一種陣列基板及其制造方法與流程

本發明涉及顯示技術領域，尤指一種陣列基板及其制造方法。

背景技術：

有機發光二極管(OLED)顯示技術是一種利用有機功能材料在電流的驅動下產生的可逆變色來實現顯示的技術。目前，制造OLED顯示裝置中的有機功能材料層的常見方法是采用噴墨打印(ink jet Printing)方法。使用噴墨打印方法制作OLED產品有生產效率高，材料成本低的優點，但是，也受到打印技術自身特性的約束，很難實現高精細產品制作。影響高分辨產品制作的主要有像素內膜厚的均一性。現有技術中，受墨水表面張力影響，墨水打印到像素中干燥后形成的圖案不均勻，周邊會出現一圈咖啡環，從而影響發光區域的有效面積。

技術實現要素：

為了解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種陣列基板及其制造方法，能夠提高成膜的均一性，增加發光區域的有效面積。

為了達到本發明目的，本發明實施例提供了一種陣列基板，包括：襯底基板，設置于所述襯底基板上的像素界定層，所述像素界定層設置有包括底壁和側壁的開口區域，在所述開口區域內，所述底壁的邊緣設置有多個表面為親水性的親水誘導柱。

可選的，多個所述親水誘導柱的位置滿足如下關系：

對任一設置有親水誘導柱的第一位置，與所述第一位置對稱的第二位置和第三位置設置有親水誘導柱，所述對稱基于所述底壁的對稱軸。

可選的，在所述開口區域內，所述底壁的每個轉角處設置有所述親水誘導柱。

可選的，所述親水誘導柱與所述開口區域的高度相同。

可選的，所述親水誘導柱的親水性大于所述底壁的親水性。

可選的，所述像素界定層上表面上靠近所述側壁處設置有多個表面為疏水性的疏水誘導柱。

可選的，多個所述疏水誘導柱的位置滿足如下關系：

對任一設置有疏水誘導柱的第四位置，與所述第四位置對稱的第五位置和第六位置設置有疏水誘導柱，所述對稱基于所述像素界定層的上表面與所述側壁的交界所圍成的區域的對稱軸。

可選的，所述像素界面層上表面靠近所述側壁的轉角處設置有所述疏水誘導柱。

可選的，所述疏水誘導柱的高度大于所述像素界定層的厚度。

可選的，所述疏水誘導柱的高度相同。

本發明實施例還提供一種陣列基板的制造方法，包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上設置像素界定層；

在所述像素界定層設置包括底壁和側壁的開口區域；

在所述開口區域內，所述底壁的邊緣設置多個表面為親水性的親水誘導柱。

可選的，多個所述親水誘導柱的位置滿足如下關系：

對任一設置有親水誘導柱的第一位置，與所述第一位置對稱的第二位置和第三位置設置有親水誘導柱，所述對稱基于所述底壁的對稱軸。

可選的，在所述開口區域內，所述底壁的每個轉角處設置所述親水誘導柱。

可選的，在所述像素界定層上表面上靠近所述側壁處設置多個表面為疏水性的疏水誘導柱。

可選的，在所述像素界面層上表面靠近所述側壁的轉角處設置所述疏水誘導柱。

與現有技術相比，本發明實施例中，通過設置親水誘導柱，抵消墨水張力，使得墨水表面更為平整，增加了成膜的均勻性。

進一步地，本發明實施例中，設置疏水誘導柱，可以提高墨水的容納量，滿足像素尺寸比較小時的墨水需求量，從而實現高分辨率產品的噴墨打印制作。

本發明的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發明而了解。本發明的目的和其他優點可通過在說明書、權利要求書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。

附圖說明

附圖用來提供對本發明技術方案的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本申請的實施例一起用于解釋本發明的技術方案，并不構成對本發明技術方案的限制。

圖1為本發明一實施例提供的陣列基板截面圖；

圖2為本發明一實施例提供的陣列基板俯視圖；

圖3為本發明另一實施例提供的陣列基板俯視圖；

圖4為本發明又一實施例提供的陣列基板俯視圖；

圖5為現有技術中噴入墨水后最高墨水量截面圖；

圖6為采用本發明實施例提供方案噴入墨水后最高墨水量截面圖；

圖7為現有技術中噴入墨水后，墨水干燥到bank層高度的截面圖；

圖8為采用本發明實施例提供的方案噴入墨水后，墨水干燥到bank層高度的截面圖。

具體實施方式

為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下文中將結合附圖對本發明的實施例進行詳細說明。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互任意組合。

在附圖的流程圖示出的步驟可以在諸如一組計算機可執行指令的計算機系統中執行。并且，雖然在流程圖中示出了邏輯順序，但是在某些情況下，可以以不同于此處的順序執行所示出或描述的步驟。

應當指出的是，盡管以下實施例以OLED顯示裝置為例來說明本發明，但是如本領域技術人員將領會到的，本發明可以應用于任何能夠采用噴墨打印方法制作功能層的顯示裝置，而不限于OLED顯示裝置。

本發明實施例提供一種陣列基板，包括：襯底基板，設置于所述襯底基板上的像素界定層，所述像素界定層設置有包括底壁和側壁的開口區域，在所述開口區域內，所述底壁的邊緣設置有多個表面為親水性的親水誘導柱。

其中，所述底壁的邊緣為靠近底壁與側壁的交界的位置，親水誘導柱可以緊挨底壁與側壁的邊界，也可以離邊界略微有點距離。

可選的，該多個親水誘導柱的位置對稱，具體的，多個所述親水誘導柱的位置滿足如下關系：對任一設置有親水誘導柱的第一位置，與所述第一位置對稱的第二位置和第三位置設置有親水誘導柱，所述對稱基于所述底壁的對稱軸。即每個親水誘導柱所在位置的對稱位置處設置有親水誘導柱。特殊情況下，比如，第一位置為底壁的兩個轉角的正中時，此時，第三位置與第一位置相同。

在本發明的一可選實施例中，所述像素界定層上表面上靠近所述側壁處設置有多個表面為疏水性的疏水誘導柱。

可選的，對任一設置有疏水誘導柱的第四位置，與所述第四位置對稱的第五位置和第六位置設置有疏水誘導柱，所述對稱基于所述像素界定層的上表面與所述側壁的交界所圍成的區域的對稱軸。即每個所述疏水誘導柱所在位置的對稱位置處設置有所述疏水誘導柱。

下面以具體實例進一步說明本發明。

圖1為本發明實施例提供的一種陣列基板的截面圖，圖2為本發明實施例提供的一種陣列基板的俯視圖，如圖1,2所示，本發明實施例提供的一種陣列基板包括：襯底基板10，設置于所述襯底基板10上的像素界定層(PDL層，或稱bank層)20，所述像素界定層設置有開口區域30，所述開口區域包括底壁301和側壁302，所述開口區域30的底壁301的每個轉角3011處設置有表面為親水性的親水誘導柱40。所述底壁301和側壁302形成一個腔體，容納待噴入的墨水。需要說明的是，該開口區域30暴露一陽極層，即開口區域30的底壁301為一陽極層。該親水誘導柱40在所述開口區域30內。一般地，該親水誘導柱40與底壁垂直。

從圖2可以看出，底壁301有四個轉角3011，可以在每個轉角3011處設置一個親水誘導柱40，從而共設置四個親水誘導柱40。親水誘導柱40的作用是抵消墨水張力。親水誘導柱可以挨著底壁301的邊界3012，也可以與邊界3012略微有點距離。可選的，這4個親水誘導柱的位置對稱。該對稱是基于底壁301的對稱軸對稱，包括左右對稱和上下對稱。

親水誘導柱40可以為圖1，2中所示的圓柱形，也可以是其他形狀，比如方形柱，或者棱形柱等等。

親水誘導柱40可以采用有機親水材料或者無機親水材料，且其表面親水性大于所述底壁的親水性，但與底壁的親水性的差值小于一設定閾值，與底壁形成拉扯，從而抵消墨水的表面張力。

在發明的一可選實施例中，所述親水誘導柱40的高度相等。

在本發明的一可選實施例中，所述親水誘導柱40與所述開口區域的高度相同。當然，親水誘導柱40也可以略高于所述開口區域。

在本發明的一可選實施例中，可以根據需要設置更多的親水誘導柱，如圖3所示，在所述底壁301上兩個轉角處之間靠近所述側壁302處設置有所述親水誘導柱40，且每個親水誘導柱40的對稱位置處設置有所述親水誘導柱40，所述對稱基于所述底壁的對稱軸，對稱軸如圖3中的虛線所示。圖3中，底壁301靠近側壁302的位置即靠近底壁301與側壁302的邊界3012的位置。圖3中，在靠近邊界3012的中間位置設置了一個親水誘導柱40，在該親水誘導柱40的對稱位置也設置了一個親水誘導柱40。圖3中僅示出了在靠近左邊界和右邊界的中間位置設置了親水誘導柱40。在本發明的其他實施例中，可以在圖3中靠近底壁301與側壁的上邊界的中間位置設置一個親水誘導柱，在靠近底壁301與側壁302的下邊界的中間位置設置一個親水誘導柱。另外，也可以在底壁301上靠近邊界3012的位置設置多個親水誘導柱。比如，如圖4所示，在像素大小為50um*150um時，每隔25um布置一個親水誘導柱40。此時，對親水誘導柱401，其對稱位置有兩個，分別設置有親水誘導柱402和親水誘導柱403。對另一親水誘導柱402，其對稱位置有兩個，分別設置有親水誘導柱401和親水誘導柱404。

需要說明的是，親水誘導柱的個數可根據需要設定，比如根據像素尺寸和墨水特性設定。

本發明實施例提供的在開口區域內增加親水誘導柱的方案，在開口區域內噴入墨水后，墨水逐步干燥，當剩余的墨水量和像素界定層高度齊平時，親水誘導柱開始發揮作用，抵消墨滴的表面張力，使得墨滴的上表面更為平整，提高了成膜的均一性。

當要打印高分辨率產品時，像素的尺寸變得很小，所能容納的墨水量越來越少，而制作顯示器件使用的墨水量又比較大，如果單純依靠增高bank層的高度，雖然可以提高墨水的容納量，但是會給陰極的蒸鍍工作帶來很大的困難。本發明實施例中，提供了一種解決方案。如圖1，2所示，在像素界定層20上表面上靠近所述側壁302的轉角3021處設置有表面為疏水性的疏水誘導柱50。所述疏水誘導柱50可采用含氟類的材料，在制作過程中考慮到要和像素界定層連接，界面上需要一定的處理，比如，使用UV照射，CF4plsma處理等。所述疏水誘導柱50位于像素界定層50的上表面上，一般地，疏水誘導柱50的方向為垂直于所述像素界定層20。如圖2所示，設置了4個疏水誘導柱50。可選的，這4個疏水誘導柱50的位置對稱。該對稱是基于側壁302與像素界定層20的交界3022所形成的區域的對稱軸對稱，包括左右對稱和上下對稱。

在本發明的一可選實施例中，所述疏水誘導柱50的高度相同，且高于所述像素界定層20的高度。疏水誘導柱50的高度的一個可選范圍為：所述開口區域內噴入墨水后墨水最高高度的2/3-4/3之間。

在本發明的一可選實施例中，可以根據需要設置更多的疏水誘導柱，如圖3所示，在像素界定層20上表面上靠近所述側壁的兩個轉角處之間的位置設置有疏水誘導柱50，且每個疏水誘導柱50的對稱位置設置有所述疏水誘導柱，所述對稱基于所述像素界定層的上表面與所述側壁的交界3022所圍成的區域的對稱軸，如圖3中的虛線所示。其中，在像素界定層20上表面上靠近所述側壁的兩個轉角處之間的位置設置疏水誘導柱50，即在像素界定層上靠近邊界3022的位置且非轉角3021處設置疏水誘導柱。圖3中，在靠近邊界3022的中間位置設置了一個疏水誘導柱50，在該疏水誘導柱50的對稱位置也設置了一個疏水誘導柱50。圖3中僅示出了在靠近左邊界和右邊界的中間位置設置了疏水誘導柱50。在本發明的其他實施例中，也可以在靠近上邊界和下邊界的中間位置設置疏水誘導柱50。另外，也可以在像素界定層20的上表面靠近邊界3022的位置設置多個親水誘導柱。比如，在像素大小為50um*150um時，圍繞所述側壁與所述像素界定層的上表面的邊界(即圍繞該開口區域與像素界定層上表面的交界)，每隔20um布置一個疏水誘導柱50。疏水誘導柱的個數可根據需要設定，比如根據像素尺寸和墨水特性設定。

本發明實施例提供的增加疏水性誘導柱的方案，由于在像素外層增加了疏水誘導柱，從而可以容納更多的墨水，滿足高分辨率像素對墨水量的需求，同時，因為疏水性誘導柱是分離的，不會影響陰極的制作，而且在疏水誘導柱附近材料的堆積會起到輔助電極的作用。

需要說明的是，本發明實施例所述方案，不限于圖1，2中所示形狀的開口區域，其他形狀的開口區域也可應用本發明所述方案。

下面說明一下使用本申請提供的方案在噴入墨水后的實現。

圖5為現有技術中最高容納墨水量示意圖。圖6為本發明實施例最高容納墨水量示意圖。如圖5所示，噴入墨水后，容納的最高墨水量為區域60中的墨水量；增加疏水誘導柱后，如圖6所示，容納的最高墨水量為區域70所示的墨水量，可以發現，增加疏水誘導柱后，容納的墨水量增加，對于高分辨率產品，盡管像素區域減小，采用本申請提供的方案后，仍然可以容納所需的墨水量。

圖7為現有技術中墨水干燥到像素界定層時墨水表面示意圖；圖8為采用本發明實施例方案后墨水干燥到像素界定層時墨水表面示意圖。如圖7所示，墨水干燥到像素界定層20時，墨水表面見圖7中的墨水表面80所示，為一凹陷區域，膜厚不一致，導致最終成膜不均一。采用本發明實施例提供的方案，如圖8所示，由于增加了親水誘導柱，墨水干燥到像素界定層20時，親水誘導柱抵消部分表面張力，墨水表面如圖8中墨水表面90所示，與圖7中的墨水表面80相比，更為平坦，從而使得最終成膜更為均勻。另外，通過改變親水誘導柱的數量和親水性，可以達到墨水表面為平面的效果，因此，采取本發明實施例所述方案，最終成膜厚度比較一致，提高了成膜的均一性。

本發明實施例還提供一種上述陣列基板的制造方法，包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上設置像素界定層；

在所述像素界定層設置包括底壁和側壁的開口區域；

在所述開口區域內，所述底壁的邊緣設置多個表面為親水性的親水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，多個所述親水誘導柱的位置滿足如下關系：

對任一設置有親水誘導柱的第一位置，與所述第一位置對稱的第二位置和第三位置設置有親水誘導柱，所述對稱基于所述底壁的對稱軸。

在本發明的一可選實施例中，在所述開口區域內，所述底壁的每個轉角處設置所述親水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，在所述底壁上處于兩個轉角處之間且靠近所述側壁的位置設置所述親水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，所述親水誘導柱與所述開口區域的高度相同。

在本發明的一可選實施例中，在所述像素界定層上表面上靠近所述側壁處設置多個表面為疏水性的疏水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，在所述像素界定層上表面上靠近所述側壁的轉角處設置表面為疏水性的疏水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，多個所述疏水誘導柱的位置滿足如下關系：

對任一設置有疏水誘導柱的第四位置，與所述第四位置對稱的第五位置和第六位置設置有疏水誘導柱，所述對稱基于所述像素界定層的上表面與所述側壁的交界所圍成的區域的對稱軸。

在本發明的一可選實施例中，在所述像素界定層上表面上靠近所述側壁的兩個轉角處之間的位置設置有疏水誘導柱。

在本發明的一可選實施例中，所述疏水誘導柱的高度大于所述像素界定層的厚度。

雖然本發明所揭露的實施方式如上，但所述的內容僅為便于理解本發明而采用的實施方式，并非用以限定本發明。任何本發明所屬領域內的技術人員，在不脫離本發明所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實施的形式及細節上進行任何的修改與變化，但本發明的專利保護范圍，仍須以所附的權利要求書所界定的范圍為準。