脫漆劑中侵泡10min除去所述金屬底材表面的油墨層。

4)用絕緣膠帶將所述金屬底材的外表面遮蔽，并通過電泳在所述金屬底材的內(nèi)表面形成厚度為10μm的保護層；其中，電泳液為：日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，所述電泳的條件為電壓為140V，時間為1min，溫度為30℃，pH為7.8。

5)去除所述金屬底材的外表面的絕緣膠帶，并通過普通陽極氧化得到厚度為20μm的裝飾層。其中，普通陽極氧化的條件為：陽極電壓為15V，溫度為19℃，氧化時間為50min。另外，陽極氧化液為190g/L硫酸。

6)通過激光在凹槽底部的保護層上形成50μm寬的開口以露出金屬底材的金屬(在凹槽內(nèi)形成的開口的長度與凹槽的長度相同)；其中，激光的條件為：功率70％，走光速度3000mm/s，頻率80KHz。

7)對步驟6)中所述50μm寬的開口露出的金屬底材進行堿性蝕刻液蝕刻除去50μm寬的開口處殘留的金屬，以形成寬度為50μm的狹縫，其中，所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性液蝕刻的條件包括：溫度為40℃，時間為17分鐘。

8)在所述金屬底材的凹槽和狹縫中填充膠水(購于樂泰公司的3211型號的UV膠水)后在紫外光照射強度為800mJ/cm²的條件下進行固化，由此得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

實施例3

1)將鋁合金(購于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號為6063，厚度為0.4mm)切割為15mm x 80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材表面噴涂5680系UV油墨后，然后在80℃下烘烤25分鐘后，進行紫外曝光(曝光條件為時間2min，光強度為800mJ/cm²)，形成2條5mm寬的底材帶，其中所述底材帶的長度為75mm，相鄰兩條底材帶之間的間距為3mm。另外，形成的UV油墨層的厚度為20μm。

2)將步驟1)得到的金屬底材進行酸性蝕刻液蝕刻后，在進行堿性蝕刻液蝕刻。其中，所述酸性蝕刻液為550g的三氯化鐵、30g的鹽酸和100g的 水的混合溶液，所述酸性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為30℃，時間為10分鐘；所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性蝕刻液蝕刻的條件為：溫度為40℃，時間為24分鐘。由此，得到在金屬底材的內(nèi)表面開設有凹槽的金屬底材，其中，所述凹槽的寬度為5mm左右，凹槽區(qū)域的金屬底材厚度為0.15mm左右，凹槽的長度為75mm，相鄰凹槽之間的間距為3mm。

3)通過在購于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號的脫漆劑中侵泡10min除去所述金屬底材表面的油墨層。

4)用絕緣膠帶將所述金屬底材的外表面遮蔽，并通過電泳在所述金屬底材的內(nèi)表面形成厚度為10μm的保護層；其中，電泳液為：日本清水株式會社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，所述電泳的條件為電壓為140V，時間為1min，溫度為30℃，pH為7.8。

5)去除所述金屬底材的外表面的絕緣膠帶，并通過瓷質(zhì)陽極氧化得到厚度為35μm的裝飾層。其中，瓷質(zhì)陽極氧化的條件為電壓為100V，氧化時間為50min，氧化溫度為40℃。另外，瓷質(zhì)陽極電解液為15g/L草酸鈦鉀、9g/L草酸、8g/L硼酸以及1g/L檸檬酸。

6)通過激光在凹槽底部的保護層上形成60μm寬的開口以露出金屬底材的金屬(在凹槽內(nèi)形成的開口的長度與凹槽的長度相同)；其中，激光的條件為：功率70％，走光速度3000mm/s，頻率80KHz。

7)對步驟6)中所述60μm寬的開口露出的金屬底材進行堿性蝕刻液蝕刻除去60μm寬的開口處殘留的金屬，以形成寬度為60μm的狹縫，其中，所述堿性蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，所述堿性液蝕刻的條件包括：溫度為40℃，時間為20分鐘。

8)在所述金屬底材的凹槽和狹縫中填充膠水(購于樂泰公司的3211型 號的UV膠水)后在紫外光照射強度為800mJ/cm²的條件下進行固化，由此得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

實施例4

按照實施例1的方法進行，不同的是，在步驟5)中，通過微弧氧化得到厚度為20μm的裝飾層。其中，微弧氧化的條件為：氧化溫度為30℃，氧化正向電壓為600V，氧化時間為30min。另外，微弧氧化電解液的組成為：0.03mol/L硅酸鈉和0.05mol/L氫氧化鈉。同樣地得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

實施例5

按照實施例1的方法進行，不同的是，在步驟5)中，通過微弧氧化得到厚度為30μm的裝飾層。其中，微弧氧化的條件為：氧化溫度為30℃，氧化正向電壓為600V，氧化時間為40min。另外，微弧氧化電解液的組成為：0.03mol/L硅酸鈉和0.05mol/L氫氧化鈉。同樣地得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊 設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

實施例6

按照實施例1的方法進行，不同的是，在步驟5)中，通過微弧氧化得到厚度為25μm的裝飾層。其中，微弧氧化的條件為：氧化溫度為30℃，氧化正向電壓為600V，氧化時間為35min。另外，微弧氧化電解液的組成為：0.03mol/L硅酸鈉和0.05mol/L氫氧化鈉。同樣地得到通訊設備金屬外殼。

上述制備得到的通訊設備金屬外殼的結構如圖1中的(h)所示：通訊設備金屬外殼外表面覆蓋有裝飾層6，金屬底材1的內(nèi)表面開設有凹槽3，金屬底材1的內(nèi)表面形成有第二保護層4，在凹槽3底部開設有貫穿金屬底材1的狹縫8，且凹槽3和狹縫8內(nèi)具有填充件9。該通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。

通過上述實施例可知，通過本發(fā)明的方法得到的通訊設備金屬外殼其狹縫(即天線槽)外觀不可見，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致。并且，通過電泳、普通陽極氧化、瓷質(zhì)陽極氧化、微弧氧化和噴涂中的一種或多種在金屬底材的表面形成裝飾層，在狹縫內(nèi)填有填充件，能夠顯著提高其硬度、耐磨、抗震及耐蝕性能。

以上詳細描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在本發(fā)明的技術構思范圍內(nèi)，可以對本發(fā)明的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必 要的重復，本發(fā)明對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本發(fā)明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應當視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。