z方向)的厚度與壁部125大致相同，但是高度方向(y方向)的厚度厚于壁部125。S卩、氣室12不是長方體，而是在與主室121相當的長方體(立方體)上具有形成有與副室122相當的較長的突起部的形狀(即、在腔室主體上形成有突起部的形狀)。此外，在該圖中，也夸張地將突起部(規定副室122的壁部126)描繪得較大。另外，在該例中，突起部(壁部126)不是形成于腔室主體的上表面的中心，而是形成于偏離中心的位置。
[0072]1-4-2.構造例 2
[0073]圖6是表示氣室12的構造例2的構造的示意圖。相對于在圖5的例子中與副室122相當的突起部在高度方向筆直地延伸，在該例子中，突起部在途中沿著寬度方向(z方向)彎曲。根據該例，與圖5的結構相比，能夠縮小縱向尺寸。
[0074]1-4-3.構造例 3
[0075]圖7是表示氣室12的構造例3的構造的示意圖。在該例子中，壁部126具有突起部1261與散熱部1262。突起部1261由與壁部125相同的材料(例如玻璃)形成。散熱部1262由導熱率高于突起部1261的材料(例如鋁、金、銀或銅等金屬)形成。即便突起部1261本身由與壁部125相同厚度的材料形成，作為壁部126整體來看，通過散熱部1262，散熱效率也得以提高。此外，從提高散熱性的觀點來看，優選散熱部1262具有表面積較大的形狀。例如，優選在散熱部1262的表面設置有凹凸或設置有孔。另外，優選作為壁部126整體的表面積S2的相對于副室122的體積V2的比率大于壁部125的表面積的相對于主室121 的體積 VI 的比率。SP、優選(S2/V2) > (S1/V1)。
[0076]1-4-4.構造例 4
[0077]圖8是表示氣室12的構造例4的構造的示意圖。在該例子中，壁部126具有內壁部1263以及外壁部1264。內壁部1263由與壁部125相同的材料(例如玻璃)形成。外壁部1264由導熱率高于內壁部1263的材料(例如金屬)形成。外壁部1264形成于內壁部1263的外周。S卩、該例在圖3的構造中具有在副室122的壁部卷繞有金屬箔的構造。金屬箔例如使用硅樹脂粘接劑被粘接于內壁部的外周面。此外，在該例子中，腔室主體的形狀不是長方體而是圓柱。另外，外壁部1264僅形成于內壁部1263的寬度方向的外周。S卩、僅在副室122的側面卷繞有金屬箔，在上表面未粘接有金屬箔。但是，也可以在內壁部1263中的相當于副室122的上表面的部分粘接金屬箔。
[0078]2.變形例
[0079]本發明并不限定于上述實施方式，能夠實施各種變形。以下說明幾個變形例。也可以將以下變形例中的兩個以上組合使用。
[0080]圖9是表示氣室陣列的構造例的圖。雖然在上述實施方式中說明了單體氣室12的構造，但是也可以將多個氣室12—維或二維地配置從而作為氣室陣列來使用。在該情況下，在構成氣室陣列的全部氣室12中，若將副室122的方向統一為相同方向，則只要冷卻氣室陣列的特定一面即可，因此能夠有效地加熱、冷卻各氣室12。
[0081]氣室12的形狀或主室121的形狀并不限定于長方體。氣室12或主室121例如也可以具有圓柱形、棱柱(三棱柱、四棱柱、六棱柱等)形或球形。
[0082]涂敷層1211也可以省略。S卩、主室121的內壁面也可以是玻璃。
[0083]氣室12的用途并不限定于磁測定裝置。也可以將氣室12用于原子振蕩器等除磁測定裝置以外的裝置。
[0084]附圖標記說明
[0085]1…磁場測定裝置；11…光照射部；12...氣室；13…偏振光分離器；14...受光部；15…信號處理部；16...顯不部；17...加熱器；18...控制部；111...光源；112...變換部；141...受光元件；142…受光元件；121…主室；122…副室；123…通氣孔；125…壁部；126…壁部；127…壁部；171…開口部；172…開口部；92…氣室；921…主室(第一室);922…副室(第二室)；923…通氣孔；925…壁部；926…壁部；927…壁部。
【主權項】
1.一種氣室，其特征在于，具備: 第一室，其由第一壁部的第一面規定出內部空間； 第二室，其由第二壁部的第一面規定出并與所述第一室相連；以及 加熱器，其沿不同于所述第一壁部的所述第一面的第二面被設置， 所述第二壁部的所述第一面與不同于所述第一面的第二面之間的距離大于所述第一壁部的所述第一面與所述第二面之間的距離。2.根據權利要求1所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部的熱容量大于所述第一壁部的熱容量。3.根據權利要求1或2所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部具有: 第一部分，其由與所述第一壁部相同的構成材料形成；以及 第二部分，其被設置于所述第一部分的外表面的至少一部分，并由金屬形成。4.根據權利要求1?3中任一項所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部的所述第一面的表面積的相對于所述第二室的體積的比率大于所述第一壁部的所述第一面的表面積的相對于所述第一室的體積的比率。5.一種氣室，其特征在于，具有: 腔室主體； 第一壁部，其規定出所述腔室主體中的成為主室的內部空間； 副室，其存積堿金屬； 第二壁部，其規定出所述腔室主體中的與所述主室相連的所述副室；以及 加熱器，其覆蓋所述第一壁部，用于使所述堿金屬氣化， 所述第二壁部比所述第一壁部厚。6.根據權利要求5所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部的熱容量高于所述第一壁部的熱容量。7.根據權利要求5或6所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部具有: 第一部分，其由與所述第一壁部相同的構成材料形成；以及 第二部分，其被設置于所述第一部分的外表面的至少一部分，并由金屬形成。8.根據權利要求5?7中任一項所述的氣室，其特征在于， 所述第二壁部的表面積的相對于所述副室的體積的比率大于所述第一壁部的表面積的相對于所述主室的體積的比率。9.一種磁測定裝置，其特征在于，具有: 權利要求1?8中任一項所述的氣室； 光源，其向所述氣室射出光；以及 檢測器，其對通過所述氣室的光進行檢測， 所述氣化的堿金屬與磁場強度對應地使光的偏振面方位發生變化。
【專利摘要】本發明提供氣室以及磁測定裝置。抑制液體或固體的堿金屬附著于主室的壁面。氣室(12)具有：腔室主體(125、127)；第一壁部(125)，其規定出腔室主體的成為主室(121)的內部空間；副室，其存積堿金屬；第二壁部(126)，其規定出腔室主體的與主室(121)相連的副室(122)；加熱器(17)，其覆蓋第一壁部(125)，用于使堿金屬氣化；以及加熱器(17)，其覆蓋第一壁部(125)。此處，第二壁部(126)比第一壁部(125)厚。
【IPC分類】G01R33/032, A61B5/00
【公開號】CN105301527
【申請號】CN201510434566
【發明人】高橋智
【申請人】精工愛普生株式會社
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年7月22日
【公告號】US20160025822