一種柔性顯示器的制造方法、復合基板以及柔性顯示器的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明設計顯示領域，更具體地說，涉及柔性顯示領域。
【背景技術】
[0002]在現有柔性顯示器制作過程中，一種方式是在玻璃基板上沉積剝離層(Debondinglayer，簡稱DBL)，然后進行柔性層的涂布，由于剝離層與玻璃附著性較差，因此柔性層的涂布面積要大于剝離層面積，利用外沿直接與玻璃接觸達到較好的粘附效果。在完成TFT陣列基板制程后，進行柔性層與玻璃襯底的分離制程。在分離制程中，目前采用如圖1所示的方法，采用切割機垂直玻璃面切割方式，去除柔性層與玻璃接觸區域，然后將柔性層取下。
[0003]根據現有工藝的制作流程，玻璃襯底在剝離切割并與柔性層分離后，只能做報廢處理，在新的柔性基板投入時，需要投入新玻璃襯底并進行剝離層(DBL)沉積，這樣大大增加了玻璃、剝離層等材料消耗，同時增加了工藝制程。
【發明內容】
[0004]有鑒于此，本發明提供了一種柔性顯示器的制造方法，包括:
[0005]步驟A:提供一剛性基材，在所述剛性基材上表面形成離型層；
[0006]步驟B:在所述剛性基材表面形成柔性基板，所述柔性基板覆蓋所述離型層的表面及邊緣；
[0007]步驟C:在所述柔性基板上表面形成顯示元件；
[0008]步驟D:在所述柔性基板的邊緣沿平行于所述柔性基板表面方向切割，暴露所述離型層的各邊緣；
[0009]步驟E:剝離所述柔性基板，使所述柔性基板與所述剛性基材分離。
[0010]在本發明實施例中，在所述步驟D之前還包括，在所述柔性基板的上表面形成至少一個對位標記，用于限定所述水平方向的切割深度。
[0011]在本發明實施例中，所述對位標記呈線狀，且所述對位標記在所述離型層上的投影，位于所述離型層外邊緣內側或與所述離型層外邊緣重疊。
[0012]在本發明實施例中，所述步驟D包括:使用一刀輪在所述柔性基板的四周邊緣沿平行于所述柔性基板表面方向進行切割，其中，所述刀輪呈圓盤狀，且所述刀輪的刀刃位于所述刀輪的外邊緣。
[0013]在本發明實施例中，所述刀輪為旋轉刀輪或楔形刀片。
[0014]在本發明實施例中，所述步驟C包括，在所述柔性基板上制作有機發光二極管顯示層和封裝材料，其中所述有機發光二極管顯示層包括薄膜晶體管控制電路、導電電極、有機發光層和金屬電極。
[0015]在本發明實施例中，所述步驟B包括:在所述剛性基材表面涂布有機高分子材料，固化所述有機高分子材料形成柔性基板。
[0016]在本發明實施例中，所述有機高分子材料為聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和/或聚醚砜。
[0017]在本發明實施例中，所述離型層選用材料的粘附力為0.5-1000gf/cm2。
[0018]在本發明實施例中，所述離型層的材料為丙烯酸、聚對二甲苯、氧化鍺、SiNx/S1x0
[0019]在本發明實施例中，所述柔性基板的厚度為lum-200um，所述離型層的厚度為lum-lOOum，所述步驟D中的切割深度為0.1mm-lOmm。
[0020]本發明還提供了一種柔性顯示器，采用上述任一種制造方法制成。
[0021]本發明實施例還提供了一種用于制作柔性顯示器的復合基板，包含:剛性基材；離型層，形成在所述剛性基材的上表面；柔性基板，形成在所述離型層的上表面，其中，所述柔性基板與所述剛性基材在邊緣位置具有開口，暴露所述離型層的四周邊緣。
[0022]在本發明實施例中，所述柔性基板的上表面包含至少一個對位標記，用于限定所述水平方向的切割深度。
[0023]在本發明實施例中，所述對位標記呈線狀或十字圖形，且所述對位標記在所述離型層上的投影，位于所述離型層外邊緣內側或與所述離型層外邊緣重疊。
[0024]綜上，采用本發明的方法制作柔性基板，可以將剛性基材和離型層完整地保留下來，可在進行清洗、烘烤等簡單工序后，繼續用于后續柔性基板的投入制作。這樣可以對剛性基材及離型層材料進行有效重復利用，大大降低了生產成本。
【附圖說明】
[0025]圖1a-圖1g為本發明實施例制作柔性基板的工藝圖；
[0026]圖2a和圖2b為本發明實施例中刀輪的結構示意圖；
[0027]圖3為本發明實施例用于制作柔性顯示器的復合基板的結構示意圖；
[0028]圖4為本發明實施例中柔性基板制作過程中的俯視圖。
【具體實施方式】
[0029]下面結合附圖并通過【具體實施方式】來進一步說明本發明的技術方案。可以理解的是，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本發明，而非對本發明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發明相關的部分而非全部內容。
[0030]實施例1
[0031]參考圖1a-圖lg，為本發明實施例提供的一種柔性顯示器的制造方法的流程示意圖。在本實施例中，是以OLED顯示器為例，但不限與此類顯示方式，本領域其他例如LCD顯示器等也可應用在本發明中。并且本實施例以矩形基板作為舉例，任何應用在其他形狀基板的方案也均包含在本發明的范圍中。
[0032]請參閱圖la，提供一剛性基材101。在本實施例中，剛性基材101可以是石英基材或玻璃基材，但并不限定在此，由于剛性基材101在后續的電路制作以及顯示器件的制作過程中是提供支撐的作用，來避免柔性基板出現破碎、變形等問題，因此，通常來說，剛性基材選用相較柔性基板更高硬度的材料。
[0033]請參閱圖lb，在剛性基材101上表面形成離型層102。離型層102的材料可以選用丙烯酸、聚對二甲苯、氧化鍺、SiNx/S1xo離型層102的形成方法可以是貼附或者是沉積，在本實施例中，選用材料粘附力為0.5-lOOOgf/cm2在剛性基材101上沉積，并形成厚度為Ium-1OOum的離型層。
[0034]請參閱圖lc，在剛性基材101表面形成柔性基板103，且柔性基板103覆蓋離型層102的表面及四周邊緣；具體地，在剛性基材101表面涂布有機高分子材料，固化有機高分子材料形成柔性基板103，其中，有機高分子材料為聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和/或聚醚砜，形成的柔性基板厚度為lum-200um。在此，由于柔性基板的形成采用涂布方式，有機材料在固化之后與剛性基材基礎的部分是粘連的，因此，柔性基板可以與剛性基材完全固定，進而可使在柔性基板上制作顯示器件時可以非常穩固。此外，當柔性基板選用的是塑料基材時，可在柔性基板上形成水氧阻擋層，以有效隔絕外界的稅和氧氣。進一步地，在柔性基板103上表面形成顯示元件(圖中未顯示)，其中，顯示元件包含有機發光二極管顯示層，該有機發光二極管顯示層包括薄膜晶體管控制電路、導電電極、有機發光層和金屬電極，以及，封裝所述顯示元件，封裝的方法可以是金屬封裝法，玻璃封裝法，塑料封裝法或薄膜封裝法，但并不限定于此。由于顯示元件對水汽、氧氣的腐蝕具有非常高的敏感度，因此在制作過程中，一定要阻氣、阻水，并且柔性顯示器的制作過程盡量在真空的環境中制作。具體的制作工藝是本領域技術人員都所熟知的，此處不再贅述。
[0035]經過上述制作步驟即完成了制作柔性顯示器的基板的制作，請參閱圖lc，制作柔性顯示器的基板包括剛性基材101、離型層102、柔性基板103以及顯示元件和封裝層。其中，離型層102位于剛性基材101的上表面，柔性基板103形成在剛性基材101和離型層102的上表面，其中，柔性基板103覆蓋離型層102的表面及邊緣，