沉積用掩模制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發明的實施方式涉及沉積用掩模制造方法。
【背景技術】
[0002]通常，作為有源發光型顯示元件，作為平板顯示器之一的有機發光顯示裝置不僅具有視角寬、對比度優異的優點，而且還具有能夠通過低電壓驅動、呈輕量的扁平狀并且響應速度快的優點，由此作為下一代顯示元件而備受矚目。
[0003]這種發光元件根據形成發光層的物質劃分為無機發光元件和有機發光元件，并且相比于無機發光元件，有機發光元件具有亮度、響應速度等特性優秀、能夠以彩色顯示的優點，因此對其的開發最近廣為進行。
[0004]有機發光顯示裝置通過真空沉積法形成有機膜和/或電極。然而，隨著有機發光顯示裝置逐漸被高分辨率化，沉積工藝中所用的掩模的開放式狹縫(open slit)的寬度逐漸變窄并且其散布也需要被進一步減小。
[0005]此外，為了制造高分辨率有機發光顯示裝置，需要減少或去除陰影現象(shadoweffect) ο為此，目前在襯底與掩模緊貼的狀態下進行沉積工藝，并且正在興起用于改善襯底與掩模的附接度的技術的開發。
[0006]上述的【背景技術】是發明人為得出本發明而擁有的技術信息或者在本發明的得出過程中習得的技術信息，并不一定是在本發明的實施方式的申請前已公開于一般公眾的公知技術。
【發明內容】
[0007]本發明的實施方式提供沉積用掩模制造方法。
[0008]本發明的實施方式公開了沉積用掩模制造方法，該方法包括:將光致抗蝕劑層涂覆到襯底的一面并經過曝光工藝和顯影工藝在襯底的一面形成光致抗蝕劑圖案的步驟；對通過光致抗蝕劑圖案暴露的所述襯底進行濕法蝕刻(wet etching)以在襯底的一面形成多個圖案槽的步驟；以及對襯底中作為一面的相反側的另一面進行切削以使多個圖案槽貫通襯底進而形成多個圖案孔。
[0009]在本實施方式中，在形成多個圖案槽的步驟與形成多個圖案孔的步驟之間，還可以包括在多個圖案槽中形成聚合物(polymer)的步驟。
[0010]在本實施方式中，在形成多個圖案孔的步驟之后，還可以包括去除聚合物的步驟。
[0011]在本實施方式中，其特征可在于，作為對襯底的另一面進行切削的方法，對襯底的另一面進行研磨(polishing)加工。
[0012]在本實施方式中，其特征可在于，作為對襯底的另一面進行切削的方法，使用激光對襯底的另一面進行加工。
[0013]在本實施方式中，其特征可在于，在形成多個圖案孔的步驟中，圖案孔形成為在從襯底的一面側至襯底的另一面側的方向上逐漸變窄。
[0014]在本實施方式中，在形成多個圖案孔的步驟之后，還可以包括清洗襯底的步驟。
[0015]本發明的另一實施方式公開了沉積用掩模制造方法，該方法包括:將第一光致抗蝕劑層涂覆到襯底的一面并經過曝光工藝和顯影工藝在襯底的一面形成第一光致抗蝕劑圖案的步驟；將第二光致抗蝕劑層涂覆到作為襯底的一面的相反側的另一面并經過曝光工藝和顯影工藝在襯底的另一面形成寬度小于所述第一光致抗蝕劑圖案的寬度的第二光致抗蝕劑圖案的步驟；對通過第一光致抗蝕劑圖案和第二光致抗蝕劑圖案暴露的襯底的一面和另一面進行濕法蝕刻(wet etching)，以在所述襯底的一面形成多個第一圖案槽并且在襯底的另一面形成寬度小于多個第一圖案槽的寬度的多個第二圖案槽的步驟；以及對襯底的另一面進行切削以使多個第一圖案槽貫通襯底進而形成多個圖案孔的步驟。
[0016]在本實施方式中，在形成多個第一圖案槽和多個第二圖案槽的步驟與形成多個圖案孔的步驟之間，還可以包括在多個第一圖案槽和多個第二圖案槽中形成聚合物(polymer)的步驟。
[0017]在本實施方式中，在形成多個圖案孔的步驟之后，還可以包括去除聚合物的步驟。
[0018]在本實施方式中。其特征可在于，作為對襯底的另一面進行切削的方法，對襯底的另一面進行研磨加工。
[0019]在本實施方式中，其特征可在于，作為對襯底的另一面進行切削的方法，對襯底的另一面進行激光加工。
[0020]在本實施方式中，其特征可在于，在形成多個圖案孔的步驟中，圖案孔形成為在從襯底的一面側至襯底的另一面側的方向上逐漸變窄。
[0021]在本實施方式中，在形成多個圖案孔的步驟之后，還可以包括清洗襯底的步驟。
[0022]本發明的又一實施方式公開了沉積用掩模制造方法，該方法包括:將光致抗蝕劑層涂覆到襯底的一面并經過曝光工藝和顯影工藝在襯底的一面形成光致抗蝕劑圖案的步驟；對通過光致抗蝕劑圖案暴露的襯底進行濕法蝕刻(wet etching)以在襯底的一面形成多個圖案槽的步驟；以及使用激光對圖案槽進行加工以形成貫通襯底的多個圖案孔。
[0023]在本實施方式中，其特征可在于，在形成多個圖案孔的步驟中，圖案孔形成為在從襯底的一面側至襯底的另一面側的方向上逐漸變窄。
[0024]在本實施方式中，在形成多個圖案孔的步驟之后，還可以包括清洗襯底的步驟。
[0025]通過下面的附圖、權利要求書和發明的詳細說明，除了上述以外的其他方面、特征、優點將變得明確。
[0026]根據以如上所述方式構成的本發明的一個實施方式，沉積用掩模制造方法能夠制造去除了坎的掩模，從而減少了沉積時的陰影現象(shadow effect) 0當然，本發明的范圍并非由這種效果限定。
【附圖說明】
[0027]圖1至圖7是階段性示出根據本發明實施方式的沉積用掩模的制造方法的剖面圖。
[0028]圖8至圖13是階段性示出根據本發明另一實施方式的沉積用掩模的制造方法的剖面圖。
【具體實施方式】
[0029]本發明可以實施多種變型并且可以具有多種實施方式，并且旨在附圖中示出特定實施方式并對其進行詳細說明。通過參照結合附圖詳細說明的實施方式，本發明的效果和特征以及實現其的方法將變得明確。然而，本發明并不限于下面所公開的實施方式，而是可以多種形態實現。
[0030]在下面的實施方式中，“第一”、“第二”等的措辭并不具有限定的含義，而是以將一個構成要素與其他構成要素區分開的目的使用。此外，除非文中另有明確指示，否則單數的表述包括復數的表述。此外，“包括”或“具有”等的措辭是指說明書中所述記載的特征或構成要素的存在，而不是提前排除一個以上的其他特征或構成要素的附加可能性。
[0031]此外，為了說明的便利，附圖中構成要素的大小可以被夸大或被縮小。例如，為了說明的便利，附圖中所示的各構件的大小和厚度被任意示出，因此本發明并不一定限定于圖中所示。此外，當能夠以不同的方式實現某些實施方式時，特定的工藝可以按照與所說明的順序不同的順序執行。例如，連續說明的兩個工藝可以實質上同時執行，也可以按照與所說明的順序相反的順序進行。
[0032]下面，將參照附圖對本發明的實施方式進行詳細說明，并且在參照附圖進行說明時，將對相同或對應的構成要素賦予相同的附圖標記，并且將省略對其的重復描述。
[0033]圖1至圖7是階段性示出根據本發明的一個實施方式的沉積用掩模的制造方法的剖面圖。
[0034]首先，參照圖1，沉積用掩模(圖7的附圖標記10)的制造方法始于準備可層疊將要后述的多種結構物的襯底100。
[0035]如圖2所示，襯底100上涂覆有光致抗蝕劑層200。這種光致抗蝕劑層200可選自正(positive)型和負(negative