一種柔性顯示基板及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于柔性顯示領域，具體涉及一種柔性顯示基板，及其柔性顯示基板結構，以及該柔性顯示基板的制造方法。
【背景技術】
[0002]柔性顯示裝置是通過在柔性基板上形成若干個顯示元件來制造，通常在制造過程中需先將柔性基板通過粘結劑貼合到一個剛性基板上，使得柔性基板在后續的制程中保持良好的平整度。待各種后續制程完成后，再將柔性基板從剛性基板上分離，從而完成柔性顯示裝置的制備。
[0003]例如，圖1是傳統柔性顯示裝置的制備流程圖，首先提供一剛性基板S11，為了制造柔性顯示裝置，在剛性基板上形成粘結層S12，接著在粘結層上沉積形成或貼付一層柔性基板S13，在柔性基板表面上形成顯示元件S14，最后將剛性基板與柔性基板進行分離S15，由此完成柔性顯示裝置的制造。
[0004]然而，在傳統柔性顯示裝置制備過程中，由于采用聚對二甲苯等傳統有機粘結劑，該類材料在后續顯示元件制備過程中，由于制程溫度影響，材料的穩定性下降，產生鼓氣現象，影響柔性基板平整度。柔性基板若出現鼓泡現象，可導致顯示元件的膜層不平整，影響顯示元件的電性，繼而影響良率。
【發明內容】
[0005]為解決上述技術問題，本發明一方面提供了一種柔性顯示基板，該柔性顯示基板包括:柔性基板；設置在所述柔性基板第一表面上的顯示元件；以及設置在所述柔性基板第二表面上的離型層結構，所述離型層結構包括至少一層離型層；所述離型層為含有分子間氫鍵的無機物材料。
[0006]可選地，所述無機物材料為氮化硅，且所述氮化硅材料中分子間氫鍵的含量為8mol % ?lGmol %。
[0007]可選地，所述離型層的厚度為10?lOOnm。
[0008]本發明另一方面還提供了一種柔性顯示基板結構，所述基板結構包括支撐載體、柔性顯示基板，其中，所述柔性顯示基板采用上述的柔性顯示基板；所述離型層結構位于所述柔性基板和所述支撐載體之間。
[0009]可選地，所述離型層結構還包括至少一層阻水層，并且至少一層所述阻水層與所述柔性基板直接結合。
[0010]可選地，在所述離型層結構中，至少一層所述離型層與所述支撐載體直接結合。[0011 ] 可選地，在所述離型層結構中，所述離型層和所述阻水層交替設置。
[0012]可選地，所述阻水層的厚度為10?300nm。
[0013]可選地，所述阻水層包括無機物材料。
[0014]可選地，所述阻水層包括二氧化硅。
[0015]本發明再一方面提供了一種柔性顯示基板的制造方法，所述柔性顯示基板的制造方法包括以下步驟:提供一支撐載體；在所述支撐載體上形成離型層結構，所述離型層結構包括至少一層離型層，其中，所述離型層為含有分子間氫鍵的無機物材料；在所述支撐載體上形成柔性基板，所述離型層結構形成于所述柔性基板和所述支撐載體之間；在所述柔性基板遠離所述支撐載體的一側形成顯示元件；對所述離型層結構進行光照，將所述柔性基板從所述的支撐載體上剝離。
[0016]可選地，所述將所述柔性基板從所述的支撐載體上剝離包括，對所述支撐載體遠離所述柔性基板的表面進行光照。
[0017]可選地，所述光照為激光照射，并且所述激光照射的能量為200?350mj/cm2。
[0018]可選地，所述在所述支撐載體上形成離型層結構包括:所述離型層通過PECVD方法沉積形成。
[0019]可選地，在所述沉積過程中，將原料3迅、順3和1引入沉積室中進行反應，所述沉積室內的反應溫度在350攝氏度?450攝氏度范圍內，反應壓強在1.5Torr?2.5Torr范圍內，以及引入所述原料3迅、順3和1的流速摩爾比為1:5:20?1:4:12。
[0020]可選地，所述在所述支撐載體上形成離型層結構包括:至少形成一層阻水層，并且至少一層所述阻水層與所述柔性基板直接結合。
[0021]可選地，至少一層所述離型層與所述支撐載體直接結合。
[0022]可選地，所述在所述支撐載體上形成離型層結構包括:所述離型層和所述阻水層交替形成。
[0023]可選地，所述阻水層包括無機物材料。
[0024]可選地，所述阻水層包括二氧化硅。
[0025]可選地，所述在所述柔性基板遠離所述支撐載體的一側形成顯示元件包括:在所述支撐載體上制作有機發光二極管顯示器件。
[0026]采用本發明的柔性顯示基板及其結構和制造方法，其中的離型層采用含有分子間氫鍵的無機物材料，當其接受足夠能量的光照輻射時，材料中的分子間氫鍵被破壞，氫元素溢出，造成離型層破碎從而轉變成被剝離的結構，實現柔性基板的剝離；一方面，該離型層不會在后續的制作過程中因溫度的影響產生氣泡，從而可以保證柔性基板在整個柔性顯示裝置的制作過程中保持平整；另一方面，離型層的剝離過程也不會影響到柔性基板上的顯示元件等；可以大大提高柔性顯示裝置的良率；再者，離型膜的成膜操作簡單，且造價比現有技術的有機粘結劑低，可以節約成本。
【附圖說明】
[0027]圖1為現有技術中傳統柔性顯示裝置的制備流程圖；
[0028]圖2為根據本發明實施例1的柔性顯示基板的剖視示意圖；
[0029]圖3為根據本發明實施例1的柔性顯示基板結構的剖視示意圖；
[0030]圖4為根據本發明實施例1的柔性顯示基板的制造方法中的剝離步驟的示意圖；
[0031]圖5為根據本發明實施例2的離型層結構的剖視示意圖。
【具體實施方式】
[0032]以下將結合附圖所示的【具體實施方式】對本發明進行詳細描述。但這些實施方式并不限制本發明，本領域的普通技術人員根據這些實施方式所做出的結構、方法、或功能上的變換均包含在本發明的保護范圍內。
[0033]現在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而，示例實施方式能夠以多種形式實施，且不應被理解為限于在此闡述的實施方式；相反，提供這些實施方式使得本發明將全面和完整，并將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。在圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構，因而將省略對它們的重復描述。
[0034]所描述的特征、結構或特性可以以任何合適的方式結合在一個或更多實施方式中。在下面的描述中，提供許多具體細節從而給出對本發明的實施方式的充分理解。然而，本領域技術人員應意識到，沒有特定細節中的一個或更多，或者采用其它的方法、組元、材料等，也可以實踐本發明的技術方案。在某些情況下，不詳細示出或描述公知結構、材料或者操作以避免模糊本發明。
[0035]本文中所述的“形成于/位于/設置在/在…(之)上”應當理解為包括直接接觸的“形成于/位于/設置在/在…(之)上”和不直接接觸的“形成于/位于/設置在/在…(之)上”。
[0036]本發明的附圖僅用于示意相對位置關系和電連接關系，某些部位的層厚采用了夸示的繪圖方式以便于理解，附圖中的層厚并不代表實際層厚的比例關系。
[0037]實施例1
[0038]如圖2所示，為根據本發明實施例1的柔性顯示基板200的剖視示意圖，包括柔性基板203 ;
[0039]設置在所述柔性基板203第一表面(即如圖2所示的上表面)上的顯示元件204;以及
[0040]設置在所述柔性基板第二表面(即如圖2所示的下表面)上的離型層結構202，
[0041]離型層結構202包括至少一層離型層2021 ；
[0042]離型層2021為含有分子間氫鍵的無機物材料。
[0043]本實施例所提供的柔性顯示基板的離型層2021為含有分子間氫鍵的無機物材料，具有很好的粘著力，易與柔性基板或其他載體結合，制程簡單，且不會在后續的制作過程中因溫度的影響產生氣泡，保證了顯示器件在制作過程中的平整性要求。另一方面，離型層2021在光照的條件下容易剝離，能夠實現柔性基板和其他載體的快速分離。
[0044]可選的，在本實施例中，離型層2021所使用的無機物材料為含有分子間氫鍵的氮化娃材料，且該