用于計算機的電磁屏蔽窗口的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及計算機電磁屏蔽的技術領域，更具體的說，本發明涉及一種用于計算機的電磁屏蔽窗口。
【背景技術】
[0002]隨著現代電子電氣設備工業的快速發展，各種無線通信系統和電子器件數量的指數級增長，導致電磁干擾和泄露問題日益嚴重，而電磁污染問題也日漸突出。目前電磁屏蔽的主要方法是采用各種屏蔽材料對電磁輻射進行有效阻隔與損耗。屏蔽通常是利用屏蔽體阻止或衰減電磁干擾能量的傳輸通道，從而抑制電磁干擾。
[0003]對于屏蔽體的形式，通常為層疊體材料或添加有導電顆粒的聚合物。對于層疊體材料，為了實現良好的屏蔽效果，往往需要不同的金屬材料形成多層屏蔽體結構，如此對于窗口而言，不僅導致透光率降低，而且也顯著提高了成本。另外，對于添加有導電顆粒的聚合物，其通常僅對于高頻的電磁波具有較好的屏蔽效果，而且為了達到所需的屏蔽效能，導電顆粒的添加量也過高。
【發明內容】
[0004]為了解決現有技術存在的上述技術問題，本發明的目的在于提供一種用于計算機的電磁屏蔽窗口。
[0005]為了實現上述發明目的，本發明采用了以下技術方案:
本發明所述的用于計算機的電磁屏蔽窗口，其特征在于:所述電磁屏蔽窗口由包括丙烯酸樹脂的組合物材料澆注得到，并且所述電磁屏蔽窗口的可見光透過率多75%，霧度(2.0%，且在電磁頻率為10 KHz -1OOMHz的任意頻率下的屏蔽效能彡50dB。
[0006]其中，所述電磁屏蔽窗口在電磁頻率為10KHz~100MHz的頻率下的平均屏蔽效能彡 60dBo
[0007]作為優選地，所述電磁屏蔽窗口的可見光透過率彡80%，霧度彡1.5%。
[0008]其中，所述組合物包括:100重量份的丙烯酸樹脂、1.5-5.0重量份的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒，0.25-1.0重量份的銀納米線。
[0009]其中，所述組合物還進一步包括:0.25-0.50重量份的羥甲基丙烯酰胺，和
0.50-0.75重量份的三烯丙基異氰脲酸酯。
[0010]其中，所述銀納米線為長寬比為20~2000，優選為50~500 ;所述銀納米線的長度大約為5~100 μπι，優選為20~100 y m。在本發明中，所述銀納米線通過現有技術常規的技術制備即可，例如可以通過在溶液體系中還原硝酸銀來合成銀納米線。
[0011]其中，所述鍍鎳硼的二氧化硅顆粒，通過在二氧化硅顆粒表面通過活化、化學鍍工藝得到。
[0012]本發明所述的用于計算機的電磁屏蔽窗口具有以下有益效果:
本發明通過在丙烯酸樹脂中混合銀納米線和鍍鎳硼二氧化硅顆粒具有優異的電磁屏蔽性能，尤其是在低頻條件下同樣具有優良的電磁屏蔽效能；而且制備的材料透明性高，霧度低，可以作為具有電磁屏蔽功能的窗口使用。
【附圖說明】
[0013]圖1為實施例3在不同頻率下的電磁屏蔽效能。
[0014]圖2為實施例6在不同頻率下的電磁屏蔽效能。
[0015]圖3為比較例I在不同頻率下的電磁屏蔽效能。
[0016]圖4為比較例2在不同頻率下的電磁屏蔽效能。
[0017]圖5為比較例3在不同頻率下的電磁屏蔽效能。
【具體實施方式】
[0018]以下將結合具體實施例對本發明所述的用于計算機的電磁屏蔽窗口及其制備方法做進一步的說明，以幫助本領域的技術人員對本發明的發明構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。
[0019]在本發明的實施例中，所述鍍鎳硼的二氧化硅顆粒通過以下工藝制備得到:選擇的二氧化硅顆粒的平均粒徑為5~20 μπι之間，密度為0.8~1.2 g/cm3。首先進行前處理，即在二氧化硅顆粒進行清洗、粗化以及SnCl2溶液敏化、Pd活化的前處理；化學鍍的參數條件如下:硫酸鎳:15-20 g/L，氯化鎳:3.2-5.0 g/L，硼氫化鈉:10-12 g/L，氨基磺酸:1.5-2.0g/L，EDTA 二鈉:2.5-3.0 g/L，丙烯酰氧乙基三甲基氯化銨:1.0-1.2g/L，二乙基二硫代氨基甲酸鈉:0.1-0.2 g/L，和余量的去離子水；化學鍍溫度為60~70°C，時間為25~30 min，化學鍍完成后在N2熱氣流下進行干燥。利用粒度測試分析儀可以得出鍍覆后的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒沒有發生團聚，并且鎳硼鍍層中硼的含量約為5.5-7.5wt%。
[0020]在本發明的實施例中，所采用的銀納米線為長寬比為50~500 ;所述銀納米線的長度大約為20~100 μπι。
[0021]實施例1
將100重量份的甲基丙烯酸甲酯的均聚物(ΡΜΜΑ)、2.0重量份的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒和0.40重量份的銀納米線加入到高速混合機中，其攪拌速度為3000轉/分鐘，攪拌時間為20分鐘得到混合均勻的混合物。將所述混合物加熱形成漿料并加入到兩塊二氧化硅玻璃與墊條組成的模型中澆注得到厚度為1mm的薄板，經過檢測其可見光透過率為82.3%，霧度為1.0%。在電磁頻率為10 KHz-lOOMHz的屏蔽效能均不低于50dB。
[0022]實施例2
將100重量份的甲基丙烯酸甲酯的均聚物(PMMA)、5.0重量份的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒和1.0重量份的銀納米線加入到高速混合機中，其攪拌速度為2500轉/分鐘，攪拌時間為30分鐘得到混合均勻的混合物。將所述混合物加熱形成漿料并加入到兩塊二氧化硅玻璃與墊條組成的模型中澆注得到厚度為1mm的薄板，經過檢測其可見光透過率為76.3%，霧度為1.8%。在電磁頻率為10 KHz-lOOMHz的屏蔽效能均不低于50dB。
[0023]實施例3
將100重量份的甲基丙烯酸甲酯的均聚物(PMMA)、3.0重量份的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒和0.5重量份的銀納米線加入到高速混合機中，其攪拌速度為2500轉/分鐘，攪拌時間為30分鐘得到混合均勻的混合物。將所述混合物加熱形成漿料并加入到兩塊二氧化硅玻璃與墊條組成的模型中澆注得到厚度為10_的薄板，經過檢測其可見光透過率為79.1%，霧度為1.5%。在電磁頻率為10 KHz-lOOMHz的屏蔽效能均不低于50dB。
[0024]實施例4
將100重量份的甲基丙烯酸甲酯的均聚物(PMMA)、2.0重量份的鍍鎳硼的二氧化硅顆粒、0.40重量份的銀納米線、0.25重量份的羥甲基丙烯酰胺，和0.75重量份的三烯丙基異氰脲酸酯加入到高速混合機中，其攪拌速度為3000轉/分鐘，攪拌時間為20分鐘得到混合均勻的混合物。將所述混合物加熱形成漿料并加