1.一種真空滅弧室觸頭結構，其特征在于，包括靜觸頭和動觸頭，所述動觸頭相對所述靜觸頭一側形成有球形凸面，所述靜觸頭相對所述動觸頭一側形成一與所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上設置有多個外凹槽，所述球形凹面上設置有多個內凹槽。
2.根據權利要求1所述的真空滅弧室觸頭結構，其特征在于，每個所述外凹槽和內凹槽分別沿所述球形凸面和球形凹面呈螺旋狀布置。
3.根據權利要求2所述的真空滅弧室觸頭結構，其特征在于，所述外凹槽和內凹槽的橫截面均呈弧形，且所述外凹槽和內凹槽的邊緣分別與所述球形凸面和球形凹面平滑過渡。
4.根據權利要求3所述的真空滅弧室觸頭結構，其特征在于，多個所述外凹槽與多個所述內凹槽相對應設置。