透明導電膜、透明導電膜的制造方法以及觸摸面板的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及適用于靜電容量方式觸摸面板的透明導電膜、適于該透明導電膜的制造的透明導電膜制造方法、以及使用了該透明導電膜的觸摸面板。
【背景技術】
[0002]近年來，使用觸摸面板作為輸入裝置。觸摸面板是能夠通過觸摸顯示畫面上的顯示部位來操作機器的輸入裝置。作為觸摸面板，已知有電阻膜方式、靜電容量方式等形式。
[0003]電阻膜方式是具有2片相對的電阻膜的方式。在對一側的電阻膜施加電壓的狀態下按壓電阻膜的話，被按壓的電阻膜會和與該側相對的電阻膜相接，由此檢測到與按壓的位置對應的電壓下降。由此，可檢測到操作位置。
[0004]靜電容量方式是這樣的方式:通過捕捉指尖等靜電導電性部位與導電膜之間的靜電容量變化，從而檢測指尖等的位置。通過在顯示畫面上配置透明導電部和非導電部，可以從手指靠近透明導電部時靜電容量的變化來檢測指尖的位置。另外，在靜電容量方式中，通過層疊不同配線形狀的透明導電膜，可以進行多點檢測，從而可實現更加直觀的操作。
[0005]在上述那樣的觸摸面板中，從設計上的要求等出發，要求使透明導電部和非導電部的形狀不顯眼的不可見措施。另外，還要求對觸摸面板的導電膜和配線的保護。這種情況下，要求諸如全光線透過率或霧度、透過色相b*之類的光學特性。
[0006]例如，在靜電容量式的觸摸面板中，提出了適用于可視性得以提高的觸摸面板的透明導電膜(參照專利文獻I)。
[0007]現有技術文獻
[0008]專利文獻
[0009]專利文獻1:國際公開第W02006/126604號
【發明內容】
[0010]發明要解決的問題
[0011]還沒有這樣的靜電容量方式的觸摸面板:其中，以不可見方式形成透明導電部和非導電部，并且具有保護透明導電膜的導電部、非導電部、以及配線部的雙面導電膜結構。
[0012]因此，為了解決上述問題，本發明的目的在于提供一種在適當地保護透明導電部、非導電部以及配線部的同時，光學特性優異的透明導電膜。
[0013]解決問題的手段
[0014]本發明所述的透明導電膜具有:透明基板；設置在透明基板的兩面上的光學調整層；設置在各個光學調整層上的透明導電層；與透明導電層連接的配線；以及設置在透明導電膜的至少一側的面上的、包覆透明導電層以及配線的保護層。保護層的厚度為I μπι以上50 μπι以下。由基板層、光學調整層、透明導電層和保護層構成第一多層結構，透過第一多層結構的光的透過色相b*為1.5以下。
[0015]另外，本發明所述的觸摸面板具有上述透明導電膜。
[0016]在本發明所述的透明導電膜的制造方法中，在透明基板的兩面上形成透明導電部和非導電部，并且形成與透明導電部連接的配線部，在透明導電膜的至少一側的面上形成包覆透明導電部的保護層。
[0017]發明效果
[0018]根據本發明的透明導電膜，通過在其至少一側的面上形成保護層，在用于觸摸面板中的時候，可以保護由劃傷引起的斷線等，并且還可以抑制透過色相b*地進行制備。因而，可以提供導電膜表面得到保護的靜電容量方式觸摸面板。
[0019]附圖簡要說明
[0020][圖1]圖1為示出實施方案I所述的透明導電膜的一個例子的截面示意圖。
[0021][圖2]圖2為示出實施方案I的變形例所述的透明導電膜的一個例子的截面示意圖。
[0022][圖3]圖3為實施方案I所述的透明導電膜的平面示意圖。
[0023][圖4]圖4為示出實施方案2所述的透明導電膜的一個例子的截面示意圖。
[0024][圖5]圖5為實施方案2所述的透明導電膜的平面示意圖。
【具體實施方式】
[0025]以下，對實施方案所述的透明導電膜進行說明。
[0026](實施方案I)
[0027]圖1為示出實施方案I所述的透明導電膜的一個例子的截面示意圖。
[0028]透明導電膜20具有:透明基板21 ;在透明基板21的兩面上各自設置的光學調整層22、23 ;在光學調整層22、23上各自設置的透明導電層8、9 ;與透明導電層8、9分別連接的配線10、11 ;以及在透明導電膜20的一側的面上設置的、包覆透明導電層8和配線10的保護層14。
[0029]在本實施方案中，透明基板21由基材1、以及在基材I的兩面上設置的硬涂層2、3構成。
[0030]基材I由具有可見光透過性的材料形成。例如，基材可以使用:⑴無機玻璃，(2)聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯等)、聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等)、聚酰胺(尼龍6、尼龍66等)、聚酰亞胺、聚芳酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜等透明樹脂。另外，基材I也可以是將上述例示的透明樹脂無拉伸/拉伸后的塑料膜。另外，基材I也可以是多種材料層疊而成的復合膜。
[0031]另外，基材I的厚度優選在10 μm以上200 μm以下左右的范圍內。但是，在本發明的透明導電膜20中，基材I的厚度并不限定在該范圍內。
[0032]另外，也可以對基材I的單面或兩面進行表面處理。通過進行表面處理，可以牢固地粘接在基材I的表面上層疊的層。對于表面處理，可以使用(例如)易粘接處理、等離子體處理、電暈處理、臭氧處理等方法。
[0033]硬涂層2、3設置在基材I的表面上，可以提高基材I的機械強度、耐磨性等。作為硬涂層2、3中所用材料，可使用具有可見光透過性的材料。例如，可將以下材料用作硬涂層
2、3的材料:(1)丙烯酸酯類、丙烯酰胺類、甲基丙烯酸酯類、甲基丙烯酰胺類等丙烯酸類樹月旨、(2)有機硅類樹脂、(3)熱固化型聚硅氧烷樹脂等透明樹脂。
[0034]作為硬涂層2、3的形成方法，可通過與硬涂層2、3的形成材料相對應的薄膜形成方法來進行。例如，硬涂層2、3可以這樣形成:將作為主成分的上述樹脂和吸收紫外線的材料溶解在溶劑中從而制備涂布液，用模頭涂布機、幕簾涂布機、輥涂機、逆向輥涂機、凹版涂布機、刮刀涂布機、棒涂機、旋涂機、微凹版涂布機等將該涂布液涂布至基材上，并通過紫外線照射等使涂膜固化。
[0035]另外，優選的是，硬涂層設置在基材I的兩面上。在這種情況下，通過調節內外兩側的硬涂層的膜厚，可以將透明導電膜20的內外兩側的應力盡量地調整為對稱。通過調整內外兩側的應力，可以抑制扭曲的發生等，并且可以將透明電極膜20良好地安裝到觸摸面板中。但是，也可以由僅在一面上設置硬涂層的基材I構成透明基板21，或者由不設置硬涂層的基材I來構成透明基板21。
[0036]另外，硬涂層2、3的厚度優選在I μπι以上ΙΟμπι以下左右的范圍內。但是，硬涂層2、3的厚度并不限于上述范圍。
[0037]透明導電層8、9可由具有可見光透過性、且具有導電性的材料形成。作為透明導電層8、9的材料，可以使用(例如)氧化銦錫(ITO:1ndium Tin Oxide)、氧化鋅、碳納米管、石墨烯、納米銀、導電性高分子樹脂(含有具有離子導電機制的季銨鹽類導電性單體、具有電子導電機制的導電性微粒、η共軛類導電性高分子等的樹脂)等。
[0038]另外，在將ITO用作透明導電層8、9的材料的情況下，透明導電層8、9的光學膜厚優選在30nm以上80nm以下的范圍內。在透明電極層8的光學膜厚小于30nm的情況下，膜薄，不能充分獲得導電性能。另外，在透明導電層8、9的光學膜厚大于SOnm的情況下，所得薄膜的透過率低，光學特性降低。但是，在本實施方案所述的透明導電膜20中，在將ITO的薄膜像后述那樣形成圖案從而形成透明導電層8、9的情況下，透明導電層8、9的光學膜厚不限于上述范圍。
[0039]在本實施方案中，透明導電層8、9在使用透明的導電性材料形成薄膜之后，通過將所形成的薄膜以特定形狀形成圖案而形成。通過形成圖案，在透明導電層8、9中形成透明導電部12和沒有導電性的非導電部13，其中該非導電部13設置在相鄰的透明導電部12之間。透明導電部12為形成圖案之后透明導電性材料殘存的部分，非導電部13