陣列基板、薄膜晶體管、顯示器件的制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板、薄膜晶體管、顯示器件的制作方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]陣列基板是一些顯示產品的重要組成部分。如圖1所示，陣列基板主要可以分為顯示區域10和非顯示區域20。未在圖中詳細示出的是，顯示區域10內設有橫向排列的柵極信號線和縱向排列的源漏極信號線，柵極信號線和源漏極信號線交叉限定出顯示區域10內的若干個子像素區域。每個子像素區域內，配置有主要由薄膜晶體管(Thin FilmTransistohTFT)形成的電路結構。非顯示區域20主要包括柵極信號驅動區域201和源極信號驅動區域202。
[0003]在傳統的底柵結構下，柵極信號線會與薄膜晶體管的柵電極在第一次金屬的構圖工藝中形成，而在形成柵絕緣層之后源漏極信號線則會與薄膜晶體管的源電極和漏電極在第二次金屬的構圖工藝中形成。如圖2所示，基板301上依次形成了柵金屬層304、柵絕緣層203和源漏金屬層303，圖示位置為源漏極信號線與柵極信號線相互交疊的位置。此處，由于柵金屬層304的邊緣處存在坡度角，因而其坡面上形成的源漏金屬層303很容易產生缺陷。具體來說，較大的坡度角容易造成坡面上的感光膠涂覆不均，進而在刻蝕形成源漏金屬層303時，未被充分覆蓋的金屬膜層就會被刻蝕液鉆刻，嚴重時會導致斷路。
[0004]為解決該問題，現有技術通常會通過在有柵極信號線和源漏極信號線交疊的部位增加有源層墊片來緩解坡度角的影響，如圖3中設置在柵金屬層304與源漏金屬層303之間的有源層墊片305。通過這樣的方式，雖然能在一定程度上緩解坡度角帶來源漏金屬層缺陷問題，但其相當于向柵極信號線和源漏極信號線之間增設了介質材料，造成耦合電容的增大;不僅會影響信號線的信號傳輸性能，還會帶來靜電擊穿的風險。
【發明內容】
[0005]針對現有技術的缺陷，本發明提供一種陣列基板、薄膜晶體管、顯示器件的制作方法、顯示裝置，可以改善源漏極金屬層中由柵極金屬層邊緣處的坡度角所導致的內部缺陷。
[0006]第一方面，本發明提供了一種陣列基板，包括:基板和依次形成在所述基板上的柵極金屬層、絕緣層和源漏極金屬層;其中，
[0007]所述柵極金屬層由至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層構成；
[0008]所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述基板的方向逐層增大；
[0009]所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層的膜層面積沿著背離所述基板的方向逐層減小。
[0010]可選地，所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層均采用同一種金屬材料形成；所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層的致密程度沿著背離所述基板的方向逐層減小。
[0011]可選地，所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層在經圖案化處理之前，由同一種金屬沉積工藝在不同工藝參數下逐層形成，使得其在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述基板的方向逐層增大。
[0012]可選地，所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層的膜層厚度均相同。
[0013]第二方面，本發明提供了一種薄膜晶體管，包括:襯底和依次形成在所述襯底上的柵極金屬層、絕緣層和源漏極金屬層;其中，
[0014]所述柵極金屬層由至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層構成；
[0015]所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述襯底的方向逐層增大；
[0016]所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層的膜層面積沿著背離所述襯底的方向逐層減小。
[0017]可選地，所述至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層在經圖案化處理之前，由同一種金屬沉積工藝在不同工藝參數下逐層形成，使得其在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述襯底的方向逐層增大。
[0018]第三方面，本發明提供了一種顯示器件的制作方法，包括:
[0019]在基板的一側形成至少兩個依次層疊的金屬膜層;所述至少兩個依次層疊的金屬膜層在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述基板的方向逐層增大；
[0020]通過對所述至少兩個依次層疊的金屬膜層進行包括使用所述金屬刻蝕液對所述至少兩個依次層疊的金屬膜層一起進行刻蝕的圖案化處理，以形成由膜層面積沿著背離所述基板的方向逐層減小的至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層構成的柵極金屬層；
[0021 ]在所述柵極金屬層和所述基板上形成絕緣層；
[0022]在所述絕緣層上形成包括源漏極金屬層的圖形。
[0023]可選地，所述至少兩個依次層疊的金屬膜層均采用同一種金屬材料形成;所述至少兩個依次層疊的金屬膜層的致密程度沿著背離所述襯底的方向逐層減小。
[0024]可選地，所述在基板的一側形成至少兩個依次層疊的金屬膜層，具體包括:
[0025]采用同一種金屬沉積工藝在不同工藝參數下逐層形成所述至少兩個依次層疊的金屬膜層，使得其在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離所述襯底的方向逐層增大。
[0026]可選地，所述在基板的一側形成至少兩個依次層疊的金屬膜層，具體包括:
[0027]采用磁控濺射工藝在不同工藝參數下逐層形成所述至少兩個依次層疊的金屬膜層，使得所述至少兩個依次層疊的金屬膜層的致密程度沿著背離所述襯底的方向逐層減小。
[0028]可選地，所述至少兩個依次層疊的金屬膜層的膜層厚度均相同。
[0029]第四方面，本發明提供了一種顯示裝置，包括上述任意一種陣列基板、上述任意一種薄膜晶體管，或者采用上述任意一種顯示器件的制作方法制作形成的顯示器件。
[0030]由上述技術方案可知，本發明實施例中的柵極金屬層由至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層構成，其中至少兩個依次層疊的圖案化金屬膜層在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離基板的方向逐層增大的，且膜層面積沿著背離基板的方向逐層減小，使得源漏極金屬層與柵極金屬層之間的坡度角端差由一個過大的坡度角端差分散為至少兩個小的坡度角端差，從而可以改善源漏極金屬層中由柵極金屬層邊緣處的坡度角所導致的內部缺陷。
[0031]相對于現有技術來說，本發明可以避免現有技術中通過在柵極信號線和源漏極信號線交疊的部位增加有源層墊片來緩解坡度角的方式對信號線的信號傳輸性能的影響以及其所存在的靜電擊穿風險，因而有利于提升良率、降低生產成本。
[0032]而且本發明采用同一種金屬沉積工藝在不同工藝參數下逐層形成至少兩個依次層疊的金屬膜層，使得其在同一種金屬刻蝕液下的刻蝕速率沿著背離襯底的方向逐層增大，并采用磁控濺射工藝在不同工藝參數下逐層形成至少兩個依次層疊的金屬膜層，使得所述至少兩個依次層疊的金屬膜層的致密程度沿著背離襯底的方向逐層減小，實現將源漏極金屬層與柵極金屬層之間的坡度角端差由一個過大的坡度角端差分散為至少兩個小的坡度角端差，從而可以改善源漏極金屬層中由柵極金屬層邊緣處的坡度角所導致的內部缺陷，簡化制作工藝、降低生產成本。
[0033]當然，實施本發明的任一產品或方法并不一定需要同時達到以上所述的所有優點。
【附圖說明】
[0034]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本