一種通訊設(shè)備金屬外殼及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及一種通訊設(shè)備金屬外殼及其制備方法。

背景技術(shù)：

手機(jī)天線是手機(jī)上用于接收信號(hào)的設(shè)備，目前智能手機(jī)多為內(nèi)置天線，這就要求手機(jī)后蓋不能對(duì)信號(hào)起屏蔽作用。塑膠手機(jī)不存在此問(wèn)題，對(duì)于正在興起的熱門-金屬機(jī)身手機(jī)，如何解決信號(hào)屏蔽問(wèn)題是其設(shè)計(jì)制造的關(guān)鍵之一。

目前，金屬手機(jī)多采用開(kāi)天線槽并注塑的方法解決其機(jī)身信號(hào)屏蔽的問(wèn)題，如HTC ONE的上下兩條天線槽，iphone5/5s的側(cè)邊天線槽等。上述現(xiàn)有技術(shù)均通過(guò)在天線槽中填充塑料來(lái)防止信號(hào)的屏蔽，但是對(duì)金屬手機(jī)機(jī)身整體結(jié)構(gòu)造成了一定破壞，影響了其外觀整體的整潔性及連續(xù)性。同時(shí)外殼可見(jiàn)的塑膠破壞了機(jī)身的整體金屬質(zhì)感。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，提供一種通訊設(shè)備金屬外殼及其制備方法。本發(fā)明提供的通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種通訊設(shè)備金屬外殼，其中，所述通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材、凹槽、氧化膜層以及覆蓋所述金屬底材外表面的裝飾層；所述凹槽的開(kāi)口位于所述金屬底材內(nèi)表面；所述氧化膜層位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材。

本發(fā)明還提供一種通訊設(shè)備金屬外殼的制備方法，其中，該方法包括以 下步驟：

1)在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽以外的表面形成第一保護(hù)層的步驟；

2)在金屬底材內(nèi)表面?zhèn)刃纬砂疾鄣牟襟E；

3)去除所述第一保護(hù)層后在金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護(hù)層，并在所述凹槽內(nèi)形成貫穿所述第二保護(hù)層的開(kāi)口的步驟；

4)對(duì)步驟3)得到的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的步驟；

5)去除所述第二保護(hù)層的步驟。

通過(guò)本發(fā)明的方法得到的通訊設(shè)備金屬外殼具有凹槽和位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材的氧化膜層，該凹槽和氧化膜層可供通訊信號(hào)穿過(guò)，實(shí)現(xiàn)正常的通訊功能。進(jìn)而，通過(guò)填充凹槽，本發(fā)明提供的通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，氧化膜層和裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說(shuō)明。

附圖說(shuō)明

附圖是用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說(shuō)明書的一部分，與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1A是本發(fā)明的通訊設(shè)備金屬外殼制備過(guò)程的部分的示意圖。

圖1B是本發(fā)明的通訊設(shè)備金屬外殼制備過(guò)程的另一部分的示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

1 金屬底材

2 遮蔽件

3 第一保護(hù)層

4 凹槽

5 第二保護(hù)層(UV油墨層)

6 開(kāi)口

7 裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化氧化膜層)

8、填充件

9 氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化氧化膜層)

具體實(shí)施方式

以下對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說(shuō)明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

如圖1B中的(i)所示，所述通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9以及覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1。

另外，需要指出的是，雖然在1B中的(i)中示意地僅表示了二條凹槽，但本發(fā)明的通訊設(shè)備金屬外殼顯然可以具有多條凹槽。

在本發(fā)明中，所述通訊設(shè)備例如可以為：手機(jī)、平板電腦、筆記本電腦、藍(lán)牙耳機(jī)等。優(yōu)選地，所述通訊設(shè)備金屬外殼為手機(jī)金屬外殼。

在本發(fā)明中，所述金屬外殼的內(nèi)表面定義為將其用于通訊設(shè)備中時(shí)，金屬外殼朝向通訊設(shè)備內(nèi)部的表面?？梢岳斫獾氖牵饘偻鈿さ耐獗砻娑x為將其用于通訊設(shè)備中時(shí)，金屬外殼朝向外界的表面。另外，用于制備金屬外殼的金屬底材的內(nèi)外表面也適用于上述定義。

在本發(fā)明中，所述金屬底材的材質(zhì)可以為本領(lǐng)域通常用于通訊設(shè)備的各種金屬，例如可以為鋁合金、不銹鋼、鎂合金或鈦合金等；優(yōu)選為鋁合金。

所述金屬底材的厚度沒(méi)有特別的限定，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)具體的 通訊設(shè)備適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行選擇。例如所述金屬底材的厚度為0.3-0.6mm，優(yōu)選為0.3-0.5mm，更優(yōu)選為0.3-0.4mm。

在本發(fā)明中，所述凹槽和氧化膜層用于保證天線與外界的信號(hào)傳輸，實(shí)現(xiàn)通訊(即天線槽)。

對(duì)于上述凹槽，該凹槽的深度可以為0.22-0.5mm，優(yōu)選為0.22-0.4mm，更優(yōu)選為0.22-0.3mm。

上述凹槽的寬度可以為3-5mm，優(yōu)選為3-4mm。

上述凹槽的長(zhǎng)度可以為10-100mm，優(yōu)選為10-60mm。

另外，當(dāng)凹槽為多條時(shí)，相鄰兩條凹槽之間的間距可以為2-5mm，優(yōu)選為2-3mm。另外，凹槽的條數(shù)例如可以為1-200條，優(yōu)選為5-50條。

對(duì)于上述氧化膜層，該氧化膜的深度可以為0.08-0.15mm，優(yōu)選為0.08-0.12mm，更優(yōu)選為0.08-0.1mm。

上述氧化膜層的寬度可以為80-120μm，優(yōu)選為90-110μm。

上述氧化膜層的長(zhǎng)度為可以10-100mm，優(yōu)選為10-60mm；更優(yōu)選所述凹槽的和所述氧化膜層的長(zhǎng)度相同。

根據(jù)本發(fā)明，所述通訊設(shè)備金屬外殼還具有位于金屬底材外表面的裝飾層，所述裝飾層覆蓋所述金屬底材的外表面，也即覆蓋所述凹槽和氧化膜層。

根據(jù)本發(fā)明，對(duì)所述裝飾層的厚度沒(méi)有特別的限定，可以為本領(lǐng)域的常規(guī)厚度。例如所述裝飾層的厚度可以為40-90μm，優(yōu)選為50-80μm。

優(yōu)選地，所述裝飾層與所述氧化膜層一體形成。

更優(yōu)選地，所述裝飾層和所述氧化膜層均為硬質(zhì)陽(yáng)極氧化氧化膜層。

也就是說(shuō)，在本發(fā)明中，特別優(yōu)選通過(guò)硬質(zhì)陽(yáng)極氧化形成所述氧化膜層和裝飾層。

根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的情況下，所述通訊設(shè)備金屬外殼還包括填充件，所述填充件位于所述凹槽中。更優(yōu)選地。所述填充件通過(guò)在所述狹縫中填充膠 水并固化而形成。

優(yōu)選地，所述膠水為UV膠水。例如為購(gòu)于樂(lè)泰公司的3211型號(hào)的UV膠水。

本發(fā)明還提供上述通訊設(shè)備金屬外殼的制備方法，其中，該方法包括以下步驟：

1)在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽以外的表面形成第一保護(hù)層的步驟；

2)在金屬底材內(nèi)表面?zhèn)刃纬砂疾鄣牟襟E；

3)去除所述第一保護(hù)層后在金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護(hù)層，并在所述凹槽內(nèi)形成貫穿所述第二保護(hù)層的開(kāi)口的步驟；

4)對(duì)步驟3)得到的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的步驟；

5)去除所述第二保護(hù)層的步驟。

下面對(duì)本發(fā)明的上述步驟分別進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。

步驟1)：在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽以外的表面形成第一保護(hù)層的步驟

在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽以外的表面形成第一保護(hù)層的步驟優(yōu)選為：遮蔽金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽的部分，并在金屬底材的遮蔽部分的以外的區(qū)域形成保護(hù)層。

步驟1)的目的在于：在金屬底材內(nèi)表面上將需要形成凹槽的部分遮蔽，防止在該遮蔽區(qū)域形成保護(hù)層，由此能夠保證在步驟2)中僅對(duì)遮蔽的部分進(jìn)行蝕刻。

在本發(fā)明中，所述凹槽的寬度可以為3-5mm，優(yōu)選為3-4mm。

所述凹槽的深度可以為0.22-0.5mm，優(yōu)選為0.22-0.4mm，更優(yōu)選為0.22-0.3mm。所述凹槽的深度可以通過(guò)后述的蝕刻實(shí)現(xiàn)。

另外，凹槽的條數(shù)沒(méi)有特別的限定，例如可以為1-200條，優(yōu)選為5-50條。當(dāng)所述凹槽為多條時(shí)，相鄰兩條凹槽之間的間距可以為2-5mm，優(yōu)選為 2-3mm。

根據(jù)本發(fā)明，作為在金屬底材內(nèi)表面上將需要形成凹槽的部分進(jìn)行遮蔽的方法可以采用本領(lǐng)域的常規(guī)方法，例如可以在金屬底材內(nèi)表面上將需要形成凹槽的部分用絕緣膠帶張貼后，再在金屬底材的遮蔽部分的以外的區(qū)域形成所述第一保護(hù)層。

上述絕緣膠帶例如可以為購(gòu)于深圳市西盟特電子有限公司的絕緣膠帶。

作為形成上述第一保護(hù)層的方法，可以采用本領(lǐng)域常規(guī)的方法來(lái)形成所述保護(hù)層。在本發(fā)明中，優(yōu)選通過(guò)電泳和/或噴涂來(lái)形成所述保護(hù)層。

作為所述電泳的條件可以包括：溫度為29-31℃，電泳電壓為120-140V，pH為7-9，時(shí)間為1-3min。另外，所述電泳液可以為含有日本清水株式會(huì)社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會(huì)社的亮光漆(NNO-4)的電泳液，其中，日本清水株式會(huì)社的啞光漆(WNO-1)和日本清水株式會(huì)社的亮光漆(NNO-4)的重量比可以為0-4：1，優(yōu)選為7：3。另外，電泳液的固含量可以為8-15重量％，優(yōu)選為13重量％。

通過(guò)噴涂形成所述保護(hù)層，所述噴涂的方法可以本領(lǐng)域所公知的方法，例如噴涂可以分為三涂，包括底漆(16-20μm)、中漆(16-25μn)和面漆(18-26μm)。

通過(guò)上述方法得到的保護(hù)層的厚度為35-45μm，優(yōu)選為30-40μm。

步驟2)：在金屬底材內(nèi)表面?zhèn)刃纬砂疾鄣牟襟E

在金屬底材內(nèi)表面?zhèn)刃纬砂疾鄣牟襟E優(yōu)選為：暴露出金屬底材內(nèi)表面的遮蔽區(qū)域，并對(duì)該區(qū)域進(jìn)行蝕刻，以形成所述凹槽。

優(yōu)選地，蝕刻使得該區(qū)域的金屬底材的厚度為0.08-0.15mm，更優(yōu)選地，蝕刻使得該區(qū)域的金屬底材的厚度為0.08-0.12mm，進(jìn)一步優(yōu)選地，蝕刻使得該區(qū)域的金屬底材的厚度為0.08-0.1mm。

在本發(fā)明中，優(yōu)選蝕刻液為含有50-60g/L氫氧化鈉、50-60g/L碳酸鈉以 及50-60g/L硝酸鈉的溶液。另外，蝕刻的溫度和時(shí)間以使得遮蔽區(qū)域的金屬底材的厚度為上述范圍為準(zhǔn)，但通常所述蝕刻的條件包括：溫度為35-45℃，時(shí)間為30-70分鐘。

步驟3：)去除所述第一保護(hù)層后在金屬底材的內(nèi)表面形成第二保護(hù)層，并在所述凹槽內(nèi)形成貫穿所述第二保護(hù)層的開(kāi)口的步驟

在本發(fā)明中，所述第二保護(hù)層優(yōu)選為UV油墨層。

在本發(fā)明中，步驟3)優(yōu)選為：除去金屬底材表面的第一保護(hù)層，并在金屬底材內(nèi)表面形成UV油墨層，然后在所述凹槽內(nèi)曝光顯影出80-120μm寬的槽體。

在本步驟中，先要除去金屬底材表面的第一保護(hù)層，作為除去金屬底材表面的第一保護(hù)層的方法可以采用本領(lǐng)域常用的各種方法，例如可以采用脫漆劑浸泡的方法來(lái)除去所述第一保護(hù)層。所述脫漆劑例如可以為購(gòu)于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑。所述浸泡的時(shí)間通常為10-20min。

在除去金屬底材表面的第一保護(hù)層后，在金屬底材內(nèi)表面形成UV油墨層。在金屬底材內(nèi)表面形成UV油墨層的方法可以采用本領(lǐng)域常用的各種方法和條件，例如可以在位于所述金屬底材內(nèi)表面上噴涂UV油墨后在70-90℃下烘烤20-30分鐘。

作為上述UV油墨例如可以為5680系UV油墨。

在本發(fā)明中，通過(guò)上述方法形成的油墨層的厚度沒(méi)有特別的限定，可以為本領(lǐng)域的常規(guī)厚度，例如該厚度可以為10-30μm，優(yōu)選為10-20μm。

在形成所述UV油墨層后，在所述凹槽內(nèi)曝光顯影出80-120μm寬的槽體。優(yōu)選地，在所述凹槽內(nèi)曝光顯影出90-110μm寬的槽體。所述曝光顯影的條件可以采用本領(lǐng)域所公知的條件，例如可以為時(shí)間1-4min，光強(qiáng)度為700-900mJ/cm²，優(yōu)選為時(shí)間2min，光強(qiáng)度為800mJ/cm²。

步驟4)：對(duì)步驟3)得到的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的步驟

根據(jù)本發(fā)明，所述硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理包括對(duì)步驟3)得到的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化前處理的步驟，所述前處理包括堿性蝕刻液體蝕刻、硝酸除灰和化學(xué)拋光處理。

所述前處理的方法優(yōu)選采用以下步驟進(jìn)行：

(1)在50-70℃下，將金屬底材在堿蝕液中進(jìn)行堿蝕1-2min，然后用去離子水清洗2次；

(2)在10-35℃下，在出光液中出光3-5min，然后用去離子水清洗2次；

(3)在10-35℃下，在化拋液中拋光10-30s，然后用去離子水清洗2次。

上述堿蝕液優(yōu)選為15-20g/L氫氧化鈉水溶液；上述出光液優(yōu)選為200-300ml/L硝酸水溶液；所述化拋液優(yōu)選為含有650-750ml/L磷酸和350-250ml/L硫酸的水溶液。

此外，所述硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的具體條件可以為本領(lǐng)域所公知的各種條件。優(yōu)選地，所述硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的條件包括：氧化液為含有170-270g/L硫酸和8-20g/L草酸的溶液，溫度為5-12℃，脈沖波型為正向方波脈沖，占空比60-80％，頻率為500-1000Hz，電流密度為3-7A/dm²，氧化時(shí)間為30-60min。

在本發(fā)明中，通過(guò)上述步驟3)在金屬底材內(nèi)表面上形成有UV油墨層，并且具有在所述凹槽內(nèi)曝光顯影出的80-120μm寬的槽體。因此，在本步驟中進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理時(shí)，能夠在未被UV油墨層保護(hù)的金屬底材的外表面和所述凹槽內(nèi)曝光顯影出的槽體處形成硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層，由此通過(guò)所述凹槽和氧化膜層可供通訊信號(hào)穿過(guò)，實(shí)現(xiàn)正常的通訊功能。

步驟5)：去除所述第二保護(hù)層的步驟

在本步驟中，去除硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理后的金屬底材內(nèi)表面的第二保護(hù)層 (也即UV油墨層)的方法可以采用本領(lǐng)域常規(guī)使用的各種方法，例如可以采用脫漆劑浸泡的方法來(lái)除去所述第二護(hù)層。所述脫漆劑例如可以為購(gòu)于東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑。所述浸泡的時(shí)間通常為10-20min。

根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的情況下，該方法還包括在所述凹槽中填充UV膠水并固化的步驟。

所述UV膠水可以為本領(lǐng)域常用的各種UV膠水，所述UV膠水例如為購(gòu)于樂(lè)泰公司的3211型號(hào)的UV膠水。另外，所述UV膠水的固化方法可以采用本領(lǐng)域常規(guī)方法進(jìn)行，例如固化時(shí)間可以為3-8min，光強(qiáng)度為700-900mJ/cm²，固優(yōu)選地，化時(shí)間可以為5min，光強(qiáng)度為800mJ/cm²。

根據(jù)本發(fā)明的一種特別優(yōu)選的實(shí)施方式，如圖1A和圖1B所示，本發(fā)明的通訊設(shè)備金屬外殼的制備方法包括以下步驟：

(1)如圖1A中的(a)所示，用遮蔽件(優(yōu)選為絕緣膠帶)2遮蔽金屬底材1內(nèi)表面需要形成凹槽4的部分；

(2)如圖1A中的(b)所示，在遮蔽件2遮蔽金屬底材1內(nèi)表面需要形成凹槽4區(qū)域的條件下，在金屬底材1的遮蔽部分的以外的區(qū)域形成第一保護(hù)層(優(yōu)選為電泳漆層)3；

(3)如圖1A中的(c)和(d)所示，暴露出金屬底材1內(nèi)表面的遮蔽區(qū)域，并對(duì)該區(qū)域進(jìn)行蝕刻以形成所述凹槽4；

(4)如圖1A中的(e)和圖1B中(f)所示，除去金屬底材1表面的第一保護(hù)層3，并在金屬底材內(nèi)表面形成第二保護(hù)層(UV油墨層)5；

(5)如圖1B中(g)所示，在所述凹槽4內(nèi)曝光顯影出80-120μm寬的開(kāi)口6；

(6)如圖1B中(h)所示，對(duì)步驟3)得到的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理，形成氧化膜層9和裝飾層7，且氧化膜層9和裝飾層7為一體形 成的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化氧化膜層；

(7)如圖1B中(i)和(j)所示，去除硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理后的金屬底材1內(nèi)表面的UV油墨層5，并在凹槽4中填充UV膠水并固化，形成填充件8。

以下將通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但本發(fā)明并不僅限于下述實(shí)施例。

實(shí)施例1

1)將鋁合金(購(gòu)于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號(hào)為6063，厚度為0.4mm)切割為15mmx80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽的部分張貼絕緣膠帶(購(gòu)于深圳市西盟特電子有限公司，以下相同)，其中，粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬度為3mm、長(zhǎng)度為75mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為3mm。

通過(guò)電泳的方法形成保護(hù)層，其中，電泳的條件為：溫度為30℃，電壓為160V，時(shí)間為2min，PH為7.8；電泳液為：日本清水株式會(huì)社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會(huì)社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，得到35μm的保護(hù)層。

2)除去絕緣膠帶，并對(duì)該絕緣膠帶遮蔽區(qū)域進(jìn)行蝕刻，得到凹槽，該凹槽區(qū)域的金屬底材的厚度為0.08mm左右。其中，采用的蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，蝕刻的條件為：溫度為40℃，時(shí)間為54分鐘。

3)通過(guò)用脫漆劑進(jìn)行浸泡的方法除去金屬底材表面的保護(hù)層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)，然后，在金屬底材內(nèi)表面噴涂5680系UV油墨(購(gòu)于深圳萬(wàn)佳原精化科技股份有限公司，以下相同)后在80℃下烘烤25分鐘(形成的UV油墨層的厚度為15μm)，然后，進(jìn)行紫外曝光(曝光條件為時(shí)間2min，紫 外光強(qiáng)度為800mJ/cm²)，在上述凹槽內(nèi)曝光顯影出80μm寬的槽體。

4)在50℃下，將步驟3)得到的金屬底材在堿蝕液(55g/L氫氧化鈉水溶液)中進(jìn)行堿蝕2min，然后去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在出光液(25ml/L硝酸水溶液)中出光4min，然后用去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在化拋液(為含有750ml/L磷酸和250ml/L硫酸的水溶液)中拋光20s，然后用去離子水清洗2次；之后在80℃烘干20min，得到清洗烘干后的金屬底材。

將烘干后的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化電解液為含有硫酸190g/L和草酸10g/L的溶液，條件為：脈沖波型為正向方波脈沖，占空比為80％，頻率為800Hz，電流密度為5A/dm²，溫度為8℃，時(shí)間為50min。

5)通過(guò)用脫漆劑浸泡的方法去除硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理后的金屬底材內(nèi)表面的UV油墨層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)，然后，在金屬底材的凹槽中填充膠水(購(gòu)于樂(lè)泰公司的3211型號(hào)的UV膠水)后在紫外光強(qiáng)度為800mJ/cm²的條件下進(jìn)行固化，由此得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

實(shí)施例2

1)將鋁合金(購(gòu)于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號(hào)為6063，厚度為0.4mm)切割為15mmx80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽的部分張貼絕緣膠帶，其中，粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬度為4mm、長(zhǎng)度為75mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為3mm。

通過(guò)電泳的方法形成保護(hù)層，其中，電泳的條件為：溫度為30℃，電壓為160V，時(shí)間為2min，PH為7.8；電泳液為：日本清水株式會(huì)社的啞光漆(WNO-1)：日本清水株式會(huì)社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，得到35μm的保護(hù)層。

2)除去絕緣膠帶，并對(duì)該絕緣膠帶遮蔽區(qū)域進(jìn)行蝕刻，得到凹槽，該凹槽區(qū)域的金屬底材的厚度為0.1mm左右。其中，采用的蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，蝕刻的條件為：溫度為40℃，時(shí)間為51分鐘。

3)通過(guò)用脫漆劑進(jìn)行浸泡的方法除去金屬底材表面的保護(hù)層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)然后，在金屬底材內(nèi)表面噴涂5680系UV油墨后在80℃下烘烤25分鐘(形成的UV油墨層的厚度為15μm)，然后，進(jìn)行紫外曝光(曝光條件為時(shí)間2min，紫外光強(qiáng)度為800mJ/cm²)，在上述凹槽內(nèi)曝光顯影出100μm寬的槽體。

4)在50℃下，將步驟3)得到的金屬底材在堿蝕液(55g/L氫氧化鈉水溶液)中進(jìn)行堿蝕2min，然后去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在出光液(25ml/L硝酸水溶液)中出光4min，然后用去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在化拋液(為含有750ml/L磷酸和250ml/L硫酸的水溶液)中拋光20s，然后用去離子水清洗2次；之后在80℃烘干20min，得到清洗烘干后的金屬底材。

將烘干后的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化電解液為含有硫酸190g/L和草酸10g/L的溶液，條件為：脈沖波型為正向方波脈沖，占空比為80％，頻率為800Hz，電流密度為5.5A/dm²，溫度為8℃，時(shí)間為50min。

5)通過(guò)用脫漆劑浸泡的方法去除硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理后的金屬底材內(nèi)表面的UV油墨層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)，然后，在金屬底材的凹槽中填充膠水(購(gòu)于樂(lè)泰公司的3211型號(hào)的UV膠水)后在紫外光強(qiáng)度為800mJ/cm²的條件下進(jìn)行固化，由此得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

實(shí)施例3

1)將鋁合金(購(gòu)于東莞市港祥金屬材料有限公司公司，牌號(hào)為6063，厚度為0.4mm)切割為15mmx80mm的尺寸作為金屬底材。在金屬底材內(nèi)表面需要形成凹槽的部分張貼絕緣膠帶(購(gòu)于西盟特公司)，其中，粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬度為5mm、長(zhǎng)度為75mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為3mm。

通過(guò)電泳的方法形成保護(hù)層，其中，電泳的條件為：溫度為30℃，電壓為160V，時(shí)間為2min，PH為7.8；電泳液為：日本清水株式會(huì)社的啞光漆 (WNO-1)：日本清水株式會(huì)社的亮光漆(NNO-4)＝7：3(重量比，電泳液的固含量為13重量％)，得到35μm的保護(hù)層。

2)除去絕緣膠帶，并對(duì)該絕緣膠帶遮蔽區(qū)域進(jìn)行蝕刻，得到凹槽，該凹槽區(qū)域的金屬底材的厚度為0.12um左右。其中，采用的蝕刻液為含有50g/L氫氧化鈉、50g/L碳酸鈉以及50g/L硝酸鈉的溶液，蝕刻的條件為：溫度為40℃，時(shí)間為51分鐘。

3)通過(guò)用脫漆劑浸泡的方法除去金屬底材表面的保護(hù)層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665型號(hào)的脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)，然后，在金屬底材內(nèi)表面噴涂5680系UV油墨后在80℃下烘烤25分鐘(形成的UV油墨層的厚度為0.015mm)，然后，進(jìn)行紫外曝光(曝光條件為時(shí)間2min，紫外光強(qiáng)度為800mJ/cm²)，在上述凹槽內(nèi)曝光顯影出120μm寬的槽體。

4)在50℃下，將步驟3)得到的金屬底材在堿蝕液(55g/L氫氧化鈉水溶液)中進(jìn)行堿蝕2min，然后去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在出光液(25ml/L硝酸水溶液)中出光4min，然后用去離子水清洗2次；然后，在25℃下，在化拋液(為750ml/L磷酸和250ml/L硫酸的水溶液)中拋光20s，然后用去離子水清洗2次；之后在80℃烘干20min，得到清洗烘干后的金屬底材。

將烘干后的金屬底材進(jìn)行硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理。硬質(zhì)陽(yáng)極氧化電解液為含有硫酸190g/L和草酸10g/L的溶液，條件為：脈沖波型為正向方波脈沖，占空比為80％，頻率為800Hz，電流密度為6A/dm²，溫度為8℃，時(shí)間為50min。

5)通過(guò)用脫漆劑浸泡的方法去除硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理后的金屬底材內(nèi)表面的UV油墨層(脫漆劑為東莞市四輝表面處理科技有限公司的SH-665脫漆劑，浸泡時(shí)間為15分鐘)，然后，在金屬底材的凹槽中填充膠水(購(gòu)于樂(lè)泰公司的3211型號(hào)的UV膠水)后在紫外光強(qiáng)度為800mJ/cm²的條件下進(jìn) 行固化，由此得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

實(shí)施例4

按照實(shí)施例1的方式進(jìn)行，不同的是粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬度為5mm、長(zhǎng)度為80mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為3mm，同樣地得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

實(shí)施例5

按照實(shí)施例1的方式進(jìn)行，不同的是粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬 度為3mm、長(zhǎng)度為60mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為2mm，同樣地得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

實(shí)施例6

按照實(shí)施例1的方式進(jìn)行，不同的是粘貼絕緣膠帶2條，絕緣膠帶的寬度為3mm、長(zhǎng)度為40mm，相鄰的絕緣膠帶之間的間距為2mm，同樣地得到通訊設(shè)備金屬外殼。

如圖1B中的(j)所示，上述制備得到的通訊設(shè)備金屬外殼包括金屬底材1、凹槽4、氧化膜層9、填充件8和覆蓋所述金屬底材1外表面的裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7；所述凹槽4的開(kāi)口位于所述金屬底材1內(nèi)表面；所述氧化膜層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)9位于所述凹槽區(qū)域的部分金屬底材上并且在厚度方向上貫穿所述金屬底材1，且與所述裝飾層(硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜層)7一體形成，所述填充件8填充所述凹槽4。該通訊設(shè)備金屬外殼其天線槽外觀不可見(jiàn)，所述氧化膜層和表面裝飾層一體形成，金屬外殼表觀整潔光滑平整一致，且金屬質(zhì)感明顯。

以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方 案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型，這些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

另外需要說(shuō)明的是，在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過(guò)任何合適的方式進(jìn)行組合，為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說(shuō)明。

此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開(kāi)的內(nèi)容。