一種托盤系統的制作方法
【技術領域】
[0001 ]本實用新型涉及半導體刻蝕技術領域，尤其涉及一種托盤系統。
【背景技術】
[0002]藍光LED(Light Emitting D1de)是一種應用最為廣泛的LED，其出光效率是其最重要的性能指標之一。目前，主要通過應用PSS襯底(Patterned Sapphire Substrate，圖形化藍寶石襯底)的方法來提高藍光LED的出光效率。
[0003]目前，主要使用ICP(InductivelyCoupled Plasma，感應親合等離子體)刻蝕技術制作PSS襯底，在制作PSS襯底的過程中需要使用托盤系統，如圖1和圖2所示，現有技術中的托盤系統包括托盤I’、蓋板2 ’和密封圈3’，托盤I’具有一凸臺11’，凸臺11’上設置有多個氦氣孔(圖中未示出)，密封圈3’內嵌在凸臺11’的邊緣位置處的凹槽12’中，用以將冷卻介質(例如氦氣)密封在晶片4’和凸臺11’之間，蓋板2’包括本體和設置在本體的邊緣上的多個壓爪。具體地，托盤系統的使用方式如下:先將晶片4’(例如藍寶石襯底)裝載在托盤I’的凸臺11’上，接著裝配蓋板2’，通過蓋板2’的壓爪將晶片4’固定在凸臺11’上，然后將晶片4’、托盤I’和蓋板2’固定，最后將整個裝有晶片4’的托盤系統傳進工藝腔室中對晶片4’進行刻蝕。
[0004]本申請的發明人發現，在對晶片4’進行刻蝕的過程中，托盤I’的凸臺11’的邊緣會暴露在刻蝕環境中，密封圈3 ’會被刻蝕粒子刻蝕而損壞，進而影響密封圈3 ’的密封效果，導致冷卻介質泄漏，托盤系統無法使用。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型的目的在于提供一種托盤系統，用于在刻蝕過程中，避免密封圈的損壞，維持托盤系統的正常使用。
[0006]為達到上述目的，本實用新型提供一種托盤系統，采用如下技術方案:
[0007]該托盤系統包括托盤、蓋板和密封圈，所述托盤具有至少一個凸臺，用于承載晶片，所述密封圈設置于所述凸臺上，用于密封所述凸臺和所述晶片之間的空間，防止冷卻介質泄漏，所述蓋板包括本體和設置在所述本體上的至少一個通孔，所述通孔與所述凸臺一一對應，所述通孔的邊緣上設有至少一個壓爪，所述通孔的邊緣上還設有至少一個裙邊，所述托盤和所述蓋板裝配后，所述裙邊遮蓋所述凸臺的邊緣。
[0008]本實用新型提供了一種如上所述的托盤系統，由于該托盤系統包括的蓋板不僅包括設置于本體上的通孔的邊緣上的至少一個壓爪，還包括設于通孔的邊緣上的至少一個裙邊，且當將托盤和蓋板裝配后，裙邊遮蓋凸臺的邊緣，從而使得在對晶片進行刻蝕的過程中，裙邊對凸臺的邊緣具有保護作用，能夠有效阻擋刻蝕粒子到達凸臺的邊緣，避免了密封圈的損壞，保證了密封圈的密封效果，有效防止了冷卻介質泄漏，進而能夠維持托盤系統的正常使用。
【附圖說明】
[0009]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0010]圖1為現有技術中的托盤系統的壓爪區域的截面示意圖；
[0011]圖2為現有技術中的托盤系統的非壓爪區域的截面示意圖；
[0012]圖3為本實用新型實施例中的托盤系統的壓爪區域的截面示意圖；
[0013]圖4為本實用新型實施例中的托盤系統的非壓爪區域的截面示意圖；
[0014]圖5為本實用新型實施例中的凸臺的平面示意圖。
[0015]附圖標記說明:
[0016]I—托盤； 11—凸臺；12—氣孔；
[0017]13—凹槽； 2—蓋板；21—本體；
[0018]22—壓爪； 23—裙邊；3—密封圈；
[0019]4—晶片。
【具體實施方式】
[0020]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0021]如圖3和圖4所示，本實用新型實施例提供了一種托盤系統，包括托盤1、蓋板2和密封圈3，其中，托盤I具有至少一個凸臺11，用于承載晶片4，密封圈3設置于凸臺11的邊緣上，用于密封凸臺11和晶片4之間的空間，防止冷卻介質泄漏，蓋板2包括本體21和設置在本體21上至少一個通孔，通孔與凸臺11一一對應，通孔的邊緣上設置有至少一個壓爪22，通孔的邊緣上還設置有至少一個裙邊23，當在托盤系統使用過程中，將托盤I和蓋板2裝配后，裙邊23的遮蓋凸臺11的邊緣，從而使得在對晶片4進行刻蝕的過程中，裙邊23對凸臺11的邊緣具有保護作用，能夠有效阻擋刻蝕粒子到達凸臺11的邊緣，進而避免了密封圈3的損壞，保證了密封圈2的密封效果，有效防止了冷卻介質泄漏，進而能夠維持托盤系統的正常使用。
[0022]其中，通孔的邊緣上可以設有多個壓爪22和多個裙邊23，壓爪22和裙邊23沿通孔的邊緣均勻分布，且交替設置。蓋板2包括的本體21、壓爪22和裙邊23可以一體成型。如圖3和圖4所示，密封圈3可以內嵌在凸臺11的邊緣上的凹槽13中。如圖5所示，凸臺11上可以設置有多個氣孔12，以向晶片4 (例如藍寶石襯底)和凸臺11之間的空間內通入冷卻介質(例如氦氣)，以對放置于凸臺11上的晶片4進行冷卻，保證刻蝕的順利進行。
[0023]進一步地，蓋板2還可以包括位于本體21內側，且位于裙邊23下方的填充部(圖中未示出)，托盤I和蓋板2裝配后，填充部的側面與凸臺11的側面接觸，由于填充部對裙邊23具有支撐作用，從而能夠有效提高裙邊23的強度和壽命，進而提高托盤系統的壽命。優選地，填充部、本體21、壓爪22和裙邊23—體成型。
[0024]可選地，托盤I的材質為Al(鋁)，蓋板2的材質可以為石英、陶瓷、SiC(碳化硅)或AI。本申請的發明人發現，蓋板2的材質會對刻蝕結果產生影響，因此，蓋板2的材質應該根據實際情況(例如晶片4上的圖形形貌)進行選擇。示例性地，對于提高藍光LED的出光效率的效果最好的側壁平直的圓錐形貌而言，蓋板2的材質應選擇為具有相對硬度高、壽命長、易維護、刻蝕選擇比高等優點的Al。
[0025]可選地，如圖3和圖4所示，本實用新型實施例中的凹槽13優選為燕尾槽，與側壁垂直的凹槽相比，燕尾槽具有開口較小，且兩側厚度較大的優點，從而能夠更好地固定密封圈3。
[0026]需要說明的是，上述裙邊23的具體形狀可以有多種，只要其能阻擋刻蝕粒子即可，本實用新型實施例對此不進行限定。本實用新型實施例中，為了防止裙邊23對凸臺11的上表面造成刮傷，優選如圖3所示，裙邊23的下表面為與凸臺11的上表面平行的平面。進一步地，如圖3所示，裙邊23的上表面和裙邊23的下表面均為與凸臺11的上表面平行的平面;或者，裙邊23的上表面為斜面或者曲面，裙邊23的下表面為與凸臺11的上表面平行的平面。
[0027]本申請的發明人發現，當托盤I和蓋板2的材質均為Al時，由于Al為良導體，從而使得托盤I和蓋板2在刻蝕環境中會產生自偏壓分