入的氧 氣。
[0048] 圖2:圖2示出根據(jù)本發(fā)明的電子器件（1)，其中氧離子泵（8)布置在膠粘劑（5) 中。此處膠粘劑將密封帽（4)粘結(jié)至基底（3)。電活性元件（2)位于基底上。所述氧離子 泵包含朝向遮蓋物（7)內(nèi)部的陰極（9)和朝向遮蓋物外部的陽極（11)。氧離子傳導材料 (10)位于所述陽極與所述陰極之間。根據(jù)本發(fā)明的電子器件也可任選包含消氣劑（6)。
[0049] 圖3 :圖3以實例方式示出可以并入例如根據(jù)圖2的電子器件中的氧離子泵。陰 極（9)和陽極（11)位于氧離子傳導材料（10)的相對兩端。
[0050] 圖4:圖4示出氧離子泵⑶的布置的示意圖，所述氧離子泵⑶已經(jīng)以基底（3) 上的層形式并入電子器件中。密封帽（4)的布置旨在限定遮蓋物的內(nèi)部位于密封帽與基底 之間。氧離子泵（8)因此位于基底的內(nèi)表面上。此處陰極（11)是基底上的第一層，氧離子 傳導層（10)是第二層并且陽極（9)是朝向內(nèi)部的第三層。
[0051] 圖5 :圖5示出遮蓋物內(nèi)部的基底上的一種可行的層布置，其中陽極旨在連接至氧 離子泵上方的可透氧密封帽。此處電活性材料優(yōu)選是在施加電壓時發(fā)光的發(fā)光材料。此處 基底優(yōu)選是透光基底。
[0052] 圖6 :圖6同樣示出在電子器件中的氧離子泵的一種可行布置，其中電極2的電位 低于電極1的電位并且旨在向優(yōu)選可透氧的基底釋放氧。電活性材料優(yōu)選是在施加電壓時 發(fā)光的發(fā)光材料。所述基底優(yōu)選是透光基底。
[0053] 圖7 :圖7示出電子器件的制造流程，其中101是玻璃基底，102是陽極觸點的ITO 觸排（Bank)，103是陰極觸點的ITO觸排，201是25 X [YSZ]。101.玻璃基底；102.陽極觸 點的ITO觸排；103.陰極觸點的ITO觸排；201是在IOOnm STO上的25X [YSZlnm/STOlOnm] 超晶格，并且301是Pt電極。401代表OLED的以下層結(jié)構(gòu)：PED0T/LEP/Ba/Al。501代表UV 固化樹脂并且601代表通過玻璃帽封裝。
【具體實施方式】
[0054] 實施例
[0055] 實施例1
[0056] 具有氧栗的基底的制造
[0057] 在本發(fā)明中使用ITO涂布的玻璃基底Subl (Technoprint有限公司），尺寸為 30X30mm。Subl用兩個ITO觸排進行結(jié)構(gòu)化，一個用于陽極觸點（102)并且另一個用于陰 極觸點（103)。首先在清潔室中用去離子（DI)水和清潔劑（Deconex 15PF)清潔基底，然后 通過UV/臭氧等離子體處理來活化。
[0058] 包含超晶格結(jié)構(gòu)的氧泵的制造（圖7中的（201)):首先，將IOOnm SrTiO3(STO) 層施加至Subl，然后在高壓（3毫巴）純氧RF濺射系統(tǒng)中利用掩模1將8摩爾％ (Y2O3) x (ZrO2) h (YSZ)和SrTiO3(STO)層施加至ST0。掩模1對應于8個區(qū)域（201)。高壓和高基 底溫度（900°C )能夠?qū)崿F(xiàn)復雜氧化物的緩慢（lnm/分鐘）和高熱能化生長，其導致優(yōu)異的 膜質(zhì)量。施加具有25個重復單元的[YSZlnm/ST0 1(lJ的超晶格（201)。
[0059] 隨后通過RF濺射使用蔭式掩模來沉積呈網(wǎng)形式的Pt電極（301)以實現(xiàn)電極之間 的電接觸。
[0060] 所獲得的基底被稱為Sub2,以制造根據(jù)本發(fā)明的器件。
[0061] 實施例2
[0062] PLED 的制造
[0063] 通過以下方法制造具有層結(jié)構(gòu)Subl/ITO/HIL/LEP/陰極的PLEDl (對比）和具有 層結(jié)構(gòu)Sub2/IT0/HIL/LEP/陰極的PLED2 (根據(jù)本發(fā)明），其中ITO代表銦錫陽極，HIL代表 空穴注入層并且LEP代表發(fā)光聚合物。
[0064] 1)通過旋涂將PEDOT (CLEVIOStmP VP Al 4083)作為具有80nm厚度的HIL施加至 基底，并且然后在清潔室中在180°C下加熱10分鐘；
[0065] 2)在隊手套箱中通過將濃度為0· 5-1重量％的SPB-02T(Merck KGaA)于甲苯中 的溶液旋涂來施加65nm的LEP (發(fā)光聚合物）層；
[0066] 3)在隊手套箱中將所述器件在180°C下加熱10分鐘；
[0067] 4)在KT6托的真空中通過氣相沉積將Ba/Al陰極施加至發(fā)光層，厚度為 3nm/150nm ；
[0068] 5)在隊手套箱中密封所述器件。為了這個目的，使用UV固化樹脂、圖7中的UV 樹脂T-470/UR7114(Nagase Chemtex公司）（501)，和玻璃帽（601)，其中玻璃板小于基底以 保持接觸墊未密封（圖7)。首先將UV樹脂施加至基底邊緣。然后將帽安置在上面。然后 用UV光照射器件30秒。在手套箱中實施所有步驟。
[0069] 實施例3
[0070] PLEDl 和 PLED2 的表征
[0071] 通過標準方法表征以這種方式獲得的PLEDl (對比）和PLED2 (根據(jù)本發(fā)明）。此 處測量以下性質(zhì)：UIL特性、電致發(fā)光光譜、顏色坐標、效率、工作電壓和壽命。結(jié)果被總結(jié) 于表1中，其中PLEDl充當根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的對比。在表1中，％代表啟動電壓，并且U(IOO) 代表在lOOcd/m 2下的電壓。在恒定電流密度與特定初始發(fā)光密度下測量壽命并且將其定 義為初始亮度已降至一半的時間。
[0072] 對于PLED2,在壽命測量期間將負電壓施加至內(nèi)部Pt電極并且將正電壓施加至外 部Pt電極，其中所述電壓等于PLED的工作電壓，以使得O 2在器件中被抽空。
[0073] 表 1
[0074]
【主權(quán)項】
1. 一種電子器件，其包含至少一種電活性材料，將所述電活性材料封閉在其內(nèi)部的遮 蓋物，和氧離子泵，其中所述氧離子泵是所述遮蓋物的整體組成部分或者安裝在所述遮蓋 物的內(nèi)表面上，并且其中所述氧離子泵包含在氧離子傳導材料的相對兩端處的陰極和陽 極，其中所述陰極的至少一部分朝向所述遮蓋物的內(nèi)部并且所述陽極的至少一部分朝向所 述遮蓋物的外部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子器件，其中所述遮蓋物包含基底、密封帽和膠粘劑，其中 所述膠粘劑將所述基底與所述密封帽彼此密封。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子器件，其中所述氧離子泵被布置在所述膠粘劑的區(qū) 域中。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電子器件，其中以至少在所述基底和/或所述密封帽上 的區(qū)域中的層形式布置所述氧離子泵。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子器件，其中所述基底和/或所述密封帽的上面安裝有所 述氧離子泵的區(qū)域可透氧。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中的一項或多項所述的電子器件，其中所述基底和/或所述密 封帽由玻璃、陶瓷、聚合物層或塑料組成。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中的一項或多項所述的電子器件，其中所述氧離子傳導材料是 固態(tài)電解質(zhì)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子器件，其中所述固態(tài)電解質(zhì)選自釔穩(wěn)定化氧化鋯、鐿穩(wěn) 定化氧化錯、1?穩(wěn)定化氧化錯、鋪穩(wěn)定化氧化錯、鐿穩(wěn)定化氧化錯、鈧穩(wěn)定化氧化錯、氧化 鈦、氧化錫、氧化鋅和其組合。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8中的一項或多項所述的電子器件，其中所述陰極包含選自貴金 屬族、優(yōu)選Pt或Pd的材料，非常優(yōu)選地所述陰極呈可透氣的金屬網(wǎng)形式。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至9中的一項或多項所述的電子器件，其中所述電活性材料是氧敏 材料。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至10中的一項或多項所述的電子器件，其中所述電活性材料是有 機電子材料或含有至少一種量子點的材料。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子器件，其中所述有機電子材料是發(fā)光材料。
13. -種氧離子泵用于從電子器件除去氧氣的用途。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1至12中的一項或多項所述的電子器件或根據(jù)權(quán)利要求13所述的 用途，其中所述電子器件選自有機或聚合物有機電致發(fā)光器件（〇LED、PLED)、有機場效應晶 體管（OFET)、有機集成電路（OIC)、有機薄膜晶體管（OTFT)、有機發(fā)光晶體管（OLET)、有機 太陽能電池（OSC)、有機光學檢測器、有機激光二極管（O-Iaser)、有機場猝熄器件（OFQD)、 發(fā)光電化學電池（LEC)、"有機等離子體發(fā)射器件"和有機光伏（OPV)元件或器件，和有機光 感受器（OPC)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電子裝置，其包含電活性材料和用于從所述裝置除去氧氣的氧離子泵。此外，本發(fā)明還涉及氧離子泵用于從電子裝置除去氧氣的用途。
【IPC分類】H01L51-52
【公開號】CN104798221
【申請?zhí)枴緾N201380060074
【發(fā)明人】馬蒂亞斯·孔茨, 潘君友, 沃爾克·希拉留斯
【申請人】默克專利有限公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2013年11月7日
【公告號】WO2014086454A1