相關申請案本申請案主張于2014年10月24日申請，且標題為“systems,apparatus,andmethodsforpurgingasubstratecarrieratafactoryinterface”(代理人案號22017/l)的美國臨時專利申請案第62/068,617號的優先權，該美國臨時專利申請案通過引用以全文納入本說明書中，用于所有目的。本發明有關于處理基板載具，且更具體地有關于用于在工廠介面或設備前端模組凈化基板載具的系統、設備及方法。
背景技術：
：：隨著半導體制造工業轉變到越來越小的技術，例如22nm、14nm等等，氧化缺陷及顆粒物質成為待解決的更關鍵問題。由制造商及其他研究員進行的各種研究已指出，在基板載具中保持惰性環境顯著地減少了由濕氣及氧化所造成的缺陷。然而，現有的解決方案需要制造商更換電子裝置制造設施中使用的裝載端口及基板載具。更換這些元件是昂貴的，且元件可能不與制造設施中的其他系統相容。因此，所需要的是允許制造商在工廠介面處理的基板載具中保持惰性環境而不需要新裝載端口或新基板載具的系統、方法及設備。技術實現要素：在一些實施例中，本發明提供了用于在工廠介面(factoryinterface,fi)或設備前端模組(equipmentfrontendmodule,efem)處凈化基板載具的套組。套組的實施例包括框架，該框架經配置以坐落在裝載端口門附近，而不干擾fi或efem機器人的運作；一或更多個基板間噴嘴陣列，該基板間噴嘴陣列由該框架支撐且經配置以噴射氣體到基板載具中；一或更多個布幕噴嘴陣列，該布幕噴嘴陣列由該框架支撐且經配置以噴射氣體橫越該基板載具的開口。在一些其他實施例中，本發明提供了用于凈化基板載具的系統。該系統包括裝載端口，該裝載端口包括門，且該裝載端口適配于接收基板載具；框架，該框架經配置以坐落在裝載端口門附近，而不干擾fi或efem機器人運作；一或更多個基板間噴嘴陣列，該基板間噴嘴陣列由該框架支撐且經配置以噴射氣體到基板載具中；一或更多個布幕噴嘴陣列，該布幕噴嘴陣列由該框架支撐且經配置以噴射氣體橫越該基板載具的開口。在又其他的實施例中，本發明提供了用于凈化基板載具的方法。該方法包括傳送基板載具到裝載端口并打開該載具的門；隨著該載具門被打開且該載具內的基板被映射(mapped)，以氣流噴射該基板載具；基于基板映射而決定處理凈化狀態；及利用所決定的處理凈化狀態的預定噴射狀態配置來啟動一或更多個基板間噴嘴陣列及一或更多個布幕噴嘴陣列。本發明更其他的特征、態樣、及優點將藉由繪示數個模范實施例及實作，包含認為是實現本發明的最佳模式，而在以下詳細描述、附加權利要求及附圖中變得更為完全明顯。本發明的實施例可能亦能夠實現其他且不同的應用，且其若干細節可在各個方面進行修改，而完全不背離本發明的精神及范疇。從而，繪圖及描述將被認定是例示性的本質，而不是限制性的。該等繪圖非必然按比例繪制。該描述意于涵蓋所有落在權利要求的精神及范疇內的修改、等效物及替代物。附圖說明圖1為依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的示意圖。圖2為依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的范例氣體噴射圖案的示意圖。圖3為依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的范例噴嘴陣列的示意圖。圖4a及圖4b為依據本發明實施例的基板載具凈化系統的范例框架的示意前視圖及側視圖。圖5a是依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的第一范例氣流控制回路的示意性氣動回路圖。圖5b是依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的第一范例選擇性致動器回路的示意性氣動回路圖。圖6是依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的第二范例氣流控制回路的示意性氣動回路圖。圖7是依據本發明實施例描繪基板載具凈化系統的范例控制介面的截圖。圖8是依據本發明實施例繪示在工廠介面凈化基板載具的范例方法的流程圖。具體實施方式本發明的實施例提供用于在工廠介面凈化基板載具的系統、設備及方法。該系統及方法確保基板載具環境(例如，前開口統一艙(front-openingunifiedpod,foup)的內部)是以例如氮氣或氬氣的惰性氣體來凈化，以減輕氧化、潮濕、及顆粒污染的影響，并減輕造成例如過度加氣(outgassing)晶圓等等的其他潛在缺陷的風險。本發明的實施例提供能夠翻新的工廠介面(fi)/設備前端模組(efem)套組，當該基板載具在工具上處理時，該fi/efem套組允許以氮氣(n2)或例如氬氣的任何其他可實施的惰性氣體來凈化基板載具。根據本發明的統一前端凈化fi/efem套組可包括兩個垂直設置的基板間凈化噴嘴陣列(定位在fi/efem門開口的側邊)及一個布幕噴嘴陣列(定位于fi/efem門開口側邊上的基板間凈化噴嘴陣列其中一者旁邊)。來自噴嘴陣列的氣流組合被控制，以達成該基板載具的最佳凈化。新穎的套組經配置以與所有的基板載具及自動開門器(automaticdooropener,ado)配置工作。該套組進一步經配置以安裝在fi框架/面板/機器人軌道上或在基準板(datumplate)上。凈化組件(例如，噴嘴陣列及框架)基于效能要求及空間限制而可為固定的或可移動的。該fi/efem控制系統可經配置以用于控制套組的凈化運作。凈化運作的效能可取決于fi安全互鎖、裝載端口狀態、及機器人運動(例如由上述元件門控(gated)。該套組通過在基板載具內提供惰性環境從而減少來自顆粒物質的缺陷，有助于改善相關工具的產量。相較于更換基板載具及裝載端口而言，該套組與所有ado及基板載具類型的普遍相容性使得該套組為升級fi/efem更為商業上可行的選擇。fi控制器可經配置以提供惰性氣體的時間及速率上的精確控制。這些控制器可被完全整合到fi控制軟件及安全系統中。在一些實施例中，氣體的流動可在任何給定時間回應于基板載具中的基板數量及位置而動態且連續地調整。現在轉向圖1，描繪了用于fi的基板載具凈化系統100的范例實施例。系統100包括基板載具凈化套組102，該基板載具凈化套組經適配以安裝在fi機器人軌道104上，且在一些實施例中，安裝在fi框架106上。fi機器人軌道104提供了滑軌、支架、框架、或臺階，以用于fi機械人108的基座的精準橫向移動，以允許fi機械人108進出該fi的各種裝載端口。在沒有fi機器人軌道104的系統100的實施例中(例如，系統100包括fi機器人，該fi機器人可不需要橫向移動其基座而到達多個裝載端口)，基板載具凈化套組102可被安裝到fi框架106、fi面板及/或fi的基準板上。如所顯示地，基板載具凈化套組102經配置以在門116被打開時，引導多個氣流110或流動(在圖1中以虛線箭頭代表)到基板載具112中，該基板載具裝載到該fi的裝載端口114上。系統100在控制器118的控制底下運作，該控制器可為可操作地透過有線或無線通訊網路耦合到各種元件，所述元件包括基板載具凈化套組102。圖2描繪系統100的頂視圖200，更詳細地繪示氣流110朝向載具112中的基板202的擴張流動方向(圖2中以虛線三角形表示)。基板載具凈化套組102內的基板間噴嘴陣列204經瞄準以使氣體流過基板202的主要表面。在一些實施例中，基板間噴嘴陣列204相對于基板載具112的側邊而瞄準在大約45度的角度(由箭頭206所指示)。在一些實施例中，基板間噴嘴陣列204的瞄準角度(亦即，箭頭206)可經調整而以任何所需方向瞄準氣流110(例如，基板202的中心點)，或設定該氣流角度從直接進入到基板載具(零度)至垂直基板側邊(90度)。在一些實施例中，基板間噴嘴陣列204可經配置以振蕩(例如，在角度范圍中來回掃動，舉例而言，零到90度)，或該角度可基于目前在載具112中的基板202的數量及/或位置而改變及/或達成期望的氣流圖案。基板間噴嘴陣列204的噴嘴經適配以使氣流110以介于大約零度及大約120度之間的角度θ擴張。在一些實施例中，角度θ可基于目前在載具112中的基板202的數量及/或位置而隨著時間改變及/或達成期望的氣流圖案。因此，在一些實施例中，可調整及/或可瞄準的噴嘴可在基板間噴嘴陣列204中使用。圖2亦描繪布幕噴嘴陣列208的范例，該布幕噴嘴陣列設置在相鄰于基板間噴嘴陣列204其中一者處。在一些實施例中，布幕噴嘴陣列208具有相同于基板間噴嘴陣列204的一般結構，但可包括噴嘴，所述噴嘴經配置以產生更窄、連續、均勻、且一致的氣體平面。布幕噴嘴陣列208經配置以將氣體的平面或薄面橫向引導(例如，大致平行于基板載具112的開口)越過基板載具112的開口，以形成氣體布幕210，該氣體布幕以擴張角度θ'瞄準于箭頭212所指示的方向。在一些實施例中，布幕噴嘴陣列208的瞄準角度(亦即，箭頭212)可經調整而以任何期望的方向瞄準氣流210(例如，橫越基板載具112的開口(零度))或設定該氣流角度從進入基板載具(-45度)到遠離到基板載具(+45度)。在一些實施例中，氣體布幕210流動的擴張角度θ'可為約零度及約120度之間。來自布幕噴嘴陣列208的氣體布幕210有效地阻止可能在該fi中的任何粒子、水分或其他氣體進入基板載具112中。在一些實施例中，布幕噴嘴陣列208可以小角度瞄準遠離基板載具112(例如，離該載具開口的平面小于15度)，以將氣體抽離載具112，并在載具112的前方產生較低壓力區，進一步減少可能在該fi中的顆粒、水分或其他氣體進入基板載具112的機會。在一些實施例中，布幕噴嘴陣列208可設置于橫向相對于基板間噴嘴陣列204處，且在向下瞄準的基板載具開口的上方。換言之，布幕噴嘴陣列208可定位在橫越基板載具凈化套組102的頂部處，以向下引導氣體薄片跨越基板載具112的開口。在又其他的實施例中，布幕噴嘴陣列208可定位于基板載具開口的下方，以向上引導氣體薄片跨越基板載具112的開口。在一些實施例中，基板間噴嘴陣列204及布幕噴嘴陣列208兩者可包括可調整噴嘴，所述可調整噴嘴可在運作期間動態地調整，以改變噴嘴出口速度、噴射角度、擴張角度、流動圖案、振蕩速率、噴嘴形狀及大小等。在一些實施例中，氣流速率及氣流圖案可經調整以最佳地減少顆粒、水分或其他氣體進入載具112。舉例而言，為了在載具112中相對于該fi中的氣壓而保持微正壓(例如，大約0.005atm)并又產生層狀流動，也就是將空氣從載具112的背側移出該載具開口的中心的漩渦圖案，氣體可從基板間噴嘴陣列204而以特定的速率及角度流入載具112中。例如，在使用裝載25個基板202的標準25槽基板載具的一些實施例中，最佳結果(例如，載具112內的最小化o2濃度)可藉由噴射n2到載具112中達成，該噴射是相對于載具112的側邊的45度角，并從基板間噴嘴陣列204的一個側邊的大約60slm的速率，且從另一側邊大約30slm的速率噴射，而布幕噴嘴陣列208以大約75slm的速率噴射氣體。現在轉向圖3，系統100的側視圖300更詳細地繪示氣流110從基板間噴嘴陣列204到載具112中及基板202之間的流動方向(圖3中以虛線三角形表示)。在一些實施例中，基板間噴嘴陣列204(及布幕噴嘴陣列208)的噴嘴主體302經配置以持定可移除/可替換的噴嘴頭304，該噴嘴頭包括復數個噴嘴306。噴嘴306的數量可為所使用的基板載具112的尺寸的函數。例如，具有50個噴嘴306的噴嘴頭304可與基板載具112使用，該基板載具經配置以持定至多25個基板202。在此配置中，一對噴嘴306可經設置以在每個基板202的頂部及底部噴射氣體。對于經適配以持定至多13個基板的基板載具112而言，具有26個噴嘴的噴嘴頭304可被使用。當插入到噴嘴主體302時，噴嘴頭304內的氣室308變成與氣體供應通道310透過噴嘴頭304的任一個端點或兩個端部處的端口流動連通。在一些實施例中，噴嘴306的數量及排列可在不同的噴嘴頭304中而不同，且因此藉由替換噴嘴頭304，噴嘴的不同配置可以達成。除了噴嘴306外，氣室308的形狀對不同的噴嘴頭304可以是不同的。在一些實施例中，氣室308可包括可調整的風箱(未顯示)，該風箱可改變氣室308的形狀(例如，氣室308的背壁及各種噴嘴306之間的相對距離)，以改變前進至不同噴嘴306的氣體的相對壓力/流量。風箱可由系統軟件控制，該系統軟件執行于控制器118上。在一些實施例中，噴嘴孔板312設置在噴嘴306的前方，以提供對獨立噴嘴的控制。例如，噴嘴孔板312可包括多組變化尺寸及形狀的規律間隔孔口，所述孔口的尺寸及形狀經設置以與噴嘴306的數量及位置相對應。因此，藉由在不同組的孔口之間移動噴嘴孔板312，該氣體噴射圖案的各種特性可被調整。在一些實施例中，噴嘴孔板312的位置是由控制器118上執行的系統軟件來控制。噴嘴孔板312的位置可被索引(indexed)到的孔板312中的孔口序列，該孔口序列允許密封步進馬達(未顯示)改變又追蹤板材的位置。可拆卸噴嘴頭304允許現場(field)中的不同噴嘴互換以改變氣流特性，例如噴嘴出口速度、噴射角度、及進入基板載具112的流動方向。相同的設計理念被應用到布幕噴嘴陣列208。布幕噴嘴頭亦可互換，以亦允許現場中的不同噴嘴互換，以改變流動特性，例如噴嘴出口速度、噴射角度、以及橫越基板載具開口的流動方向。例如，用于布幕噴嘴陣列208的噴嘴頭可包括噴嘴，所述噴嘴經設定角度以遠離基板載具開口，以允許(例如，離子化或非離子化的)凈化氣體將可能位于進入/離開的基板(或機械手)上的任何顆粒去除至該載具前方的封閉微環境中，并從而藉由朝向排氣口的氣流強迫所述顆粒離開該fi。在一些實施例中，替代基板間噴嘴陣列204，或替代基板間噴嘴陣列204的其中一個，真空端口陣列(未顯示)可被提供。類似地，替代布幕噴嘴陣列，或除了布幕噴嘴陣列之外(例如，橫越載具開口設置)，真空端口陣列可被提供。真空端口陣列可包括多個吸力端口或用作為吸力端口的延長槽。即使當使用真空端口陣列時，通過確保氣體進入載具的速率比離開的速率更高以在該基板載具內保持正壓力可能是所期望的。在一些實施例中，基板載具的四個邊緣的每一個可經配置以包括一或更多個以任何可行使的安排而定位的基板間噴嘴陣列、布幕噴嘴陣列、及/或真空噴嘴陣列。因此，基板間噴嘴陣列、布幕噴嘴陣列、及/或真空噴嘴陣列的安排可為完全可配置的，且不限制為只是兩個垂直的基板間噴嘴陣列及單一個垂直或水平的布幕噴嘴陣列。圖4a及圖4b指示基板載具凈化套組102的框架尺寸，以允許套組102可通用地與多個ado、裝載端口114及基板載具112相容，所述ado、裝載端口及基板載具符合半導體設備及材料國際(semiconductorequipmentandmaterialsinternational,)貿易協會的e62標準。圖4a描繪套組102的框架的前視圖400a。整體外部尺寸a是在約400mm至約440mm的范圍內；內部尺寸b是在約360mm至約400mm的范圍內；且對應于載具門開口的噴嘴陣列高度尺寸c是在約250mm至約300mm的范圍內。圖4b描繪套組102的框架的側視圖400b。套組102的整體深度尺寸d是小于約100mm。semie62標準是用于300mm的基板。可行使于不同標準的其他尺寸可被使用。例如，semie154標準定義了用于450mm基板的尺寸，且基板載具凈化套組102可經配置以與符合e154標準的裝置作業。換言之，本發明實施例的套組102可經配置以與所有符合semi標準的裝載端口、ado及基板載具相容。現在轉至圖5a，顯示了示意圖，該示意圖描繪氣流控制氣動回路500a的范例，該氣流控制氣動回路用于基板載具凈化系統100。加壓惰性氣體供應器502(例如，氮氣、氬氣等)被耦合到供應閥504(例如，上鎖–掛簽(lock-outtag-out，loto閥))，該供應閥的輸出耦合到用于基板間噴嘴陣列204的第一空氣過濾調節器506(afr1)及用于布幕噴嘴陣列208的第二空氣過濾調節器508(afr2)。第一空氣過濾調節器506及第二空氣過濾調節器508控制了來源氣體壓力傳送到基板間噴嘴陣列204相對于布幕噴嘴陣列208的比例。來自第一空氣過濾調節器506的流動被分割于用于兩個基板間噴嘴陣列204的兩個并聯子回路510之間。兩個子回路510可各自包括相同的元件。例如，所述子回路可各自包括閥512(例如，電磁閥(solenoidvalve))，以用于打開或關閉相應的基板間噴嘴陣列204。耦合至閥512的輸出，子回路510的每一個亦包括兩個流動開關514，該兩個流動開關互相并聯，且每個流量開關514被串聯耦合至不同的限流器516，所述限流器可各自設定以允許不同的流動速率。耦合到限流器516的輸出，子回路510的每一個亦包括梭閥(shuttlevalve)518，該梭閥允許在來自兩個不同流量開關514的流動之間做選擇。因此，每個子回路510允許在三種不同的流動狀態之間做選擇：(1)關閉，(2)第一流動速率(例如，“高”)，及(3)第二流動速率(例如，“低”)。子回路510的輸出被耦合到相應基板間噴嘴陣列204的氣體供應通道310。例如，在一些實施例中，一個子回路510耦合至基板載具凈化套組102的右手邊的基板間噴嘴陣列204，且另一個子回路510耦合至左手邊的基板間噴嘴陣列204。來自第二空氣過濾調節器508的流動被饋送至流動開關520，該流動開關與限流器521串聯，該流動開關與該限流器一起使用以對布幕噴嘴陣列208設定氣體的流動速率。限流器521的輸出被耦合到閥522(例如，電磁閥)的輸入，以用于開啟或關閉布幕噴嘴陣列208。閥522的輸出耦合到布幕噴嘴陣列208的輸入。在基板間噴嘴陣列204及/或布幕噴嘴陣列208的角度是可調整的或可動態調整的(例如，在使用中及/或噴射氣體時可調整)，或在所述陣列經適配以振蕩的實施例中，如圖5b所描繪的一或更多個氣動致動器回路500b可用于移動所述陣列。所顯示的范例氣動致動器回路500b包括干凈干燥空氣(cleandryair,cda)供應器524，該干凈干燥空氣供應器耦合到供應閥526(例如，loto閥)，該供應閥的輸出耦合到第三空氣過濾調節器528(afr3)。第三空氣過濾調節器528的輸出被饋送到閥530(例如，電磁閥)的輸入，以用于控制氣動致動器532(例如，線性或旋轉致動器)的運作。在一些實施例中，一或更多個氣動致動器回路500b可用來驅動基板間噴嘴陣列204、布幕噴嘴陣列208、噴嘴頭304的氣室308中的可調整風箱、基板間噴嘴陣列204或布幕噴嘴陣列208上的噴嘴孔板312(圖3)、及/或任何其他可移動或可調整機械組件的運動。圖6描繪用于基板載具凈化系統100的氣流控制氣動回路600的第二范例。加壓惰性氣體供應器602(例如，氮氣、氬氣等)被耦合到供應閥604(例如，loto閥)，該供應閥的輸出耦合到用于基板間噴嘴陣列204的第一空氣過濾調節器606(afr1)及用于布幕噴嘴陣列208的第二空氣過濾調節器608(afr2)。第一空氣過濾調節器606及第二空氣過濾調節器608控制傳送至基板間噴嘴陣列204相對于布幕噴嘴陣列208的來源氣體壓力的比例。來自第一空氣過濾調節器606的流動被分離在兩個并聯子回路610之間，以用于兩個基板間噴嘴陣列204(例如，定位在基板載具開口的左手邊及右手邊)。兩個子回路610可以各自包括相同的元件。例如，所述子回路可各自包括閥612(例如，電磁閥)，以用于開啟或關閉各自的基板間噴嘴陣列204。耦合至閥612的輸出，子回路610亦可各自包括質量流控制器614，每一個質量流控制器耦合到兩個基板間噴嘴陣列204的其中一個。因此，子回路610允許在關閉及至多到第一空氣過濾調節器606所提供的最大流速的任何所需流速之間做選擇。子回路610的輸出被耦合到各自的基板間噴嘴陣列204的氣體供應通道310(圖3)。例如，在一些實施例中，一個子回路610耦合至基板載具凈化套組102的右手邊的基板間噴嘴陣列204，且另一個子回路510耦合至左手邊的基板間噴嘴陣列204。來自第二空氣過濾調節器608的流動被饋送到質量流控制器616以用于設定流至布幕噴嘴陣列208的氣體流動速率。質量流控制器616的輸出被耦合到閥618(例如，電磁閥)的輸入，以用于開啟或關閉布幕噴嘴陣列208。閥618的輸出耦合到布幕噴嘴陣列208的輸入。如同圖5的氣流控制氣動回路500a，圖6的氣流控制氣動回路600亦可選擇性地包括一或更多個氣動致動器回路500b，如圖5b所顯示，以用于控制氣動致動器532(例如，線性或旋轉致動器)的運作。如以上所指示地，在一些實施例中，一或更多個氣動致動器回路500b可用來驅動基板間噴嘴陣列204、布幕噴嘴陣列208、噴嘴頭304的氣室308中的可調整風箱(圖3)、基板間噴嘴陣列204或布幕噴嘴陣列208上的噴嘴孔板312(圖3)、及/或任何其他可移動或可調整機械組件的運動。現在轉向圖7，描繪了用于基板載具凈化系統100的范例控制介面700的截圖視窗。雖然許多不同的控制介面可被使用，但以下的范例介面被詳細描述以繪示系統100的運作特征。控制介面700可包括數個顯示/控制區域，所述顯示/控制區域提供處理狀態及/或配置控制。圖7中所顯示的范例顯示/控制區域的每一個被封閉在分離的虛線矩形中。例如，范例控制介面700包括基板載具狀態區域702、處理凈化狀態顯示區域704、噴嘴陣列狀態區域706、噴嘴陣列配置控制區域708、按鍵顯示區域710、載具裝載噴嘴陣列控制區域712、及載具卸載噴嘴陣列控制區域714。額外的或更少的顯示/控制區域可被使用。基板載具狀態區域702包括基板載具112的表示法，該基板載具包括數個基板凹槽716，所述基板凹槽集合成邏輯區域718。每個凹槽可持定一個基板202，且每個區域的凹槽數量及每個載具的區域數量可由使用者配置。例如，在圖7描繪的特定配置中，載具112包括三個區域718，沒有基板202的區域1包括8個凹槽716，具有七個基板202的區域2包含9個凹槽716(兩個是空的)，及裝滿基板202的區域3包括八個凹槽716。注意到基板載具112的表示法可被修改以反映與系統100使用的任何尺寸的載具(具有合適的凹槽數量)。在另一個范例中，每個區域718可僅包括一個凹槽716，且載具112可具有25個區域718。在又另一個范例中，載具112可僅具有一個區域718。一旦基板載具112被映射(mapped)，載具112中存在的基板202可在基板載具狀態區域702中表示。每當基板202為了處理而從載具112移除，或從處理返回到載具112時，基板載具狀態區域702被更新。因此，基板載具狀態區域702用作為載具112中的基板202的目前映射。在運作中，每個區域718被檢查是否存在至少一個基板202。如果基板202存在，則區域狀態將被設定為true。如果不存在基板202，則對應的區域狀態將被設定為false。此舉對每個分別的區域718實施。在所顯示的特定范例中，可從三個區域718存在八種處理凈化狀態704的組合。每個額外的區域718將增加可能的處理凈化狀態704組合的數量，所述組合的數量基于以下公式：n＝2y，其中n表示可能的處理凈化狀態的數量且y表示區域的數量。因此，兩個區域718將有四個處理凈化狀態704的組合，三個區域718將有八個處理凈化狀態704的組合，四個區域718將有十六個處理凈化狀態704的組合，二十五個區域718將產生33,554,432個處理凈化狀態704的組合，等等。提供給每個區域718的“清除晶圓”按鈕允許操作員在模擬模式中測試各種區域的配置。處理凈化狀態顯示區域704反映了系統100的當前凈化狀態，且是基于哪些區域718中目前具有至少一個基板202來決定。如處理凈化狀態顯示區域704的行(row)720所顯示，狀態7被高亮顯示，指示當前的處理凈化狀態是狀態7。在此情況下，因為區域1沒有基板而區域2及區域3各自具有至少一個基板存在(注意到區域2及區域3被高亮顯示而區域1不是)。行722、行724及行726一起提供所有可能的處理凈化狀態1至狀態8的類似真值表(truthtable)的表示法。該表格的查閱揭示了狀態7對應至載具112中的區域718的當前狀態。在例示性范例中，如果一個基板將返回至載具112的區域1中的凹槽716，則處理凈化狀態將改變到狀態5(亦即，所有區域包括至少一個基板)。如果接著區域2及區域3中的所有基板被移除而在區域1中留下一個基板，則處理凈化狀態將改變至狀態3。噴嘴陣列狀態區域706表示基板間噴嘴陣列204及布幕噴嘴陣列208的當前狀態。該陣列的狀態是基于處理凈化狀態顯示區域704中所指示的當前處理凈化狀態，而基于噴嘴陣列配置控制區域708(下方描述)中定義的配置來決定的。在此范例配置中(例如，圖5a)，基板間噴嘴陣列204是三狀態的，代表著所述基板間噴嘴陣列可為關閉的、低的或高的，且布幕噴嘴陣列208是雙狀態的，代表著該布幕噴嘴陣列是開啟的或關閉的。左邊的基板間噴嘴陣列204的當前狀態(n1)是由狀態標記728所指示，在右邊的基板間噴嘴陣列204的當前狀態(n2)是由狀態標記730所指示，且在中心的布幕噴嘴陣列208的當前狀態(c1)是由狀態標記732指示。為了繪示所顯示的范例，目前在系統100處于處理凈化狀態7(如處理凈化狀態顯示區域704，行720中所指示)的同時，n1為low，n2為high，且c1為on。在噴嘴陣列狀態區域706中所指示的陣列的當前狀態是由噴嘴陣列配置控制區域708及當前處理凈化狀態所決定的。噴嘴陣列配置控制區域708包括：對每個處理凈化狀態定義所需狀態的布幕噴嘴陣列行734、對每個處理凈化狀態定義所需狀態的左基板間噴嘴陣列(n1)行736、及對每個處理凈化狀態定義所需狀態的右基板間噴嘴陣列(n2)行738。每個行上的每個輸入框允許對特定行的陣列的每個處理凈化狀態(亦即，每個列)選擇所需狀態。可用于每種陣列的各種狀態被指示于按鍵顯示區域710中，且對應于氣流控制氣動回路500a的硬件配置(圖5)。如所顯示地，基板間噴嘴陣列可配置為關閉的(off)(由空白輸入框指示)，低的(low)(由勾選輸入框指示)，及高的(high)(由填滿輸入框指示)。布幕噴嘴陣列可配置為關閉的(off)(由空白輸入框指示)，及開啟的(on)(由勾選輸入框指示)。替代的符號及安排可被使用。除了基于每個區域中不存在或存在至少一個基板以在處理凈化狀態顯示區域704中定義的八個處理凈化狀態外，兩個額外的凈化狀態可基于基板載具中的fi機器人的機械手(endeffector)的存在來定義。在基板載具裝載運作期間，具有基板的機械手進入載具，將基板放置在凹槽中，且接著空的機械手退出。在基板載具卸載運作期間，空的機械手進入載具，從凹槽拾取基板，且接著持有該基板的機械手從該載具退出。載具裝載噴嘴陣列控制區域712在基板載具裝載處理期間定義了布幕噴嘴陣列208及基板間噴嘴陣列204的配置狀態。載具卸載噴嘴陣列控制區域714在基板載具裝載處理期間定義了布幕噴嘴陣列208及基板間噴嘴陣列204的配置狀態。在載具裝載噴嘴陣列控制區域712及載具卸載噴嘴陣列控制區域714兩者中，按鍵顯示區域710中使用的相同符號可被使用。可被包括在載具裝載噴嘴陣列控制區域712及載具卸載噴嘴陣列控制區域714兩者中的額外配置控制為機械手類型指示符。例如，在一些實施例中，包括夾緊機制以用于牢固地持定基板的機械手可被使用。在其他實施例中，不夾緊基板的機械手可被使用。如果基板不以夾緊機制來固定到機械手，則使用者可能不希望冒險藉由來自一或更多個陣列的氣流而使基板從機械手脫落。因此，若使用非夾緊機械手葉片，則機械手類型指示符可被用來復蓋載具裝載噴嘴陣列控制區域712或載具卸載噴嘴陣列控制區域714中的配置。在一些實施例中，額外的顯示/控制區域可被提供，以控制氣動致動器回路500b(圖5b)的運作，以控制額外的配置選項，例如基板間噴嘴陣列204、布幕噴嘴陣列208、噴嘴頭304的氣室308中的可調整風箱、基板間噴嘴陣列204或布幕噴嘴陣列208上的噴嘴孔板312(圖3)、及/或任何其他可移動或可調整的機械組件的運動。在使用具有質量流控制器614的氣流控制氣動回路600的實施例中，替代簡單的三狀態或雙狀態的狀態輸入選項，指定實際流動速率的參數數值可被輸入到噴嘴陣列配置控制區域708的布幕噴嘴陣列行734、左基板間噴嘴陣列(n1)行736、及右基板間噴嘴陣列(n2)行738的輸入框中。氣流控制氣動回路600可回應于所輸入的參數數值來控制。類似地，載具裝載噴嘴陣列控制區域712及載具卸載噴嘴陣列控制區域714中的輸入框可經適配以接收指定實際流動速率的參數數值，以控制來自噴嘴陣列的氣流。在一些實施例中，可使用噴嘴陣列配置控制區域708中的額外控制輸入來選擇替代氣體。現在轉向圖8，提供了流程圖，該流程圖依據本發明的實施例描繪操作基板載具凈化系統100的范例方法800。基板載具放置在裝載端口上，且該載具門被打開(802)。在一些實施例中，載具門打開狀態及映射狀態可被定義，其中隨著載具門被打開且載具內的基板被映射，噴嘴陣列對著該載具噴射氣流(804)。一旦門被打開，該載具內的基板被映射，以決定或確認實際在該載具中的基板的數量及位置。一旦基板被映射，系統100基于基板映射而決定處理凈化狀態，并基于所決定的處理凈化狀態的預定配置來啟動基板間噴嘴陣列及布幕噴嘴陣列(806)。隨著基板202被fi機械人移出及進入基板載具112，系統100被改變至合適的預定噴射狀態配置，該預定噴射狀態配置是在載具裝載噴嘴陣列控制區域712或載具卸載噴嘴陣列控制區域714任一者中指定的(808)。在每個基板被拾取或放置后，映射被更新(810)且系統100決定處理凈化狀態是否應該被改變(812)。若是，則新的處理凈化狀態被決定，且所述噴嘴陣列的狀態依據新的狀態而改變(806)。若否，則所述噴嘴陣列依據當前的處理凈化狀態而使氣體流動(814)。該方法重復進行，直到所有基板都被處理及/或基板載具將被密封且移除。在一些實施例中，載具門關閉狀態可被定義，其中噴嘴陣列隨著載具門被關閉而對該載具噴射氣流。許多實施例在本揭示中描述，且僅為了例示性目的而呈現。所描述的實施例并非，且無意圖以任何方式成為限制性的。目前揭示的發明概念可廣泛地應用于許多實施例，如同從本揭示顯而易見。本領域具有通常知識者將意識到，所揭示的實施例可以各種改變及替換而行使，例如結構、邏輯、軟件，及電性改變。雖然發明的所揭示實施例的特定特征可參考一或更多個特定實施例及/或繪圖來描述，但應理解到這樣的特征不限制在所參考描述的一或更多個特定實施例或繪圖中使用，除非明確地另有指定。本揭示既非所有實施例的字面描述，亦非必須存在于所有實施例的發明實施例特征的列表。標題(闡述于本揭示的第一頁的開頭)不應被當作以任何方式作為所揭示的發明范圍的限制。“產品”這個用詞代表任何機器、制造及/或物質的組合物，如35u.s.c.§101所認定，除非另有明確指定。當單一裝置、元件或制品在此描述時，一個以上的裝置、元件或制品(無論他們是否配合)可替代地被用來代替所描述的單一裝置、元件或制品。從而，被描述為裝置所具有的功能性可替代地由一個以上的裝置、元件或制品(無論他們是否配合)所具有。類似地，在一個以上的裝置、元件或制品在此描述的地方(無論他們是否配合)，單一的裝置、元件或制品可替代地用來代替所描述的一個以上的裝置、元件或制品。例如，復數個基于電腦的裝置可被單一個基于電腦的裝置取代。從而，被描述為一個以上的裝置、元件或制品所擁有的各種功能性可替代地由單一個裝置、元件或制品所擁有。所描述的單一裝置的功能性及/或特征可替代地體現于一或更多個其他裝置，該其他裝置被描述但并未明確地描述為具有這樣的功能性及/或特征。因此，其他實施例不必包括所描述的裝置本身，而是可包括一或更多個其他裝置，該其他裝置在其他實施例中將具有這樣的功能性/特征。彼此通信的裝置不必是彼此連續通信的，除非另有明確指定。反之，這樣的裝置只需要在必要或需要的時候彼此傳送，且可能實際上大部分的時間是避免交換資料的。例如，透過網際網路與另一臺機器通信的機器可能一次好幾周不傳送資料至另一臺機器。此外，彼此通信的裝置可透過一或更多個中介(intermediaries)而直接或間接地進行通信。具有數個元件或特征的實施例的描述并不意味著所有或甚至任何這些元件及/或特征是必要的。反之，各種選擇性元件被描述以說明本發明可能的實施例的廣泛種類。除非另有明確指定，否則沒有元件及/或特征是必要的或要求的。進一步而言，盡管處理步驟、算法或類者可以連續順序來描述，但這樣的處理可經配置而以不同的順序來作業。換言之，可明確描述的任何步驟序列或順序并不必然指示該些步驟以該順序行使的要求。在此描述的處理步驟可以任何實際順序來行使。進一步而言，某些步驟可同時或同步行使，盡管被描述或暗示為非同時發生(例如，因為一個步驟被描述在另一步驟之后)。另外，藉由繪圖中的描繪來繪示的處理不意味著所繪示的處理是排斥其他的變化及修改，且不意味著所繪示的處理或其任何步驟對本發明是必要的，且不意味著所繪示的處理是優選的。“決定”某事物可以各種方式來行使，且因此“決定”這個用詞(及類似用詞)包括運算、計算、推導、查看(例如，在表格、資料庫或資料結構中)、探知、認識、及類者。在此使用的“顯示器”的用詞是傳達訊息給觀查者的區域。該訊息可為動態的，在此情況下，lcd、led、crt、數字光處理(digitallightprocessing,dlp)、背面投影、正面投影或類者可被用以形成該顯示器。顯示器的縱橫比可為4：3、16：9或類者。此外，顯示器的解析度可為任何合適的解析度，例如480i、480p、720p、1080i、1080p或類者。傳送到顯示器的訊息格式可為任何合適的格式，例如標準清晰度電視(sdtv)、增強清晰度電視(edtv)、高清晰度電視(hdtv)、或類者。該訊息可類似地是靜態的，在此情況下，涂層玻璃(paintedglass)可用于形成該顯示器。注意到，若需要的話，靜態訊息可在能夠顯示動態訊息的顯示器上呈現。某些顯示器可為互動的，且如眾所皆知地可包括觸控屏幕特征或相關聯的鍵盤。本揭示可參考“控制系統”、介面，或程式。如在此所使用的控制系統、介面，或程式的用詞，可為電腦處理器，該電腦處理器耦合至具有指令的作業系統、裝置驅動器、及適當的程序(統稱為“軟件”)，以提供對控制系統描述的功能性。該軟件被存儲在相關聯的存儲裝置中(有時稱為電腦可讀取媒體)。雖然考量到合適的編程通用電腦或計算裝置可被使用，但亦考量到硬線電路或定制硬件(例如，專用集成電路(asic))可用來代替或結合軟件指令，以用于實作各種實施例的處理。因此，實施例不受限于硬件及軟件的任何特定組合。“處理器”是指任何一或更多個微處理器、中央處理單元(cpu)裝置、計算裝置、微控制器、數字信號處理器、或類似的裝置。模范處理器為intelpentium或amdathlon處理器。“電腦可讀取媒體”的用詞是指參與提供數據(例如，指令)的任何法定媒體，該電腦可讀取媒體可由電腦、處理器或類似裝置讀取。這樣的媒體可采取許多形式，包括但不限于非揮發媒體、揮發性媒體、及傳輸媒體的特定法定種類。非揮發媒體包括例如，光盤或磁盤及其他永久存儲器。揮發性媒體包括dram，其通常構成主要存儲器。法定類型的傳輸媒體包括同軸纜線、銅線及光纖，包括電線，所述電線包含耦合到該處理器的系統匯流排。電腦可讀取媒體的常見形式包括，例如，軟盤、韌盤(flexibledisk)、硬盤、磁帶、任何其他的磁性媒體、cd-rom、數字影音光碟(dvd)、任何其他的光學媒體、穿孔卡帶、紙帶、具有孔洞圖案的任何其他實體媒體、ram、prom、eprom、flash-eeprom、usb內存棒、伺服器鑰(dongle)，任何其他的存儲晶片或卡匣、載波、或電腦可讀取的任何其他媒體。“電腦可讀取存儲器”及/或“有形媒體”特定地排除仍然可由電腦來讀取的信號、波(waves)、及波的形式或其他無形或非暫態媒體。各種形式的電腦可讀取媒體可涉及將指令序列承載至處理器。例如，指令序列(i)可從ram傳遞到處理器，(ii)可承載于無線傳送媒體上，及/或(iii)可根據數種格式、標準或協議而格式化。為了更詳盡的列舉協議，“網絡”的用詞于下方定義，且包括許多模范協議，所述協議亦可應用于此。將顯而易見的是，在此描述的各種方法及算法可由控制系統來實作及/或軟件的指令可經設計以實現本發明的處理。在數據庫被描述的地方，本領域具有通常知識者將理解到：(i)用來替代所描述的數據庫結構的數據結構可輕易地采用，及(ii)除了數據庫之外的其他存儲結構可輕易地采用。在此呈現的任何樣本數據庫的任何繪示或描述是用于資訊的儲存呈現的例示性安排。除了由，例如，在繪圖或其他地方繪示的表格之外的任何其他安排可被采用。類似地，數據庫的任何繪示的項目僅代表模范訊息；本領域具有通常知識者將理解到，項目的數量及內容可與在此所描述的不同。此外，盡管存在數據庫作為表格的任何描述，其他格式(包括關系數據庫、物件基礎模型、分層電子文件結構、及/或分布式數據庫)可被使用，以儲存及操縱在此描述的數據類型。類似地，數據庫的對象方法或行為可被用于實現各種處理，例如在此描述的處理。此外，所述數據庫可能以已知的方式而區域地儲存，或遠離存取該數據庫的裝置而儲存。此外，雖然統一數據庫可被考量，但所述數據庫亦可能在各種裝置之間分布及/或復制。在此所用的“網絡”是一或更多個計算裝置可彼此通信的環境。這樣的裝置可透過有線或無線媒體而直接或間接通信，例如透過網際網絡、lan、wan或乙太網(或ieee802.3)、令牌環(tokenring)，或透過任何適當的通信構件或通信構件的組合。模范協議包括但不受限于：藍牙tm、分時多工存取(tdma)、分碼多工存取(cdma)、全球移動通信系統(gsm)、用于gsm演進的增強型數據速率(enhanceddataratesforgsmevolution,edge)、通用分組無線服務(gprs)、寬帶cdma(wcdma)、高級移動電話系統(amps)、數字amps(d-amps)、ieee802.11(wi-fi)、ieee802.3、sap、最佳品種(bestofbreed,bob)、系統對系統(s2s)，或類者。注意到，如果視頻信號或大檔案經由網絡發送，則寬帶網絡可被用于減輕延遲，該延遲與這樣的大檔案的傳輸相關聯，然而，此舉不是嚴格要求的。每個裝置經適配以在這樣的通信構件上通信。任何數量及類型的機器可透過網絡而通信。在網絡是網際網絡的地方，透過網際網絡的通信可經由網站，該網站由電腦或遠端服務器透過線上數據網絡而維護，該線上數據網絡包含商業線上服務供應商、公告板系統(bulletinboardsystems)及類者。在又其他的實施例中，所述裝置可彼此透過rf、有線電視、衛星連結及類者進行通信。在適當的地方，加密或其他安全措施，例如登錄及密碼可被提供，以保護所有權或機密訊息。將顯而易見的是，在此描述的各種方法及算法可藉由，例如，適當地編程通用電腦及計算裝置而實現。通常處理器(例如，一或更多個微處理器)，將從存儲器或類似裝置接收指令，并且執行所述指令，從而行使所述指令所定義的一或更多個處理。此外，實現所述方法及算法的程序可利用各種媒體(例如，電腦可讀取媒體)而以數種方式儲存及傳送。在一些實施例中，硬線回路或定制硬件可用來代替或結合實現各種實施例的處理的軟件指令。因此，實施例不受限于硬件及軟件的任何特定組合。從而，處理的描述類似地描述了至少一個用于行使該處理的裝置，且類似地描述了至少一個用于行使該處理的電腦可讀取媒體及/或存儲器。行使該處理的設備可包括適合行使該處理的元件及裝置(例如，處理器、輸入及輸出裝置)。電腦可讀取媒體可儲存適合行使該方法的程序元素。本揭示對本領域具有通常知識者提供數個實施例及/或發明的可行(enabling)描述。某些實施例及/或發明可能沒有在本申請案中請求，但仍可在一或更多個延續申請案中請求，該延續申請案請求本申請案的優先權的權益。前述僅揭示本發明的范例實施例。落在本發明的范疇內的上方揭示的設備、系統及方法的改變將顯見于本領域具有通常知識者。從而，雖然本發明已結合其模范實施例而揭示，但應理解到，其他實施例可落入本發明的精神及范疇內，如以下權利要求所定義。當前第1頁12當前第1頁12