本發明涉及OGS觸摸屏領域，特別涉及了一種OGS觸摸屏的制造工藝。
背景技術：
通常的OGS電容觸摸屏的工藝過程：基片玻璃，印刷油墨，ITO透明導電膜，藍光工藝制圖形，鍍全層電極，黃光工藝制圖形，點脫，連接橋。工藝復雜，流程繁瑣，成本高。
技術實現要素：
本發明的目的是為了簡化工藝，降低成本，特提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝。
本發明提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過程包括：
把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出黑色低電阻導電膜，形成第一層導電膜；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出圖形，此圖形是已設計好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導電膜用涂層設備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是10um～15um；再把產品再次放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導電膜層；把制造好的黑色低電阻導電膜通過 黃光工藝制出第二層導電層和電極；通過上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來。
所述的黑色低電阻導電膜，膜層厚度150nm～250nm。
所述的第二層黑色低電阻導電膜層，膜層厚度150nm～250nm。
在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導電的黑色薄膜，用藍光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。
本發明的優點：
本發明所述的OGS觸摸屏的制造工藝，采用對基片玻璃鍍導電黑化層，黃光工藝制電極及圖形，涂透明絕緣硬化層，鍍導電黑化層，黃光工藝制電極及圖形，工藝流程簡單，節省人力，降低成本，使用效果好。
具體實施方式
實施例1
本實施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過程包括：
把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出黑色低電阻導電膜，形成第一層導電膜；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出圖形，此圖形是已設計好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導電膜用涂層設備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透 明絕緣層的厚度是10um；再把產品再次放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導電膜層；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出第二層導電層和電極；通過上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來。
所述的黑色低電阻導電膜，膜層厚度150nm。
所述的第二層黑色低電阻導電膜層，膜層厚度150nm。
在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導電的黑色薄膜，用藍光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。
實施例2
本實施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過程包括：
把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出黑色低電阻導電膜，形成第一層導電膜；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出圖形，此圖形是已設計好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導電膜用涂層設備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是12um；再把產品再次放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導電膜層；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出第二層導電層和電極；通過上述步驟制造出OGS觸摸屏，其 中電極和圖形一次性制造出來。
所述的黑色低電阻導電膜，膜層厚度200nm。
所述的第二層黑色低電阻導電膜層，膜層厚度200nm。
在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導電的黑色薄膜，用藍光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。
實施例3
本實施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過程包括：
把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出黑色低電阻導電膜，形成第一層導電膜；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出圖形，此圖形是已設計好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導電膜用涂層設備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是15um；再把產品再次放入真空設備中，當真空度到達8*10-4pa時，充入Ar氣至3*10-1pa時，啟動濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導電膜層；把制造好的黑色低電阻導電膜通過黃光工藝制出第二層導電層和電極；通過上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來。
所述的黑色低電阻導電膜，膜層厚度250nm。
所述的第二層黑色低電阻導電膜層，膜層厚度250nm。
在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導電的黑色薄膜，用藍光 工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。