一種磁性微位移平臺式平面反射鏡激光干涉儀的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種精密測試技術及儀器領域，特別涉及一種磁性微位移平臺式平面反射鏡激光干涉儀。
【背景技術】
[0002]激光器的出現，使古老的干涉技術得到迅速發展，激光具有亮度高、方向性好、單色性及相干性好等特點，激光干涉測量技術已經比較成熟。激光干涉測量系統應用非常廣泛:精密長度、角度的測量如線紋尺、光柵、量塊、精密絲杠的檢測；精密儀器中的定位檢測系統如精密機械的控制、校正；大規模集成電路專用設備和檢測儀器中的定位檢測系統；微小尺寸的測量等。目前，在大多數激光干涉測長系統中，都采用了邁克爾遜干涉儀或類似的光路結構，比如，目前常用的單頻激光干涉儀。
[0003]單頻激光干涉儀是從激光器發出的光束，經擴束準直后由分光鏡分為兩路，并分別從固定反射鏡和可動反射鏡反射回來會合在分光鏡上而產生干涉條紋。當可動反射鏡移動時，干涉條紋的光強變化由接收器中的光電轉換元件和電子線路等轉換為電脈沖信號，經整形、放大后輸入可逆計數器計算出總脈沖數N，再由電子計算機按計算式Y = NX λ/2，式中λ為激光波長，算出可動反射鏡的位移量Y。
[0004]在實際使用中，本申請的發明人發現，上述的測量結構和測量方法依然存在著不足:
[0005]目前的單頻激光干涉儀還存在受環境影響嚴重的問題，激光干涉儀可動反光鏡移動時，干涉條紋的光強變化由接收器中的光電轉換元件和電子線路等轉換為電脈沖信號，當為最強相長干涉時，信號超過計數器的觸發電平被記錄下來，如果環境發生變化，比如空氣湍流，空氣中雜質增多，機床油霧，加工時的切削肩對激光束的影響，使得激光束的強度降低，此時，即使是出現最強相長干涉，也有可能強度低于計數器的觸發電平而不被計數，如此，使得最后得到的測量數據并不準確。
[0006]所以，基于上述不足，目前亟需一種即能夠抗環境干擾，又能夠提高測量精度的激光干涉儀。
【發明內容】
[0007]本發明的目的在于針對目前激光干涉儀抗環境干擾能力差的不足，提供一種能夠抗環境干擾的激光干涉儀。
[0008]為了實現上述發明目的，本發明提供了以下技術方案:
[0009]一種磁性微位移平臺式平面反射鏡激光干涉儀，包括有激光源、微動平面反射鏡、干涉測量光電探測器、移動平面反射鏡、分光鏡組和磁性微位移平臺，所述微動平面反射鏡設置在所述磁性微位移平臺上，所述激光源射出的激光束經所述分光鏡組后分為第一激光束和第二激光束，第一激光束射向所述微動平面反射鏡，經所述微動平面反射鏡反射后再次射向所述分光鏡組，再經分光鏡組后射向所述干涉測量光電探測器，第二激光束射向所述移動平面反射鏡，經所述移動平面反射鏡反射后再次射向所述分光鏡組，經分光鏡組后射向所述干涉測量光電探測器，第一激光束與第二激光束在射向所述干涉測量光電探測器時發生干涉，所述磁性微位移平臺式平面反射鏡激光干涉儀還包括有反射測量光電探測器，所述第二激光束在由所述移動平面反射鏡射向所述分光鏡組后還形成有反射激光束，所述反射激光束射向所述反射測量光電探測器；
[0010]所述磁性微位移平臺，包括有支撐平臺和設置在所述支撐平臺上的位移裝置，所述支撐平臺上設置有第一位移件，所述第一位移件與所述位移裝置連接，所述位移裝置帶動所述第一位移件沿所述支撐平臺運動，所述第一位移件具有一相對于其位移方向傾斜的斜面，所述第一位移件的斜面上滑動設置有第二位移件，所述第一位移件與第二位移件之間貼緊配合，所述支撐平臺上還設置有約束裝置，所述約束裝置限制所述第二位移件沿所述第一位移件位移方向上的運動，使得當第一位移件被所述位移裝置帶動而產生位移時，所述第二位移件被所述第一位移件帶動而產生位移，所述第二位移件的位移方向與所述第一位移件的位移方向相垂直，所述第一位移件的斜面與其位移方向的夾角為A度，O < A< 45，所述第一位移件與所述支撐平臺之間還設置有具有磁性的磁性件，所述第二位移件具有磁性，所述第二位移件與所述磁性件為異性相吸狀態，所述微動平面反射鏡設置在所述第二位移件上，隨第二位移件運動。
[0011]作為進一步的優選方案，所述分光鏡組包括有第一分光鏡和第二分光鏡，所述激光源射出的激光束先射到第一分光鏡，經第一分光鏡反射形成第一激光束，經第一分光鏡透射形成第二激光束，第一激光束射向所述微動平面反射鏡，經反射后再次射向所述第一分光鏡，然后再透射過所述第一分光鏡，所述第二激光束射向所述第二分光鏡，經所述第二分光鏡透射后射向所述移動平面反射鏡，經所述移動平面反射鏡反射后再射向所述第二分光鏡，經所述第二分光鏡透射后射向所述第一分光鏡，并且與從所述第一分光鏡透射出的第一激光束發生干涉，形成干涉光束后射向所述干涉測量光電探測器，由所述移動平面反射鏡射向所述第二分光鏡的所述第二激光束還被所述第二分光鏡反射形成所述反射激光束。
[0012]本申請的激光干涉儀，由于反射測量光電探測器可以測量移動平面反射鏡反射激光束的強度，根據反射激光束的強度確定激光干涉光束的干涉狀態，如此實現抗環境干擾的目的；
[0013]并且，在本申請中，微動平面反射鏡設置在磁性微位移平臺上，支撐平臺上設置位移裝置和第一位移件，位移裝置帶動第一位移件運動，第一位移件具有一相對于其位移方向傾斜的斜面，當位移裝置提供一定的位移值帶動第一位移件時，由于約束裝置的存在，此時，第二位移件在垂直于第一位移件位移方向上將產生一定的位移值，第二位移件的位移值與位移裝置提供的位移值相關，還與第一位移件斜面的傾斜程度相關，即，設第一位移件的斜面與其位移方向的夾角為A度，當位移裝置提供的位移值為X時，第二位移件產生的位移值即為Y = Xtan (A)，第二位移件的位移方向與第一位移件的位移方向相垂直，如此，當夾角A小于45度時，將得到一個小于X值的位移值，當進一步的減小夾角A時，位移值Y也隨之減小，如此，使得在本申請的方案中，通過以行程換精度的方式，最終得到一個小于位移裝置輸出位移值的第二位移件的位移值，直接提高了本申請磁性微位移平臺的精度，也就直接提高了微動平面反射鏡的移動精度，直接提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0014]作為進一步的優選方案，所述位移裝置為壓電陶瓷型位移裝置。壓電陶瓷能夠將機械能和電能互相轉換的功能陶瓷材料，其在電場作用下產生的形變量很小，最多不超過本身尺寸的千萬分之一的微位移，具有良好的往復形變恢復能力，穩定性好、精度高，如此使得本申請的位移裝置能夠提供足夠小的位移值，進一步提高了本申請磁性微位移平臺的精度，提高本申請激光干涉儀的測量精度。作為進一步的優選方案，所述激光干涉儀還包括有處理系統，所述處理系統與所述干涉測量光電探測器和反射測量光電探測器電連接，通過所述處理系統控制所述干涉測量光電探測器和反射測量光電探測器的啟動和停止，并且使所述干涉測量光電探測器數據和反射測量光電探測器數據存儲在所述處理系統內，所述處理系統還與所述磁性微位移平臺的位移裝置電連接，通過所述處理系統控制所述位移裝置的啟動和停止，所述處理系統還與所述激光源電連接，通過所述處理系統控制所述激光源的啟動和停止。在本申請中，通過設置處理系統，對干涉測量光電探測器的數據和反射測量光電探測器的數據進行儲存，生成標定數據庫，在實際測量過程中通過實時的數據與標定數據庫的數據進行比對，進而判斷出當前光路的干涉情況；處理系統還與磁性微位移平臺的位移裝置電連接，根據實時的測量結果控制位移裝置的輸出位移，進而實現對微動平面反射鏡位置的協調控制，提高本申請的激光干涉儀的適應性。
[0015]作為進一步的優選方案，在所述激光源、微動平面反射鏡、干涉測量光電探測器、分光鏡組、反射測量光電探測器中任意兩個之間的激光束設置在封閉空間內而不與外部環境空間接觸。在本申請中，激光源、微動平面反射鏡、干涉測量光電探測器、分光鏡組和反射測量光電探測器這些部件任意兩個之間的激光束設置在封閉空間內，使得在進行測量的過程中，上述這些部件之間的激光束并不會受到環境因素的影響，進而保證了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0016]作為進一步的優選方案，所述分光鏡組與所述移動平面反射鏡之間的激光束暴露在環境空氣之中。在實際使用時，移動平面反射鏡設置在被測物體上，隨被測物體運動，所以在本申請中，將分光鏡組與移動平面反射鏡之間的激光束暴露在環境空氣之中，首先是使得本申請激光干涉儀結構簡單，同時還方便本申請激光干涉儀的布置。
[0017]作為進一步的優選方案，所述第二位移件與所述微動平面反射鏡為一體式結構。在本申請中，將第二位移件和微動平面反射鏡設置為一體式結構，也就是說在本申請的方案中，將第二位移件的一面拋光或鍍膜，使該面形成反射面參與到激光干涉儀的光路反射中，如此，直接省略了傳統意義上的微動平面反射鏡