用于打印成膜工藝的凹槽結構及其制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及有機發光二極管顯示器件制造技術領域，尤其涉及一種用于打印成膜工藝的凹槽結構及其制作方法。
【背景技術】
[0002]有機發光二極管(Organic Light Emitting Display，0LED)顯示器件具有自發光、驅動電壓低、發光效率高、響應時間短、清晰度與對比度高、近180°視角、使用溫度范圍寬，可實現柔性顯示與大面積全色顯示等諸多優點，被業界公認為是最有發展潛力的顯示
目.ο
[0003]0LED顯示器件的結構一般包括:基板、設于基板上的陽極、設于陽極上的陰極以及夾在陽極與陰極之間的有機功能層。其中有機功能層，一般包括空穴傳輸功能層(HoleTransport Layer，HTL)、發光功能層(Emissive Layer，EML)、及電子傳輸功能層(ElectronTransport Layer，ETL)。每個功能層可以是一層，或者一層以上，例如空穴傳輸功能層，可以細分為空穴注入層(Hole Inject1n Layer，HIL)和空穴傳輸層；電子傳輸功能層，可以細分為電子傳輸層和電子注入層(Electron Inject1n Layer，EIL) WLED顯示器件的發光原理為半導體材料和有機發光材料在電場驅動下，通過載流子注入和復合導致發光。
[0004]0LED顯示器件的制作方法通常為，先在基板上形成陽極，在該陽極上形成空穴傳輸功能層，在空穴傳輸功能層上形成發光功能層，在發光功能層上形成電子傳輸功能層，在電子傳輸功能層上形成陰極，其中陰極與陽極的材料通常采用氧化銦錫(ΙΤ0) dTUEML、ETL等有機功能層的制備方式通常包括真空熱蒸鍍(Vacuum Thermal Evaporat1n)與溶液成膜(Solut1n Process)兩種。
[0005]所謂溶液成膜即是把所需材料經過處理，比如分散成納米級的微小顆粒，然后溶解在相應的溶液中，再應用成膜設備將該溶液沉積在基板表面，帶溶劑揮發后，即可在基板表面形成所需薄膜。成膜的具體方式又可以細分為噴墨打印(Ink-jet Printing)、連續打印(Nozzle Printing)、滾筒打印(Roller Printing)、旋轉涂布(Spin Coating)等。
[0006]在應用過打印成膜工藝的基板上，通常會制作凹槽，用來限制住墨水，通過干燥烘烤后，墨水收縮在該凹槽限制的范圍內形成薄膜。請參閱圖1，所述凹槽120由設于基板100、及ΙΤ0陽極130四周邊緣上的堤壩110圍成，通過在凹槽120內沉積墨水，形成空穴注入層140、空穴傳輸層150、發光功能層160等有機功能層。請參閱圖2，通常設置堤壩110的內周面與基板100的上表面形成的斜角α < 60°，沉積于該凹槽120內的墨水與凹槽上表面的接觸角Θ > 45°。
[0007]墨水與堤壩110的傾斜內周面的之間的接觸角對于成膜的平整度有很大的影響。請參閱圖3，由于不同墨水的親水性不同，對于親水性較好的墨水，會在堤壩110的傾斜內周面上爬坡較高，導致接觸角Θ過小，進而導致最終形成薄膜的厚度均勻性較差，在打印成膜0LED顯示器件的有機功能層時，會導致有機功能層中間先亮，影響顯示效果。
【發明內容】
[0008]本發明的目的在于提供一種用于打印成膜工藝的凹槽結構，能夠改善在該凹槽內打印出的有機功能層薄膜厚度的均勻性，提高有機功能層的光電性能。
[0009]本發明的目的還在于提供一種用于打印成膜工藝的凹槽的制作方法，采用該方法制得的凹槽能夠改善在該凹槽內打印出的有機功能層薄膜厚度的均勻性，提高有機功能層的光電性能。
[0010]為實現上述目的，本發明提供了一種用于打印成膜工藝的凹槽結構，該凹槽結構位于基板上，包括堤壩、及由堤壩圍攏成的凹槽；
[0011]所述堤壩至少包括兩層層疊設置的分支堤壩層，所述分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角自最下層分支堤壩層往最上層分支堤壩層逐層增大。
[0012]所述凹槽結構用于0LED顯示器件的有機功能層的打印成膜，所述基板上設有陽極，所述圍攏成凹槽的堤壩設于所述陽極的四周邊緣及基板上。
[0013]可選的，所述堤壩包括設于所述陽極的四周邊緣及基板上的第一分支堤壩層、及層疊于所述第一分支堤壩層上的第二分支堤壩層。
[0014]所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角小于10°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于20°，所述第一分支堤壩層上表面與陽極上表面的距離為50nm?800nmo
[0015]可選的，所述堤壩包括設于所述陽極的四周邊緣及基板上的第一分支堤壩層、層疊于所述第一分支堤壩層上的第二分支堤壩層、及層疊設于所述第二分支堤壩層上的第三分支堤壩層。
[0016]所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角小于10°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于20°且小于30°，所述第三分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于30°且小于40°，所述第一分支堤壩層上表面與陽極上表面的距離為50nm?800nmo
[0017]本發明還提供一種用于打印成膜工藝的凹槽的制作方法，包括如下步驟:
[0018]步驟1、提供一基板和至少兩種分支堤壩層材料；
[0019]步驟2、使用所述至少兩種分支堤壩層材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝在基板上依次制作至少兩層層疊設置的分支堤壩層，形成堤壩，所述堤壩圍攏成凹槽；
[0020]所述分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角自最下層分支堤壩層往最上層分支堤壩層逐層增大。
[0021]可選的，所述步驟1中，基板上設有陽極；
[0022]所述步驟2具體包括:
[0023]步驟21、使用第一種分支堤壩材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝于所述陽極的四周邊緣及基板上形成第一分支堤壩層；
[0024]所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角小于10°，所述第一分支堤壩層上表面與陽極上表面距離為50nm?800nm;
[0025]步驟22、使用第二種分支堤壩材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝形成層疊于所述第一分支堤壩層上的第二分支堤壩層；
[0026]所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于20°。
[0027]可選的，所述步驟1中，基板上設有陽極；
[0028]所述步驟2具體包括:
[0029]步驟21、使用第一種分支堤壩材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝于所述陽極的四周邊緣及基板上形成第一分支堤壩層；
[0030]所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角小于10°，所述第一分支堤壩層上表面與陽極上表面距離為50nm?800nm;
[0031]步驟22、使用第二種分支堤壩材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝形成層疊于所述第一分支堤壩層上的第二分支堤壩層；
[0032]所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于20°且小于30。；
[0033]步驟23、使用第三種分支堤壩材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝形成層疊設于所述第二分支堤壩層上的第三分支堤壩層；
[0034]所述第三分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角大于30°且小于 40°。
[0035]所述步驟1中提供的至少兩種分支堤壩層材料的親水性不同。
[0036]本發明的有益效果:本發明提供的一種用于打印成膜工藝的凹槽結構，將圍攏成的凹槽的堤壩設置為至少包括兩層層疊設置的分支堤壩層，且所述分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內周面與墨水形成的接觸角自最下層分支堤壩層往最上層分支堤壩層逐層增大，能夠限制墨水在凹槽的傾斜內周面的爬升高度，改善在凹槽內打印出的有機功能層薄膜厚度的均勻性，提高有機功能層的光電性能。本發明提供的一種用于打印成膜工藝的凹槽的制作方法，采用該方法制得的凹槽能夠限制墨水在凹槽的傾斜內周面的爬升高度，改善在該凹槽內打印出的有機功能層薄膜厚度的均勻性，提高有機功能層的光電性能。
【附圖說明】
[0037]為了能更進一步了解本發明的特征以及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發明加以限制。
[0038]附圖中，
[0039]圖1為現有的0LED顯示器件制作過程中通過打印成膜方式制備有機功能層的示意圖；
[0040]圖2為現有的打印成膜方式中凹槽與墨水的關系示意圖；
[0041]圖3為現有的打印成膜方式中當墨水在圍成凹槽的堤壩的傾斜內周面上爬升過高時，墨水與凹槽的關系示意圖；
[0042]圖4為本發明的用于打印成膜工藝的凹槽結構的第一實施例的示意圖；
[0043]圖5為本發明的用于打印成膜工藝的凹槽結構的第二實施例的示意圖；
[0044]圖6為本發明的用于打印成膜工藝的凹槽制作方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0045]為更進一步闡述本發明所采取的技術手段及其效果，以下結合本發明的優選實施例及其附圖進行詳細描述。
[0046]本發明首先提供一種用于打印成膜工藝的凹槽結構，圖4、圖5所示分別為本發明的用于打印成膜工藝的凹槽結構的第一實施例、第二實施例。
[0047]該凹槽結構位于基板1上，包括:堤壩2、及由堤壩2圍成攏的凹槽3。
[0048]所述堤壩2至少包括兩層層疊設置的分支堤壩層，所述分支堤壩層圍攏成凹槽3的傾斜內周面與墨水形成的接觸角自最下層分支堤壩層往最上層分支堤壩層逐層增大。
[0049]所述至少兩層分支堤壩層由親水性不同的材料形成，進而使得不同分支堤壩層圍成凹槽3的傾斜內周面與墨水形成的接觸角不同。
[0050]進一步地所述凹槽結構用于0LED顯示器件的有機功能層的打印成膜，所述基板1上還設有陽極11，所述圍攏成凹槽3的堤壩2設于所述陽極11的四周邊緣及基板1上。優選的，所述基板1為玻璃基板，陽極11的材料為ΙΤ0。
[0051]具體地，請參閱圖4，在本發明的的用于打印成膜工藝的凹槽結構的第一實施例中，所述堤壩2包括設于所述陽極11的四周邊緣及基板1上的第一分支堤壩層21、及層疊于所述第一分支堤壩層21上的第二分支堤壩層22。
[0052]其中，