觸摸面板和觸摸面板的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及具有透明導電層的圖案的觸摸面板。
【背景技術】
[0002]近年來，因容易直觀地了解使用者正在進行的作業或接著應進行的操作等原因，被稱為觸摸面板的輸入設備逐步興起。觸摸面板中，在液晶畫面上設有透明電極，使用者觸碰液晶畫面的相應部分時，提高讀取透明電極的電壓的變化等，由此感知觸摸。
[0003]根據感知方式，觸摸面板可分為光學式、電阻膜式、靜電電容式、超聲波式、電磁感應式等。尤其是在面向終端用戶的智能手機或平板PC等中，能多點觸摸的靜電電容式趨于增加。作為搭載有靜電電容式的觸摸面板的顯示裝置的構成例，在具有LCD等顯示面板和位于其觀察側的用于防止來自LCD顯示面板的噪音的屏蔽層的顯示裝置中，進一步在其觀察側設置觸摸面板，在觸摸面板的更前面，隔著粘接層等搭載有供手指觸碰的保護玻璃等。作為靜電電容式觸摸面板的工作原理，當手指觸碰最表面層時，檢測觸摸面板內的電極的靜電電容的變化，通過對該變化的大小、該變化產生的場所、手指的接觸狀態和手指的動作進行數據化，由此進行工作。
[0004]靜電電容式觸摸面板中，需要X方向和與其正交的Y方向這兩個方向的電極，通過檢測出手指接觸時的靜電電容的變化，且檢測出手指接觸位置的坐標，由此識別觸摸位置或觸摸動作。X電極層與Y電極層彼此不接觸，而是隔著絕緣膜層疊。X電極和Y電極主要采用透明導電材料。各電極是通過在基材上使導電材料成膜并進行布圖而形成為電極層。電極的布圖形狀有線狀或菱形等。X方向的圖案和Y方向的圖案具有在層疊方向的正視下彼此重疊的部分少的特征。
[0005]觸摸面板中使用的導電材料的主流是ITO (氧化銦錫)。其理由在于:能兼顧高導電性和作為導電層(導電膜)的高透明性，適于設置在液晶面板上用作電極。然而，因為銦是稀有金屬，將來可能難獲取，而且成膜時需要真空工序所以不宜批量生產，所以代替ITO的導電材料的開發得到推進。作為代表例，可列舉出碳納米管、銀納米線。均勻地涂布有碳納米管或銀納米線的電極在導電性和透明性方面有時會超過ITO基材，而且，因成膜時無需真空工序，所以可期待作為代替ITO的導電材料。
[0006]另一方面，由這些導電材料成膜的導電面比ITO基材更不耐高濕熱等，若為單體則有時會喪失導電性。因此，有時在導電面上設置保護層來運用。通過保護層，作為導電基材的耐久性提高，但靜電電容式觸摸面板用的布圖變得困難，從而有觸摸面板的工作出現不良狀況等的擔心。
[0007]進而，當為智能手機等5英寸以下的尺寸時，由于想在畫面上擴大用戶可操作的區域，所以強烈要求使稱為邊框的配線存放區域變窄，需要將用于從透明電極獲取信號的配線與透明電極的接觸面積控制在0.5_2左右。而且，小型化和輕量化得到推進的結果也強烈要求觸摸面板中使用的基材薄型化。
[0008]然而，在此種小型觸摸面板的制造過程中進行布圖時，膜在布圖工序或卷取工序中發生伸縮，在X方向和Y方向上出現未對準，所以會發生觸摸面板的工作故障。基材越薄則該現象越顯著，根據卷取的張力或工序的熱歷程，還可能會出現之后的配線印刷的位置完全未對準的故障。
[0009]對此，考慮到布圖工序中膜的伸縮，通過采取使后續工序的精度具有富余等對策，能在一定程度上解決問題。然而，所要求的觸摸面板的大小越小，該富余越少。
[0010]現有技術文獻
[0011]專利文獻
[0012]專利文獻1:日本專利第4888608號公報
【發明內容】
[0013]發明要解決的技術問題
[0014]專利文獻I中，在基材上設置配線且在其上進一步設置導電層。然而，希望進一步提高觸摸面板的可靠性。希望進一步提高布圖時的可靠性。
[0015]本發明是鑒于上述問題而作出的，其目的在于提供一種配線時無需擔心未對準的觸摸面板的制造方法、和利用該制造方法制造的觸摸面板。
[0016]用于解決技術問題的手段
[0017]用于解決上述課題的本發明的一個方面是一種觸摸面板，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線的觸摸面板，其具備用于保護導電層的保護層，在透明基材上依次層疊有配線、導電層和保護層，導電層是在將導電層的材料層疊于配線上之后進行布圖而成的。
[0018]另外，本發明的另一方面是一種觸摸面板，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線的觸摸面板，其具備用于保護導電層的保護層，在透明基材上依次層疊有導電層、配線和保護層，導電層是在配線的層疊之后進行布圖而成的。
[0019]另外，保護層可以是進行布圖而成的，導電層也可通過在被保護層的圖案覆蓋的狀態下進行布圖而形成有圖案。
[0020]另外，保護層可以是進行布圖而成的，導電層也可通過在被保護層的圖案覆蓋的狀態下進行布圖而形成有圖案。
[0021]另外，透明基材的厚度也可為25 μ m?250 μ m。
[0022]另外，配線的厚度也可為3 μ m?10 μ m。
[0023]另外，配線的寬度和配線的間隔也可分別是5 μπι?100 μπι。
[0024]另外，也可在透明基材的至少一個面上進一步追加波長365nm的光的透射率小于
1%的層。
[0025]另外，保護層也可覆蓋整個導電層。
[0026]另外，本發明的再一個方面是一種觸摸面板的制造方法，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線、且在至少一個面上具有用于保護導電層的保護層的觸摸面板的制造方法，其包含如下工序:在透明基材上依次層疊配線和導電層，在將保護層層疊于導電層上之后，對導電層進行刻蝕。
[0027]另外，也可包含如下工序:在將保護層以圖案狀層疊于導電層上之后，對導電層進行刻蝕。
[0028]另外，本發明的又一方面是一種觸摸面板的制造方法，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線、且在至少一個面上具有用于保護導電層的保護層的觸摸面板的制造方法，其包含如下工序:在透明基材上依次層疊導電層和配線，在將保護層層疊于導電層上之后，對導電層進行刻蝕。
[0029]另外，也可包含如下工序:將保護層以圖案狀層疊于導電層上之后，對導電層進行刻蝕。
[0030]另外，本發明的再一方面是一種觸摸面板的制造方法，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線、且在至少一個面上具有用于保護導電層的保護層的觸摸面板的制造方法，其包含如下工序:在透明基材上依次層疊配線和導電層，在對導電層進行刻蝕之后，將保護層層疊于導電層上。
[0031]另外，本發明的又一方面是一種觸摸面板的制造方法，其是在透明基材的至少一個面上具有具備透明性的導電層和用于從導電層獲取信號的配線、且在至少一個面上具有用于保護導電層的保護層的觸摸面板的制造方法，其包含如下工序:在透明基材上依次層疊導電層和配線，在對導電層進行刻蝕之后，將保護層層疊于導電層上。
[0032]發明的效果
[0033]根據本發明，首先將配線層疊于基材上之后再在該配線上依次層疊透明導電層和保護層，或者是在層疊于基材上的透明導電層上層疊配線之后再進一步追加保護層，由此無需擔心兩面的配線印刷時的未對準，而且能利用保護層來保護導電面。
[0034]另外，通過預先對設在導電層上的保護層進行布圖，能減少對導電層布圖時圖案間的殘渣。
[0035]另外，通過將透明基材的厚度設為25 μ m?250 μ m(例如25?50 μ m)，能謀求觸摸面板單元的小型化。
[0036]另外，通過將配線的厚度設為3?10 μπι(例如3?6 μπι)，從而當利用卷對卷方式制作觸摸面板時，能防止用卷筒卷取膜時發生斷開。另外，若使厚度比上述程度更薄，則可能會因配線的電阻值而產生故障。
[0037]另外，尤其當制作小型的觸摸面板時，要求配線較細且使配線間隔盡量小。因此，通過使配線的寬度和配線的間隔分別為5 μπι?100 μπι(例如15?20 μπι)，能滿足上述要求。
[0038]另外，通過在透明基材的至少一個面上追加能將波長365nm的光的透射率抑制為小于1%的層，從而尤其在利用光刻技術進行布圖時，即使對兩面同時進行曝光，也能在彼此不會產生曝光干涉的情況下使抗蝕劑固化。因此，無需擔心工序縮減和薄型膜的布圖工序中的未對準，進而由于能以一張膜構成觸摸面板，所以可期待進一步的薄型化。
[0039]進而，通過在設置保護層之前對導電層進行布圖，可以減少對導