刻蝕裝置及其使用方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示器件的制造領域，具體涉及一種刻蝕裝置和一種該刻蝕裝置的使用方法。
【背景技術】
[0002]陣列基板制造過程，主要分為清洗、成膜、曝光顯影、刻蝕、剝離五大工藝。其中刻蝕工藝分為干法刻蝕和濕法刻蝕，濕法刻蝕被廣泛用于金屬薄膜及氧化物薄膜的刻蝕。濕法刻蝕工藝主要是指采用化學藥液對刻蝕物進行去除的一種技術。對待刻蝕的基板進行濕法刻蝕時，通過化學藥液與刻蝕物發生化學反應，把未被光刻膠覆蓋的薄膜進行去除，從而實現電極圖案化。
[0003]濕法刻蝕設備通常是利用酸性刻蝕液體通過噴嘴把刻蝕液噴淋到待刻蝕基板表面，與基板表面的膜層發生化學反應，從而達到刻蝕的目的。然而，實際生產過程當中，噴淋和揮發出的刻蝕液液滴會附著在刻蝕設備的蓋板上，附著在刻蝕設備蓋板上的刻蝕液液滴逐漸累積，形成越來越大的刻蝕液液滴，最終滴落在待刻蝕基板上，導致刻蝕不均，嚴重影響產品的良率。
【發明內容】
[0004]本發明的目的在于提供一種刻蝕裝置和一種該刻蝕裝置的使用方法，以防止刻蝕過程中刻蝕液滴滴落在基板上。
[0005]為了實現上述目的，本發明提供一種刻蝕裝置，包括刻蝕腔室，其中，所述刻蝕裝置還包括設置在所述刻蝕腔室內的液滴去除組件，所述液滴去除組件用于去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0006]優選地，所述刻蝕腔室的頂部形成有維護入口，所述刻蝕裝置包括蓋板，所述蓋板覆蓋在所述維護入口上，以形成為所述刻蝕腔室的頂壁的至少一部分，所述液滴去除組件設置在所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上。
[0007]優選地，所述液滴去除組件包括刷片，所述刷片能夠在刻蝕開始前或刻蝕結束后沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發生相對移動，以使得所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴被刷落至所述刻蝕腔室內。
[0008]優選地，所述液滴去除組件還包括至少一個傳動機構，所述傳動機構設置在所述蓋板的朝向刻蝕腔室的表面上，所述傳動機構包括主動輪、從動輪、套在所述主動輪和所述從動輪上的皮帶，所述液滴去除組件還包括用于驅動所述主動輪轉動的電機，所述刷片設置在所述皮帶上，所述刷片的長度方向與所述皮帶的延伸方向相交叉。
[0009]優選地，所述傳動機構還包括安裝件，所述安裝件可拆卸地設置在所述皮帶上，所述刷片固定在所述安裝件上。
[0010]優選地，所述液滴去除組件包括兩個間隔設置的所述傳動機構，所述刷片的兩端分別設置在兩個傳動機構的安裝件上。
[0011]優選地，所述刻蝕裝置還包括基板檢測器件和控制器，所述基板檢測器件用于檢測基板位置，當所述基板檢測器件檢測到所述基板位于所述刻蝕腔室外部時，該基板檢測器件能夠向所述控制器發送開始信號，所述控制器根據所述開始信號控制所述電機開始運行。
[0012]優選地，所述傳動機構能夠帶動所述刷片在第一預定位置和第二預定位置之間移動，所述液滴去除組件還包括用于檢測所述刷片的位置的刷片檢測器件，當所述刷片檢測器件檢測到所述刷片移動至所述第一預定位置或第二預定位置時，能夠向所述控制器發送停止信號，所述控制器根據該停止信號控制所述電機停止運行。
[0013]優選地，所述位置檢測器件包括設置在所述第一預定位置的第一傳感器和設置在所述第二預定位置的第二傳感器，當所述第一傳感器檢測到所述刷片到達所述第一預定位置時，所述第一傳感器能夠向所述控制器發送停止信號，當所述第二傳感器檢測到所述刷片到達所述第二預定位置時，所述第二傳感器能夠向所述控制器發送停止信號。
[0014]優選地，所述刻蝕裝置還包括傳輸組件，用于將所述基板輸入至所述刻蝕腔室中的預定區域，所述第一預定位置和所述第二預定位置所限定的區域的正投影至少覆蓋所述預定區域的正投影。
[0015]相應地，本發明還提供一種刻蝕裝置的使用方法，所述刻蝕裝置為本發明提供的上述刻蝕裝置，所述使用方法包括:
[0016]利用所述液滴去除組件去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0017]優選地，所述刻蝕腔室的頂部形成有維護入口，所述刻蝕裝置包括蓋板，所述蓋板覆蓋在所述維護入口上，以形成為所述刻蝕腔室的頂壁的至少一部分，所述液滴去除組件設置在所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上，利用所述液滴去除組件去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴的步驟包括:
[0018]利用液滴去除組件去除所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴。
[0019]優選地，所述液滴去除組件包括刷片，利用液滴去除組件去除所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴的步驟包括:
[0020]在刻蝕開始前或刻蝕結束后，控制所述刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發生相對移動，以使得所述蓋板上的液滴被刷落至所述刻蝕腔室內。
[0021]優選地，所述液滴去除組件還包括至少一個傳動機構，所述傳動機構設置在所述蓋板的朝向刻蝕腔室的表面上，所述傳動機構包括主動輪、從動輪、套在所述主動輪和所述從動輪上的皮帶，所述液滴去除組件還包括用于驅動所述主動輪轉動的電機，所述刷片設置在所述皮帶上，所述刷片的長度方向與所述皮帶的延伸方向相交叉，
[0022]控制所述刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發生相對移動的步驟包括:
[0023]控制所述電機運行，以帶動刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面移動。
[0024]優選地，所述刻蝕裝置還包括基板檢測器件和控制器，控制所述電機運行的步驟包括:
[0025]利用所述基板檢測器件檢測基板的位置，當所述基板檢測檢測器件檢測到基板位于所述刻蝕腔室外部時，向所述控制器發送開始信號；
[0026]利用所述控制器根據所述開始信號控制所述電機開始運行。
[0027]優選地，所述液滴去除組件還包括用于檢測所述刷片的位置的刷片檢測器件，所述使用方法還包括:
[0028]利用所述刷片檢測器件檢測所述刷片的位置，當所述刷片檢測器件檢測到所述刷片移動至所述第一預定位置或第二預定位置時，向所述控制器發送停止信號；
[0029]利用所述控制器根據所述控制信號控制所述電機停止運行。
[0030]在本發明中，所述刻蝕腔內設置有液滴去除組件，可以將附著在刻蝕腔室頂壁上的液滴去除，從而減少了液滴滴落在基板表面的情況發生，進而改善了刻蝕效果，保證了產品的質量。
【附圖說明】
[0031]附圖是用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本發明，但并不構成對本發明的限制。在附圖中:
[0032]圖1是本發明的實施例中刻蝕裝置的結構示意圖；
[0033]圖2是本發明的實施例中液滴去除組件的結構示意圖；
[0034]圖3是本發明的實施例中傳動機構的結構示意圖。
[0035]其中，附圖標記為:1、噴淋單元；11、噴淋管；12、噴嘴；2、亥Ij蝕腔室；3、基板；4、傳輸組件；5、供液管路；6、回收管路；7、供液泵；8、儲液罐；9、蓋板；10、液滴去除組件；101、刷片;102、電機；103、傳動軸；105、傳動機構;105a、主動輪;105b、從動輪;105c、皮帶；105d、安裝件；106、第一傳感器；107、第二傳感器。
【具體實施方式】
[0036]以下結合附圖對本發明的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本發明，并不用于限制本發明。
[0037]作為本發明的一個方面，提供一種刻蝕裝置，包括刻蝕腔室，所述刻蝕裝置還包括設置在所述刻蝕腔室內的液滴去除組件，所述液滴去除組件用于去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0038]本發明的刻蝕裝置尤其適用于濕法刻蝕中，濕法刻蝕過程中，刻蝕液噴淋或揮發后會在刻蝕腔室的頂壁附著一層液滴，當液滴聚集變大到一定程度后，會從頂壁上滴落。
[0039]在本發明中，所述刻蝕腔內設置有液滴去除組件10，可以將附著在刻蝕腔室頂壁上的液滴去除，從而減少了液滴滴落在基板表面的情況發生，減少了滴落的液滴對刻蝕效果的影響，進而保證了產品的質量。
[0040]為了便于對刻蝕腔室的清理和維