本發明涉及電子領域,具體地,涉及像素界定層的制備方法、oled及制備方法和顯示裝置。
背景技術:
隨著科學技術的發展,有機電致發光器件(oled)得到了廣泛的運用。oled相對于lcd具有自發光、反應快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優點,被視為下一代顯示技術。如今,oled也朝著大規模、大尺寸的方向發展。
目前制備oled發光層的方法,主要有真空蒸鍍和溶液制程兩種方法。其中,溶液制程方法與真空蒸鍍法相比,具有設備成本低、材料利用率高、大尺寸產品掩膜(mask)對位精度高等優點。常用的溶液制程法包括旋涂、噴墨打印以及噴嘴涂覆等方法。隨著噴墨打印技術的發展,目前已經可以精確控制待打印材料(構成發光層的有機物)的打印位置。
然而,目前像素界定層及其制備方法和oled,仍有待改進。
技術實現要素:
本發明是基于發明人對于以下事實和問題的發現和認識作出的:
發明人發現,目前使用噴墨打印技術形成的oled有機薄膜,普遍存在有機薄膜厚度不均一、形成噴墨打印所需像素界定層制備工藝復雜等問題。發明人經過深入研究以及大量實驗發現,這主要是由于雖然在像素界定層的定位作用下,噴墨打印技術已經可以精確控制打印的位置,然而無法精確控制打印形成的薄膜的厚度。因此,造成形成的有機薄膜厚度不均一;雖然為了解決這一問題,出現了采用具有特定結構的像素界定層限定噴墨打印形成的薄膜厚度的方案,但這類像素界定層的制備需要復雜的處理工藝(例如需要利用雙掩膜工藝以及二次曝光過程制備),進而導致像素界定層制備工藝復雜,造成噴墨打印的整體生產周期長、成本高。
本發明旨在至少一定程度上緩解或解決上述提及問題中至少一個。
在本發明的一個方面,本發明提出了一種制備像素界定層的方法,根據本發明的實施例,該方法包括:提供襯底;在所述襯底上形成第一界定圖案,所述第一界定圖案是通過噴墨打印第一材料形成的,所述第一界定圖案由凹形容納槽構成;在所述凹形容納槽內形成第二界定圖案,所述第二界定圖案是通過噴墨打印第二材料形成的,其中,所述第一界定圖案以及所述第二界定圖案構成所述像素界定層。像素界定層制備的方法具有以下優點的至少之一:無需采用雙掩膜工藝就可以實現能夠精確控制打印厚度的像素界定層的制備,由此,可以簡化用于噴墨打印的像素界定層的制備工藝,降低制備成本,提高對位的精準性。
根據本發明的實施例,所述第一界定圖案具有第一表面能,所述第二界定圖案具有第二表面能,所述第一表面能高于所述第二表面能。由此,有利于精確控制利用該像素界定層形成的打印圖案的厚度。
根據本發明的實施例,在形成所述第一界定圖案之前,進一步包括:對所述襯底用于形成所述第一界定圖案和所述第二界定圖案的表面進行改性處理,以便減低所述襯底的表面能。由此,有利于控制第一界定圖案的寬度。
根據本發明的實施例,形成所述第一界定圖案是通過以下步驟實現的:通過噴墨打印所述第一材料,在所述襯底的預定區域形成第一界定圖案層;對所述第一界定圖案層進行干燥處理,使得所述第一界定圖案層形成所述凹形容納槽,以獲得所述第一界定圖案。由此,可以簡便的利用咖啡環原理形成第一界定圖案,而無需采用復雜的掩膜工藝。
根據本發明的實施例,所述第一材料包括:聚酰亞胺、以及亞克力的至少之一。由此,有利于在襯底上形成第一界定圖案。
根據本發明的實施例,所述噴墨打印第一材料包括:將所述第一材料溶于第一溶劑中配置成第一溶液并噴墨打印,其中,所述第一材料在所述第一溶劑中的濃度為0.5wt%~30wt%;所述第一溶劑的沸點不高于180攝氏度。由此,有利于利用咖啡環原理形成凹形容納槽。
根據本發明的實施例,所述干燥處理為真空減壓干燥、常溫干燥或低溫干燥。由此,可以減緩干燥速度,有利于形成凹形容納槽。
根據本發明的實施例,所述真空減壓干燥包括:對所述第一界定圖案層進行真空減壓干燥處理,在3-10分鐘內,將進行所述真空減壓干燥處理的腔室壓強下降至150-250pa,保持5-15分鐘,對經過所述真空減壓干燥處理的所述第一界定圖案層,進行烘烤處理,所述烘烤處理的溫度不低于200攝氏度;所述常溫干燥包括:將所述第一界定圖案層在常溫下放置25-50分鐘;所述低溫干燥包括:將所述第一界定圖案層在不高于20攝氏度條件下,放置40-60分鐘。由此,有利于減緩干燥速度,提高形成的凹形容納槽的質量。
根據本發明的實施例,所述干燥處理之后,進一步包括:對所述凹形容納槽進行高溫退火處理,所述高溫退火處理的溫度為不低于200攝氏度。由此,利于提高形成的第一界定圖案的質量。
根據本發明的實施例,形成所述第二界定圖案是通過以下步驟實現的:在所述凹形容納槽內噴墨打印含有所述第二材料的溶液,并進行烘烤處理。由此,可以簡便的在凹形容納槽內形成第二界定圖案。
根據本發明的實施例,所述第二材料氟化聚酰亞胺、聚硅氧烷以及氟化甲基丙烯酸甲酯至少之一,所述烘烤處理的溫度為不低于200攝氏度,不高于250攝氏度。由此,有利于進一步提高形成的第二界定圖案的質量。
在本發明的另一方面,本發明提出了一種oled器件的制備方法。該包括制備像素界定層的步驟,以及在像素界定層中形成有機層的步驟,其中,所述制備像素界定層的步驟采用如前面所述的制備方法。該具有以下優點的至少之一:無需采用雙掩膜工藝就可以實現能夠精確控制打印厚度的像素界定層,由此,可以簡化oled器件的制備工藝,降低制備成本,提高oled器件發光層對位的精準性。
在本發明的又一方面,本發明提出了一種oled器件。根據本發明的實施例,該oled器件包括:襯底,形成在所述襯底上的像素界定層以及在像素界定層界定的像素區域中形成的發光層;其中,所述像素界定層包括第一界定圖案以及第二界定圖案,所述第一界定圖案由第一材料形成的凹形容納槽構成,所述第二界定圖案由第二材料形成在所述凹形容納槽內。該oled器件具有制備成本低、發光層對位精準等優點的至少之一。
根據本發明的實施例,所述第一界定圖案具有第一表面能,所述第二界定圖案具有第二表面能,所述第一表面能高于所述第二表面能。由此,有利于精確控制利用該像素界定層形成的發光層的厚度。
根據本發明的實施例,所述第一材料包括聚酰亞胺以及亞克力的至少之一;所述第二材料包括氟化聚酰亞胺、聚硅氧烷以及氟化甲基丙烯酸甲酯的至少之一。由此,有利于在襯底上形成第一界定圖案。
根據本發明的實施例,所述襯底具有第三表面能,所述第三表面能小于所述第一表面能且小于所述第二表面能。
根據本發明的實施例,所述第二界定圖案為形成在所述凹形容納槽中的凸起,所述第二界定圖案的頂部與所述凹形容納槽之間的高度差不低于0.5微米。由此,有利于進一步提高對發光層的位置控制的精確程度。
根據本發明的實施例,所述第二界定圖案的上表面為弧形、半球形、梯形或者拋物線形。
根據本發明的實施例,所述第二界定圖案在平行與襯底方向的寬度不大于所述第一界定圖案。
根據本發明的實施例,像素界定層的高度為1-3微米,寬度為15-100微米,其中,所述凹形容納槽的高度為1-3微米,寬度為15-100微米。
在本發明的又一方面,本發明提出了一種顯示裝置。該顯示裝置包括前面所述的oled器件。
附圖說明
本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1顯示了根據本發明一個實施例的像素界定層制備的方法的流程示意圖;
圖2顯示了根據本發明另一個實施例的像素界定層制備的方法的流程示意圖;
圖3顯示了根據本發明一個實施例的第一界定圖案層的結構示意圖;
圖4顯示了根據本發明另一個實施例的第一界定圖案層的結構示意圖;
圖5顯示了根據本發明一個實施例的第一界定圖案的結構示意圖;
圖6顯示了根據本發明另一個實施例的第一界定圖案的結構示意圖;
圖7顯示了根據本發明一個實施例的像素界定層的結構示意圖;
圖8顯示了根據本發明一個實施例的形成第二界定圖案的流程示意圖;以及
圖9顯示了根據本發明一個實施例的oled器件的結構示意圖。
附圖標記說明:
100:襯底;200:第一界定圖案層;210:第一界定圖案;300:第二界定圖案;400:發光層。
具體實施方式
下面詳細描述本發明的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,僅用于解釋本發明,而不能理解為對本發明的限制。
在本發明的一個方面,本發明提出了一種制備像素界定層的方法。根據本發明的實施例,參考圖1,該方法包括:
s100:提供襯底
根據本發明的實施例,在該步驟中,提供用于形成上述像素界定層的襯底。根據本發明的實施例,襯底的具體類型不受特別限制,只要能夠為該像素界定層提供支撐即可。例如,根據本發明的具體實施例,當采用噴墨打印制備oled時,用于噴墨打印的像素界定層的襯底,即可以為oled的襯底。例如,可以為玻璃。
s200:形成第一界定圖案
根據本發明的實施例,在襯底上形成第一界定圖案,第一界定圖案是通過噴墨打印第一材料形成的。根據本發明的實施例,第一材料可以具有較高的表面能。由此,便于在后續的干燥處理中,較好的利用咖啡環原理形成第一界定圖案。
根據本發明的實施例,為了進一步提高在襯底上形成第一界定圖案的效果,參考圖2,在形成第一界定圖案之前,該方法還可以進一步包括:
s10:對襯底進行改性處理
根據本發明的實施例,在該步驟中,可以形成第一界定圖案之前,預先對襯底的表面進行改性處理,降低襯底的表面能。根據本發明的具體實施例,通過對襯底用于形成第一界定圖案和第二界定圖案的表面進行改性處理,減低襯底的表面能,有利于防止第一材料被噴墨打印至襯底上之后,由于過度浸潤而造成實際形成的第一界定圖案的邊界,與預定需要形成的第一界定圖案的邊界之間存在較大誤差。并且,通過降低襯底的表面能,有利于獲得寬度較小的第一界定圖案,進而有利于獲得尺寸較小的像素界定層。由此,可以提高在襯底上形成第一界定圖案的質量。在該步驟中,對襯底進行改性處理的具體方法不受特別限制,本領域技術人員可以根據實際情況進行選擇。例如,可以采用等離子體表面處理技術,對襯底的表面進行改性處理。根據本發明的具體實施例,可以采用cf4等離子體,或者氟化硅氧烷溶液,對襯底進行表面處理,以便降低襯底的表面能。
根據本發明的實施例,形成第一界定圖案可以是通過以下步驟實現的:
首先,參考圖3以及圖4(襯底100以及第一界定圖案層200的橫截面圖),通過噴墨打印第一材料,在襯底100的預定區域形成第一界定圖案層200。本領域技術人員能夠理解的是,該步驟中形成的第一界定圖案,是用于限定后續噴墨打印時噴墨打印的邊界的。因此,在該步驟中,襯底100上預定區域以外的區域,即為后續需要進行噴墨打印的區域。也即是說,上述預定區域為襯底100上與噴墨打印的像素界定層對應的區域。上述預定區域的形狀以及第一界定圖案層200的具體形狀不受特別限制,本領域技術人員可以根據噴墨打印所需要的具體打印形狀進行設計。例如,根據本發明的具體實施例,當該像素界定層為利用噴墨打印技術制備oled的像素界定層時,用于形成第一界定圖案的第一界定圖案層200,可以具有如圖3中所示出的形狀。也即是說,第一界定圖案可以在襯底上限定出多個規則排列的長方形區域,上述長方形區域用于在制備oled時形成oled的發光層。本領域技術人員能夠理解的是,圖3中所示出的長方形區域的數量以及排列方式僅為示例性的,而不能理解為對本發明的限制。關于上述長方形區域的具體數量、排布方式以及尺寸等參數,本領域技術人員可以根據實際噴墨打印的需求以及制備的oled的參數進行設計。
根據本發明的實施例,參考圖5以及圖6(襯底100以及第一界定圖案210的橫截面圖),在形成第一界定圖案層200之后,可以通過對第一界定圖案層200進行干燥處理,使得第一界定圖案層200形成凹形容納槽。上述凹形容納槽構成第一界定圖案210。由此,可以簡便的利用干燥處理的咖啡環原理,形成凹形容納槽構成的第一界定圖案210,而無需采用復雜的掩膜工藝。
根據本發明的實施例,上述第一材料的具體類型不受特別限制,如前所述,第一材料可以具有較高的表面能,以便更好的在干燥處理之后形成凹形容納槽。根據本發明的具體實施例,上述第一材料可以包括聚酰亞胺以及亞克力的至少之一。由上述材料形成的第一材料,由于具有較高的表面能,不易浸潤襯底,有利于提高形成的凹形容納槽的質量。
如前所述,上述第一界定圖案210,是利用干燥處理的咖啡環原理,形成凹形容納槽而構成的。因此,可以控制干燥處理以及形成第一界定圖案層的條件,以便保證能夠通過第一界定圖案層,在預定的位置,形成具有預定形狀的凹形容納槽。具體的,需要保證第一界定圖案層在干燥后,形成的凹形容納槽的尺寸,與第一界定圖案層相比,不會發生較大的變化。并且,形成的凹形容納槽的高度,與第一界定圖案層的厚度,不會具有較大的差距。
根據本發明的具體實施例,考慮到凹形容納槽是第一界定圖案層經過干燥處理而形成的,而干燥處理后的凹形容納槽的尺寸與第一界定圖案層的尺寸之間存在一定誤差,因此,可以在通過噴墨打印第一材料形成的第一溶液,形成第一界定圖案層時,將上述凹形容納槽與第一界定圖案層的尺寸之間存的誤差,計算入噴墨打印的誤差中,以便最終獲得的凹形容納槽可以具有預定的尺寸。根據本發明的實施例,誤差的具體數值不受特別限制,本發明中,誤差只要來自設備精確度,目前的設備水平的能力可以控制誤差在+/-5微米。
發明人經過大量實驗發現,通過調節噴墨打印第一溶液的濃度以及形成第一溶液的第一溶劑種類等參數,可以進一步提高利用咖啡環遠離形成的凹形容納槽的質量。具體的,發明人發現,當用于噴墨打印的第一溶液中,第一材料的濃度較低,且采用的第一溶劑沸點較低時,有利于打印出的第一界定圖案層,在經過干燥后還可以較好的保持原有的尺寸,即形成的凹形容納槽的質量較好。根據本發明的具體實施例,當第一材料在所選用的溶劑中的濃度不低于0.5wt%,的記憶溶劑的沸點不高于180攝氏度,或是第一溶液中第一材料的濃度不高于30wt%時,有利于利用咖啡環原理形成較為理想的凹形容納槽。例如,根據本發明的具體實施例,第一溶劑可以為混合溶劑。混合溶劑中,第一材料的良溶劑(混合溶劑中對第一材料的溶解程度較好的成分)的沸點低于180攝氏度,不良溶劑可以不低于180攝氏度。根據本發明的另一些實施例,第一溶液中第一材料的濃度可以不高于30wt%。
發明人經過大量實驗發現,干燥處理的干燥速率也對形成的凹形容納槽的質量具有影響。較為緩慢的干燥速率,有利于形成較為理想的凹形容納槽。具體的,根據本發明的實施例,干燥處理可以為真空減壓干燥、常溫干燥或低溫干燥。其中,常溫干燥即為在不進行額外的加熱或是冷卻的條件下,使得第一界定圖案層自然干燥。低溫干燥的干燥溫度可以為不超過50攝氏度。
根據本發明的具體實施例,真空減壓干燥處理可以是通過以下步驟進行的:將第一界定圖案層置于真空干燥箱內,在3-10分鐘內,將真空腔室的壓強下降至150-250pa,保持5-15分鐘。例如,可以通過抽真空處理,在5分鐘內將腔室內的壓強下降至200pa左右,保持10分鐘。隨后,對經過上述真空減壓干燥處理的第一界定圖案層進行烘烤處理。烘烤處理的溫度可以為不低于200攝氏度。由此,有利于提高形成的凹形容納槽的質量。
根據本發明的具體實施例,也可以采用常溫干燥處理,形成凹形容納槽。具體地,可以將第一界定圖案層在常溫下放置25-50分鐘,以便第一界定圖案層通過緩慢干燥,形成凹形容納槽。根據本發明的另一些實施例,還可以將第一界定圖案層在不高于20攝氏度條件下,放置40-60分鐘。
根據本發明的實施例,為了進一步提高凹形容納槽的質量,上述干燥處理之后,還可以進一步包括:對凹形容納槽進行高溫退火處理。由此,可以進一步提高形成的第一界定圖案(即凹形容納槽)的質量。根據本發明的具體實施例,高溫退火處理的溫度可以為不低于200℃。由此,可以對第一界定圖案進行進一步干燥,提高第一界定圖案的機械支撐強度以及穩定性。
s300:形成第二界定圖案
根據本發明的實施例,在第一界定圖案中形成第二界定圖案。根據本發明的具體實施例,第二界定圖案是通過噴墨打印第二材料形成的。具體的,參考圖7以及圖8,在凹形容納槽210內,噴墨打印含有第二材料的溶液,并進行烘烤處理。由此,可以簡便的在凹形容納槽內形成第二界定圖案300。
根據本發明的實施例,用于形成第二界定圖案的第二圖案可以具有較低的表面能。具體的,第二圖案具有第二表面能,前面描述的第一圖案具有第一表面能,第二表面能可以低于第一表面能。由此,有利于精確控制利用該像素界定層形成的打印圖案的厚度。
根據本發明的實施例,參考圖9,上述第一界定圖案210(凹形容納槽)以及第二界定圖案300,構成了根據本發明實施例的用于噴墨打印的像素界定層。其中,第一界定圖案210在襯底100上限定出了噴墨打印的區域,第二界定圖案300形成在構成第一界定圖案210的凹形容納槽中,用于限定噴墨打印的圖案的高度。根據本發明的具體實施例,當該像素界定層為用于通過噴墨打印,形成oled的發光層時,在實際應用中,通過噴墨打印,在襯底100上除像素界定層以外的區域打印形成發光層的墨水,以便形成發光層400。在由于第二材料具有較低的表面能,與第一材料相比,第二材料與形成發光層的噴墨打印墨水具有更為相近的表面性能。因此,第二材料形成的第二界定圖案300,可以用于限定發光層400的高度,防止形成發光層400的材料,跨越第一界定圖案限定出的區域,造成產品良率下降。并且,由于第一材料以及第二材料在表面能上具有如前所述的差異,因此,形成在凹形容納槽中的第二材料,在凹形容納槽中不會較好的浸潤并展開,第一材料形成的凹形容納槽以及打印在其中的第二材料形成的液滴之間,具有較小的接觸角,進而第二材料形成的第二界定圖案,可以具有突出于凹形容納槽的弧形上表面。而第二界圖案300的高度,可以簡便的通過調節噴墨打印的第二材料的量進行控制。由此,可以使得發光層400具有較為均一的高度,從而提高利用該像素界定層進行噴墨打印的效果。根據本發明的具體實施例,第二材料可以包括氟化聚酰亞胺、聚硅氧烷以及氟化甲基丙烯酸甲酯的至少之一,所述烘烤處理的溫度可以不低于200攝氏度,不高于250攝氏度,例如,可以為230℃,或者200攝氏度。由此,有利于進一步提高形成第二界定圖案的質量。
本領域技術人員能夠理解的是,該方法在噴墨打印第二材料之后,還可以進一步包括干燥的步驟,以便第二材料可以形成第二界定圖案。根據本發明的實施例,形成第二界定圖案時,考慮到干燥后的第二界定圖案的尺寸與未干燥前的第二材料具有一定差別,因此,可以在噴墨打印第二材料時,將上述差別計算入打印的誤差中,以便獲得打印精度較高的第二界定圖案。由此,可以保證最終獲得的圖案的準確性,提高打印精度。
根據本發明的實施例,利用上述方法獲得的像素界定層可以具有如圖7所示出的結構。具體的,參考圖7,該像素界定層包括襯底100(圖中未示出)、第一界定圖案210、以及第二界定圖案300。該像素界定層具有以下優點的至少之一:無需采用雙掩膜工藝就可以實現能夠精確控制打印厚度的像素界定層,由此,可以簡化用于噴墨打印的像素界定層的制備工藝,降低制備成本,提高對位的精準性。
在本發明的另一方面,本發明提出了一種oled器件的制備方法。根據本發明的實施例,該方法包括:
制備像素界定層;
根據本發明的實施例,在該步驟中,利用前面描述的方法,制備像素界定層。由此,可以利用較為簡便的操作,獲得能夠精確控制發光層位置的像素界定層。
形成有機層;
根據本發明的實施例,在該步驟中,通過包括但不限于噴墨打印等方式,在前面制備獲得的像素界定層中,形成有機層。由此,可以獲得oled器件。如前所述,由于前面制備的像素界定層可以較好的限定有機層的位置,因此,利用該方法制備的oled器件,有機層的位置可以較為精確的控制,從而有利于提高該oled器件的性能。
在本發明的又一方面,本發明提出了一種oled器件,根據本發明的實施例,該oled包括:像素界定層以及發光層。像素界定層為前面所述的像素界定層,發光層是基于所述像素界定層,通過噴墨打印而形成的。本領域技術人員能夠理解的是,該oled包括前面描述的像素界定層,由此,該oled具有前面描述的像素界定層所具有的全部特征以及優點,在此不再贅述。發光層是基于像素界定層,通過噴墨打印而形成的。如前所述,利用上述像素界定層形成的發光層,可以具有較為均一的厚度,因此,該oled具有較高的生產良率以及使用性能。總的來說,該oled具有以下優點的至少之一:無需復雜的掩膜工藝制備像素界定層,進而可以降低生產成本,提高生產效率;發光層厚度較為均一,oled性能較好。
下面根據本發明的具體實施例,對該oled器件的各個結構進行詳細說明:
根據本發明的實施例,像素界定層包括第一界定圖案以及第二界定圖案,第一界定圖案由第一材料形成的凹形容納槽構成,第二界定圖案由第二材料形成在所述凹形容納槽內。第一界定圖案具有第一表面能,第二界定圖案具有第二表面能,第一表面能高于第二表面能。由此,可以提高利用噴墨打印形成的發光層的質量。
根據本發明的實施例,上述第一材料可以包括聚酰亞胺以及亞克力的至少之一,第二材料包括可以氟化聚酰亞胺、聚硅氧烷以及氟化甲基丙烯酸甲酯的至少之一。為了進一步降低制備的像素界定層的尺寸,獲得具有更小寬度的像素界定材料(即將凹形容納槽的寬度控制的更小),可以使得襯底具有第三表面能,并令第三表面能小于第一表面能且小于第二表面能。由此,可以將凹形容納槽的寬度控制在20微米及以下。
根據本發明的實施例,第二界定圖案的具體形狀不受特別限制,第二界定圖案的頂部可以與凹形容納槽的高度齊平,即利用第二界定圖案,填滿凹形容納槽;或者,第二界定圖案可以為形成在所述凹形容納槽中的凸起。由此,有利于利用第二界定圖案,進一步提高該像素界定層對發光層的限定作用。第二界定圖案的頂部與凹形容納槽之間的高度差可以為不低于0.5微米。根據本發明的實施例,第二界定圖案在平行于襯底方向的寬度,不大于第一界定圖案。由此,有利于提高對發光層位置限定的精確程度。
根據本發明的實施例,第二界定圖案的上表面為弧形、半球形、梯形或者拋物線形。第二像素界定層的形狀與凹形容納槽的寬度,以及第一材料、第二的材料表面能的差異有關,本領域技術人員可以根據具體情況進行調節。
根據本發明的具體實施例,像素界定層的總高度可以為1-3微米,寬度為15-100微米。也即是說,第二界定圖案的頂部,到襯底之間的高度可以為1-3微米。根據本發明的實施例,凹形容納槽的高度可以為1-3微米,寬度可以為15-100微米。由此,有利于獲得尺寸較小,精度較高的發光層,從而可以提高該oled器件的性能。
在本發明的另一方面,本發明提出了一種顯示裝置。根據本發明的實施例,該顯示裝置包括前面描述的oled器件。由此,該顯示裝置具有前面描述的oled器件所具有的全部特征以及優點,在此不再贅述。總的來說,該顯示器件具有以下優點的至少之一:生產成本低,生產效率高,發光層厚度較為均一,顯示性能較好。
在本發明的描述中,術語“上”、“下”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發明而不是要求本發明必須以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發明的限制。
在本說明書的描述中,參考術語“一個實施例”、“另一個實施例”等的描述意指結合該實施例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發明的至少一個實施例中。在本說明書中,對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且,描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。此外,在不相互矛盾的情況下,本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結合和組合。另外,需要說明的是,本說明書中,術語“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。
盡管上面已經示出和描述了本發明的實施例,可以理解的是,上述實施例是示例性的,不能理解為對本發明的限制,本領域的普通技術人員在本發明的范圍內可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型。