OLED顯示基板及其制作方法、顯示裝置與流程
本發明涉及顯示技術領域，特別是指一種oled顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
背景技術：
隨著科學技術的不斷進步，視覺資訊在人們的生活中的地位越來越重要，因而承載視覺資訊信息的平板顯示器件也在人們生活中占據了越來越重要的地位。oled(organiclight-emittingdiode，有機發光二極管)顯示器作為新一代顯示器，具有低能耗、對比度高等諸多優點，因而獲得了越來越多廠商的關注。
現有oled顯示基板的制作工藝中，是先形成顯示基板的陽極，再在形成有陽極的基板上形成像素界定層的圖形，像素界定層的圖形具有多個能夠暴露出陽極的開口，在制作完像素界定層的圖形后，還需要在像素界定層的圖形上制作ps(隔離柱)，在制作ps時需要在基板上涂覆有機感光材料，在經過曝光顯影工藝后這些有機感光材料容易殘留在陽極上，將會影響顯示基板的性能，降低oled顯示基板的良率。
技術實現要素：
本發明要解決的技術問題是提供一種oled顯示基板及其制作方法、顯示裝置，能夠避免有機感光材料殘留在陽極上，提高oled顯示基板的良率。
為解決上述技術問題，本發明的實施例提供技術方案如下：
一方面，提供一種oled顯示基板的制作方法，包括在形成有陽極的基板上形成隔離柱的步驟和形成像素界定層的圖形的步驟，所述形成隔離柱的步驟不遲于所述形成像素界定層的圖形的步驟。
進一步地，在所述形成像素界定層的圖形的步驟之前，形成所述隔離柱。
進一步地，所述制作方法具體包括：
在形成有陽極的基板上涂覆一層有機感光材料；
對所述有機感光材料進行曝光顯影后形成所述隔離柱；
在形成有所述隔離柱的基板上涂覆一層絕緣材料，對所述絕緣材料進行構圖形成所述像素界定層的圖形。
進一步地，通過一次構圖工藝形成所述隔離柱和所述像素界定層的圖形。
進一步地，所述制作方法具體包括：
在形成有陽極的基板上涂覆一層絕緣層；
在所述絕緣層上涂覆一層光刻膠，曝光顯影后形成光刻膠完全保留區域、光刻膠部分保留區域和光刻膠完全去除區域；
刻蝕掉光刻膠完全去除區域的絕緣層；
去除光刻膠部分保留區域的光刻膠，刻蝕掉光刻膠部分保留區域的部分厚度的絕緣層；
去除光刻膠完全保留區域的光刻膠，形成絕緣層的圖形，所述絕緣層的圖形包括第一部分和凸設于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成為所述像素界定層的圖形，所述第二部分形成為所述隔離柱。
進一步地，形成所述像素界定層的圖形的步驟之后，所述制作方法還包括：
在形成有像素界定層的圖形的基板上依次制備有機發光層和陰極。
本發明實施例還提供了一種oled顯示基板，采用如上所述的制作方法制作得到。
進一步地，所述oled顯示基板具體包括：
襯底基板；
位于所述襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；
位于形成有所述薄膜晶體管陣列層的基板上的陽極；
位于形成有所述陽極的基板上的隔離柱；
位于形成有所述隔離柱的基板上、覆蓋所述隔離柱的像素界定層的圖形；
位于形成有所述像素界定層的圖形的基板上的有機發光層和陰極。
進一步地，所述oled顯示基板具體包括：
襯底基板；
位于所述襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；
位于形成有所述薄膜晶體管陣列層的基板上的陽極；
位于形成有所述陽極的基板上的絕緣層的圖形，所述絕緣層的圖形包括第一部分和凸設于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成為所述像素界定層的圖形，所述第二部分形成為所述隔離柱；
位于形成有所述絕緣層的圖形的基板上的有機發光層和陰極。
本發明實施例還提供了一種顯示裝置，包括如上所述的oled顯示基板。
本發明的實施例具有以下有益效果：
上述方案中，形成隔離柱的步驟不遲于形成像素界定層的圖形的步驟，可以在形成像素界定層的圖形的步驟之前，形成隔離柱；或者通過一次構圖工藝形成隔離柱和像素界定層的圖形，這樣在制作完像素界定層的圖形后不用再在基板上涂覆有機感光材料，可以避免有機感光材料殘留在陽極上，從而提高了oled顯示基板的良率。
附圖說明
圖1為現有oled顯示基板的結構示意圖；
圖2為現有oled顯示基板的像素區域殘留有有機感光材料的示意圖；
圖3為本發明一實施例oled顯示基板的結構示意圖；
圖4為本發明另一實施例oled顯示基板的結構示意圖；
圖5為本發明實施例顯示基板的像素區域未殘留有機感光材料的示意圖。
附圖標記
1硬質基板2柔性基板3緩沖層4第一柵絕緣層
5第二柵絕緣層6層間絕緣層7平坦層
8像素界定層9有源層10第一柵極11第二柵極
12源漏金屬層13隔離柱14陽極
15像素區域16有機感光材料
具體實施方式
為使本發明的實施例要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。
現有oled顯示基板的制作工藝中，如圖1所示，是先形成顯示基板的陽極14，再在形成有陽極14的基板上形成像素界定層8的圖形，像素界定層8的圖形具有多個能夠暴露出陽極的開口，在制作完像素界定層8的圖形后，還需要在像素界定層8的圖形上制作ps(隔離柱)13，在制作ps13時需要在基板上涂覆有機感光材料，這些有機感光材料還會涂覆在陽極14上，由于陽極14位于像素界定層8的開口內，導致陽極14處于類似于孔洞的結構中，在經過制作隔離柱13的曝光顯影工藝后，如圖2所示，有機感光材料16容易殘留在像素區域15的陽極上，將會影響顯示基板的性能，降低oled顯示基板的良率。
如果需要去除這些殘留的有機感光材料，則還需要專門增加一道灰化工藝來去除殘留在陽極上的有機感光材料，增加了oled顯示基板的制作工藝的復雜性，增加了oled顯示基板的制作成本。
為了解決上述問題，本發明的實施例提供一種oled顯示基板及其制作方法、顯示裝置，能夠避免有機感光材料殘留在陽極上，提高oled顯示基板的良率。
本發明實施例提供一種oled顯示基板的制作方法，包括在形成有陽極的基板上形成隔離柱的步驟和形成像素界定層的圖形的步驟，所述形成隔離柱的步驟不遲于所述形成像素界定層的圖形的步驟。
本實施例中，形成隔離柱的步驟不遲于形成像素界定層的圖形的步驟，可以在形成像素界定層的圖形的步驟之前，形成隔離柱；或者通過一次構圖工藝形成隔離柱和像素界定層的圖形，這樣在制作完像素界定層的圖形后不用再在基板上涂覆有機感光材料，可以避免有機感光材料殘留在陽極上，從而提高了oled顯示基板的良率。
一具體實施例中，可以在所述形成像素界定層的圖形的步驟之前，形成所述隔離柱。
進一步地，所述制作方法具體包括：
在形成有陽極的基板上涂覆一層有機感光材料；
對所述有機感光材料進行曝光顯影后形成所述隔離柱；
在形成有所述隔離柱的基板上涂覆一層絕緣材料，對所述絕緣材料進行構圖形成所述像素界定層的圖形。
另一具體實施例中，可以通過一次構圖工藝形成所述隔離柱和所述像素界定層的圖形。
進一步地，所述制作方法具體包括：
在形成有陽極的基板上涂覆一層絕緣層；
在所述絕緣層上涂覆一層光刻膠，曝光顯影后形成光刻膠完全保留區域、光刻膠部分保留區域和光刻膠完全去除區域；
刻蝕掉光刻膠完全去除區域的絕緣層；
去除光刻膠部分保留區域的光刻膠，刻蝕掉光刻膠部分保留區域的部分厚度的絕緣層；
去除光刻膠完全保留區域的光刻膠，形成絕緣層的圖形，所述絕緣層的圖形包括第一部分和凸設于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成為所述像素界定層的圖形，所述第二部分形成為所述隔離柱。
進一步地，形成所述像素界定層的圖形的步驟之后，所述制作方法還包括：
在形成有像素界定層的圖形的基板上依次制備有機發光層和陰極。
本發明實施例還提供了一種oled顯示基板，采用如上所述的制作方法制作得到。
一具體實施例中，所述oled顯示基板具體包括：
襯底基板；
位于所述襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；
位于形成有所述薄膜晶體管陣列層的基板上的陽極；
位于形成有所述陽極的基板上的隔離柱；
位于形成有所述隔離柱的基板上、覆蓋所述隔離柱的像素界定層的圖形；
位于形成有所述像素界定層的圖形的基板上的有機發光層和陰極。
另一具體實施例中，所述oled顯示基板具體包括：
襯底基板；
位于所述襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；
位于形成有所述薄膜晶體管陣列層的基板上的陽極；
位于形成有所述陽極的基板上的絕緣層的圖形，所述絕緣層的圖形包括第一部分和凸設于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成為所述像素界定層的圖形，所述第二部分形成為所述隔離柱；
位于形成有所述絕緣層的圖形的基板上的有機發光層和陰極。
下面結合具體實施例以及附圖對本發明的oled顯示基板及其制作方法進行詳細介紹：
實施例一
本實施例中，是先形成隔離柱再形成像素界定層的圖形。本實施例的oled顯示基板的制作方法包括：
步驟1、提供一硬質基板1，該硬質基板1可以為玻璃基板或石英基板；
步驟2、在硬質基板1上形成柔性基板2，柔性基板2可以采用聚酰亞胺制成；
步驟3、在柔性基板2上形成緩沖層3，緩沖層3可以采用氧化物、氮化物或者氧氮化合物制成；
步驟4、在緩沖層3上形成有源層9的圖形；
具體地，在緩沖層3上沉積一層半導體材料，在半導體材料上涂覆一層光刻膠，采用掩膜板對光刻膠進行曝光，使光刻膠形成光刻膠未保留區域和光刻膠保留區域，其中，光刻膠保留區域對應于有源層9的圖形所在區域，光刻膠未保留區域對應于有源層9的圖形以外的區域；進行顯影處理，光刻膠未保留區域的光刻膠被完全去除，通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠未保留區域的半導體材料，形成有源層9的圖形；去除掉光刻膠保留區域的光刻膠。
步驟5、形成第一柵絕緣層4，第一柵絕緣層4可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟6、在第一柵絕緣層4上形成第一柵極10的圖形；
具體地，可以采用濺射或熱蒸發的方法在第一柵絕緣層4上沉積厚度約為
步驟7、形成第二柵絕緣層5，第二柵絕緣層5可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟8、在第二柵絕緣層5上形成第二柵極11的圖形；
具體地，可以采用濺射或熱蒸發的方法在第二柵絕緣層5上沉積厚度約為
步驟9、形成層間絕緣層6，層間絕緣層6可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟10、在層間絕緣層6上形成源漏金屬層12的圖形；
具體地，可以在層間絕緣層6上采用磁控濺射、熱蒸發或其它成膜方法沉積一層厚度約為
步驟11、形成平坦層7的圖形，平坦層7可以采用有機樹脂制成；
步驟12、形成陽極14的圖形；
具體地，在平坦層7上通過濺射或熱蒸發的方法沉積厚度約為
步驟13、形成隔離柱13的圖形；
具體地，在經過步驟12的基板上涂覆一層有機感光材料，對有機感光材料進行曝光顯影后形成有機感光材料保留區域和有機感光材料去除區域，其中，有機感光材料保留區域保留的有機感光材料形成為隔離柱13；
步驟14、形成像素界定層8的圖形；
具體地，在經過步驟13的基板上涂覆一層絕緣材料，在絕緣材料上涂覆一層光刻膠，采用掩膜板對光刻膠進行曝光，使光刻膠形成光刻膠未保留區域和光刻膠保留區域，其中，光刻膠保留區域對應于像素界定層8的圖形所在區域，光刻膠未保留區域對應于上述圖形以外的區域；進行顯影處理，光刻膠未保留區域的光刻膠被完全去除，光刻膠保留區域的光刻膠厚度保持不變；通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠未保留區域的絕緣材料，剝離剩余的光刻膠，形成像素界定層8的圖形。
經過上述步驟1-14即可制作得到如圖3所示的oled顯示基板，之后可以在oled顯示基板上制備有機發光層和陰極。本實施例在形成像素界定層的圖形的步驟之前形成隔離柱，這樣在制作完像素界定層的圖形后不用再在基板上涂覆有機感光材料，如圖5所示，可以避免有機感光材料殘留在像素區域15的陽極上，從而提高了oled顯示基板的良率。
實施例二
本實施例中，是通過一次構圖工藝形成隔離柱和像素界定層的圖形。本實施例的oled顯示基板的制作方法包括：
步驟1、提供一硬質基板1，該硬質基板1可以為玻璃基板或石英基板；
步驟2、在硬質基板1上形成柔性基板2，柔性基板2可以采用聚酰亞胺制成；
步驟3、在柔性基板2上形成緩沖層3，緩沖層3可以采用氧化物、氮化物或者氧氮化合物制成；
步驟4、在緩沖層3上形成有源層9的圖形；
具體地，在緩沖層3上沉積一層半導體材料，在半導體材料上涂覆一層光刻膠，采用掩膜板對光刻膠進行曝光，使光刻膠形成光刻膠未保留區域和光刻膠保留區域，其中，光刻膠保留區域對應于有源層9的圖形所在區域，光刻膠未保留區域對應于有源層9的圖形以外的區域；進行顯影處理，光刻膠未保留區域的光刻膠被完全去除，通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠未保留區域的半導體材料，形成有源層9的圖形；去除掉光刻膠保留區域的光刻膠。
步驟5、形成第一柵絕緣層4，第一柵絕緣層4可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟6、在第一柵絕緣層4上形成第一柵極10的圖形；
具體地，可以采用濺射或熱蒸發的方法在第一柵絕緣層4上沉積厚度約為
步驟7、形成第二柵絕緣層5，第二柵絕緣層5可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟8、在第二柵絕緣層5上形成第二柵極11的圖形；
具體地，可以采用濺射或熱蒸發的方法在第二柵絕緣層5上沉積厚度約為
步驟9、形成層間絕緣層6，層間絕緣層6可以選用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，對應的反應氣體是sih4、nh3、n2或sih2cl2、nh3、n2；
步驟10、在層間絕緣層6上形成源漏金屬層12的圖形；
具體地，可以在層間絕緣層6上采用磁控濺射、熱蒸發或其它成膜方法沉積一層厚度約為
步驟11、形成平坦層7的圖形，平坦層7可以采用有機樹脂制成；
步驟12、形成陽極14的圖形；
具體地，在平坦層7上通過濺射或熱蒸發的方法沉積厚度約為
步驟13、形成隔離柱13和像素界定層8的圖形；
具體地，在經過步驟12的基板上涂覆一層絕緣層；在絕緣層上涂覆一層光刻膠，曝光顯影后形成光刻膠完全保留區域、光刻膠部分保留區域和光刻膠完全去除區域；刻蝕掉光刻膠完全去除區域的絕緣層；去除光刻膠部分保留區域的光刻膠，刻蝕掉光刻膠部分保留區域的部分厚度的絕緣層；去除光刻膠完全保留區域的光刻膠，形成絕緣層的圖形，絕緣層的圖形包括第一部分和凸設于第一部分上的第二部分，第一部分形成為像素界定層8的圖形，第二部分形成為隔離柱13。
經過上述步驟1-13即可制作得到如圖4所示的oled顯示基板，之后可以在oled顯示基板上制備有機發光層和陰極。本實施例通過一次構圖工藝形成像素界定層的圖形和隔離柱，這樣在制作完像素界定層的圖形后不用再在基板上涂覆有機感光材料，如圖5所示，可以避免有機感光材料殘留在像素區域15的陽極上，從而提高了oled顯示基板的良率。
本發明實施例還提供了一種顯示裝置，包括如上所述的oled顯示基板。所述顯示裝置可以為：電視、顯示器、數碼相框、手機、平板電腦等任何具有顯示功能的產品或部件，其中，所述顯示裝置還包括柔性電路板、印刷電路板和背板。
在本發明各方法實施例中，所述各步驟的序號并不能用于限定各步驟的先后順序，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，對各步驟的先后變化也在本發明的保護范圍之內。
除非另外定義，本公開使用的技術術語或者科學術語應當為本發明所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現該詞前面的元件或者物件涵蓋出現在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也可能相應地改變。
可以理解，當諸如層、膜、區域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時，該元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中間元件。
以上所述是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。
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