導電基板及制造該導電基板的方法
【技術領域】
[0001]本申請要求享有于2012年11月30日向韓國知識產權局提交的申請號為10-2012-0138371的韓國專利申請的優先權，其公開內容以整體引用的方式并入本文中。
[0002]本發明涉及一種導電基板及制備該導電基板的方法。
【背景技術】
[0003]一般而言，觸摸屏可根據信號的檢測方式而分類如下。即，在對其施加直流電壓時，通過壓力按壓，憑借電流值或電壓值的變化感測位置的電阻型；在對其施加交流電壓時，利用電容耦合的電容型；在對其施加磁場時，隨電壓變化感測選定位置的電磁型等。
【發明內容】
[0004][技術問題]
[0005]本領域需要開發用以改善各個類型的觸摸屏性能的技術。在此情況下，在不采用現有的氧化銦錫(ITO)而采用細金屬線用于技術開發的模式的情況下，存在由于金屬的高反射率而能看清其圖案的問題。
[0006][技術方案]
[0007]本發明提供一種制備導電基板的方法，包括:
[0008]I)在基板上形成導電圖案；
[0009]2)通過進行電鍍在所述導電圖案上的至少一部分區域形成第一暗化層；以及
[0010]3)通過將所述導電圖案浸漬到氧化劑溶液中而在所述導電圖案上的至少一部分區域形成第二暗化層。
[0011]此外，本發明提供一種通過制備導電基板的方法而制備的導電基板。
[0012]此外，本發明提供一種導電基板，包括:
[0013]基板；
[0014]導電圖案，其設置于所述基板上且包含電連接區域和電絕緣區域；
[0015]第一暗化層，其設置于所述電連接區域上；和
[0016]第二暗化層，其設置于所述電絕緣區域上。
[0017]此外，本發明提供一種包含所述導電基板的觸摸屏。
[0018]另外，本發明提供一種包含所述觸摸屏的顯示器。
[0019][有益效果]
[0020]根據本發明，在包含設置于有效屏幕部分的導電圖案的觸摸屏中，將暗化層引入到所述導電圖案的可視面以防止所述導電圖案的反射而不影響所述導電圖案的導電性，且額外引入了所述可視面的側邊暗化層以提高暗化程度，因而改善了所述導電圖案的隱蔽。另外，通過引入上述的暗化層而可以進一步提高觸摸屏的對比特性。
【附圖說明】
[0021]圖1和2為示意性圖示了根據本發明的示例性的實施方式的導電基板的圖。
[0022]圖3為圖示了根據本發明的示例性的實施方式的用于測量反射率的裝置的構造和設計的圖。
【具體實施方式】
[0023]下文中，將更加詳細地描述本發明。
[0024]一般來說，觸摸屏采用的是基于ITO的導電膜，但存在的問題是，當將ITO應用于大面積的觸摸屏時，由于本身的RC延遲而識別速度較低。為了解決這個問題，進行了引入額外的補償芯片的嘗試，但又有價格上漲的問題。為了解決這個問題，許多公司正在開發通過采用金屬圖案以取代ITO導電膜的技術。然而，這個技術的缺點是，在采用了普通的單一金屬的情況下，由于金屬的高反射率，就可見性而言，人眼能很好地看清圖案，且由于相對于外界光的高的反射和霧度值，還可能會產生眩光。
[0025]因此，本發明的發明人已經進行了能夠改善觸摸屏中的導電圖案的可見性和外界光的反射特征的研宄，所述觸摸屏包含設置于有效屏幕部分的導電圖案，所述觸摸屏與在相關領域中采用基于ITO的導電膜的觸摸屏不同。
[0026]此外，在相關領域的產品(如PDP濾光器)中采用的暗化技術可通常分為三種類型。一種方法是通過運用金屬的導電特征來進行的電鍍法，此方法的缺點是，在所述方法中可賦予暗化層本身導電性，而切斷電(electrically cut)的部分沒有電鍍上。另一種方法是通過氧化金屬的表面來得到暗化的方法，此方法的缺點是，由于不論是否切斷電特性都可進行暗化，但氧化物膜是形成在暗化部分中，因此，對應的部分可能不會導電。最后一種方法是無電鍍法，此方法的缺點是，由于需要無電鍍的預處理，所述無電鍍法可能不適用于小厚度的薄膜，再者，還需要用以延長較低的無電鍍時間的額外預處理步驟以及相當于無電鍍的晶種的層。
[0027]為了克服所述缺點，可以提供了一種通過電鍍來暗化全部的金屬的方法，在此情況下，存在的缺點是，在采用細金屬線的觸摸屏的實際制備過程中，與所述細金屬線電連接的部分和與所述細金屬線電絕緣的部分共存，因此，當應用電鍍時，不可能暗化電絕緣的部分。此外，當應用金屬的氧化時，存在的缺點是，由于通過采用如柔性印刷電路板(FPCB)的部件而與其它裝置相連接的部分的表面的氧化，最終可能不會實現電連接。
[0028]因此，為了解決上述問題，本發明是致力于提供一種通過混合電鍍法和金屬的氧化方法來暗化設置于基板上的導電圖案的方法。
[0029]根據本發明的示例性的實施方式的一種制備導電基板的方法，包括:1)在基板上形成導電圖案；2)通過進行電鍍在所述導電圖案上的至少一部分區域形成第一暗化層；以及3)通過將所述導電圖案浸漬到氧化劑溶液中而在所述導電圖案上的至少一部分區域形成第二暗化層。
[0030]在本發明中，所述暗化層并非指的是設置成暗化層的層的顏色或吸光率本身顯示黑色，而指的是當所述暗化層被構成導電層的金屬和由所述金屬構成的圖案層壓時，由于反射率和光吸收特征而使得具有暗化了看到的顏色的特性的層。
[0031]在本發明中，在包含設置于有效表面部分的導電圖案的觸摸屏中，發現所述導電圖案的光反射主要影響著導電圖案的可見性，而本發明是致力于改善此問題而做出的。詳細的說，在現有的基于ITO的觸摸屏中，由于所述ITO本身的高透明度，由于導電圖案的反射的問題不會明顯顯現，但發現導電圖案的反射性和光吸收特征對在包含設置于有效屏幕部分的導電圖案的觸摸屏中的線條的察覺發揮了關鍵的影響。
[0032]詳細地說，當暗化層粘附于具有高反射率的層(如導電圖案)時，所述暗化層在特定的厚度條件下具有相消性干涉和自身光吸收性，因而通過類似地調節所述暗化層上的光反射和穿過所述暗化層的所述導電圖案的光反射，與此同時，在所述特定的厚度條件下，也引導了兩種光之間的相消性干涉，而展現出通過所述導電圖案降低反射率的效果。在此情況下，所述暗化層優選具有比所述導電圖案低的反射率。由此，相較于使用者直接觀看所述導電圖案的情況，可降低光的反射率，因此，所述導電圖案的可見性可大大降低。
[0033]在本發明中，所述基板的材料可根據需要應用根據本發明的導電基板的領域適當選擇，作為其優選的實例，有玻璃或無機材料基板、塑料基板或膜，但所述材料不限于此。
[0034]所述導電圖案可包括通過導電金屬線形成的圖案，優選所述導電圖案的材料具有優異的導電性且易于蝕刻。
[0035]一般而言，所述具有優異導電性的材料所具有的缺點是反射率高。然而，在本發明中，通過采用所述暗化層，使得采用所述具有高反射率的材料可以形成所述導電圖案。在本發明中，即使采用具有70-80%的總反射率的材料，通過所述暗化層，可以降低總反射率，降低所述導電圖案的可見性，以及保持或提高對比特性。
[0036]所述導電圖案的材料的具體實例優選包含含有金、銀、鋁、銅、釹、鉬、鎳或它們的合金的單層膜或多層膜。在這里，所述導電圖案的厚度不作特別的限定，但從所述導電圖案的導電性和其形成過程的經濟效益而言，優選為0.01-10 μm。
[0037]在本發明中，所述導電圖案可包含電連接區域和電絕緣區域，所述第一暗化層可形成于所述電連接區域上，所述第二暗化層可形成于所述電絕緣區域上。
[0038]所述第一暗化層和第二暗化層優選具有接近無色的顏色。然而，所述顏色并非必須為無色，且即使所述暗化層具有顏色，只要所述層具有低反射率，也可引入所述層。在此情況下，所述無色指的是當入射在物體表面上的光不被選擇性地吸收，而關于每個組成的波長均被均勻地反射和吸收時所呈現的顏色。在本發明中，所述第一暗化層和第二暗化層優選采用當在可見光區域400-800nm測量總反射率時，具有50%或更小的每個波段的總反射率的標準偏差的材料。
[0039]所述第一暗化層和第二暗化層的材料為光吸收材料，當形成整個表面層時，只要所述材料由具有上述物理性質的金屬、金屬氧化物、金屬氮化物或金屬氮氧化物制得，可優選采用所述材料而不受特別限制。例如，所述暗化層可以是包含N1、Mo、T1、Cr、Al、Cu、Fe、Co、V、Au、Ag等的氧化物膜、氮化物膜、氮氧化物膜、碳化物膜、金屬膜和它們的組合物。
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