1.一種清除極片涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：
極片放置于清洗平臺上，所述清洗平臺內設置有流通冷卻液體的循環冷卻管道；
用壓塊將極片壓在清洗平臺上，所述壓塊上設置有通槽，所述通槽將極片上的待清洗區域露出，所述通槽的側壁上設置有真空吸嘴，所述真空吸嘴與設置于所述壓塊內的真空管路連通；
用激光對壓塊通槽露出的極片區域進行灼燒，清除掉該區域的涂層，激光清洗極片涂層的同時，清洗平臺內的冷卻液體對極片進行降溫，壓塊上的真空吸嘴將產生的粉塵顆粒收集，激光將涂層清除完畢后露出箔材，完成清洗。
2.根據權利要求1所述的清除極片涂層的方法，其特征在于：所述真空吸嘴的真空度為-10～-90Kpa。
3.根據權利要求1所述的清除極片涂層的方法，其特征在于：所述壓塊內設置有流通冷卻液體的循環冷卻管道。
4.根據權利要求1或3所述的清除極片涂層的方法，其特征在于：所述循環冷卻管道與外部冷卻循環系統連通。
5.根據權利要求1所述的清除極片涂層的方法，其特征在于：所述真空管路與抽真空系統連通。
6.極片涂層清除裝置，包括用于放置極片的清洗平臺、位于所述清洗平臺上方的激光頭，其特征在于：
所述清洗平臺內設置有流通冷卻液體的循環冷卻管道；
所述清洗平臺上設置有壓塊，所述壓塊壓在極片上，所述壓塊上設置有通槽，所述通槽與極片上待清洗區域對應，所述通槽的側壁上設置有真空吸嘴，所述壓塊內設置有與所述真空吸嘴連通的真空管路。
7.根據權利要求6所述極片涂層清除裝置，其特征在于：所述真空吸嘴設置于所述通槽的一個或多個側壁上。
8.根據權利要求6所述極片涂層清除裝置，其特征在于：所述壓塊內設置有流通冷卻液體的循環冷卻管道。
9.根據權利要求6所述極片涂層清除裝置，其特征在于：所述真空吸嘴的真空度為-10～-90Kpa。
10.根據權利要求6或8所述極片涂層清除裝置，其特征在于：所述循環冷卻管道與外部冷卻循環系統連通。