本實用新型涉及LED燈生產設備領域，具體來說是一種外延片清洗臺。
背景技術：
外延是半導體工藝當中的一種，硅片最底層時襯底硅，然后在襯底上生長一層單晶硅，這層單晶硅成為外延層，外延片就是在襯底上做好外延層的硅片，而傳統工藝中需要對外延片進行清洗，可使現有設備中在清洗外延片是大部分都是直接將外延片放置在一個清洗臺上，然后直接進行清洗，如專利號為CN204332926U的一種外延片清洗裝置，便是直接將外延片放置在臺板上，然后進行清洗，可是在清洗過程中容易造成外延片滑動，甚至掉落，影響工作效率，而且可能會使得清洗液沾附外延片背面，對外延片造成腐蝕，導致外延片報廢。
技術實現要素：
本實用新型是提供一種既能夠在清洗過程中固定外延片，又能夠防止清洗過程中外延片背面被清洗液腐蝕的外延片清洗臺。
為了使本實用新型達到所需要的技術效果，本實用新型選用如下技術方案：一種外延片清洗臺，包括清洗臺，所述清洗臺包括底座，所述底座頂部設有凸塊，所述底座頂部垂直設有固定板，所述固定板設有取片槽，所述固定板設有滲液孔。
作為優選，所述固定板式有兩塊橫板和一塊縱板組成的“匚”型板。
作為優選，所述固定板與所述底座間設有排液孔。
作為優選，所述取片槽設在所述縱板中間位置。
作為優選，所述滲液孔傾斜設在所述固定板上。
作為優選，所述凸塊為半球型凸塊，所述凸塊設在所述底座頂部中心位置。
作為優選，所述凸塊連接所述排液孔。
本實用新型工作效果：使用本實用新型進行外延片清洗時，將外延片放在固定板內進行清洗，清洗過程中，清洗液會順著滲液孔排出，而由于滲液孔清洗設在固定板上，所述清洗液能夠及時排除，并且由于底座設有凸塊，所以在外延片清洗時，外延片底部不會沾附上清洗液，在外延片清洗結束后，可通過取片槽直接取出外延片，因此，本實用新型不僅能夠在清洗過程中固定外延片，還能夠防止清洗過程中外延片背面被清洗液腐蝕。
附圖說明
圖1為本實用新型整體結構圖。
圖中標注為：1、底座；2、凸塊；3、橫板；4、縱板；5、取片槽；6、滲液孔；7、排液孔。
具體實施方式
參照附圖，為了使本實用新型達到所需要的技術效果，本實用新型采用如下實施方案：一種外延片清洗臺，包括清洗臺，所述清洗臺包括底座，所述底座頂部設有凸塊，所述底座頂部垂直設有固定板，所述固定板設有取片槽，所述固定板設有滲液孔。
作為優選，所述固定板式有兩塊橫板和一塊縱板組成的“匚”型板。
作為優選，所述固定板與所述底座間設有排液孔。
作為優選，所述取片槽設在所述縱板中間位置。
作為優選，所述滲液孔傾斜設在所述固定板上。
作為優選，所述凸塊為半球型凸塊，所述凸塊設在所述底座頂部中心位置。
作為優選，所述凸塊連接所述排液孔。
使用本實用新型進行外延片清洗時，將外延片放在固定板內進行清洗，清洗過程中，清洗液會順著滲液孔排出，而由于滲液孔清洗設在固定板上，所述清洗液能夠及時排除，并且由于底座設有凸塊，所以在外延片清洗時，外延片底部不會沾附上清洗液，在外延片清洗結束后，可通過取片槽直接取出外延片，因此，本實用新型不僅能夠在清洗過程中固定外延片，還能夠防止清洗過程中外延片背面被清洗液腐蝕。