X射線分析裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及能夠進行有害物質的檢測等且在制品的篩選等或電鍍的膜厚測定等中使用的熒光X射線分析裝置等X射線分析裝置。
【背景技術】
[0002]熒光X射線分析是，對樣品照射從X射線源射出的X射線，用X射線檢測器對作為從樣品放出的特性X射線的熒光X射線進行檢測，由此，根據其能量取得頻譜來進行樣品的定性分析、定量分析或膜厚測定。該熒光X射線分析由于能夠非破壞且迅速地分析樣品，所以，在工序、品質管理等中被廣泛使用。近年來，作為謀求高精度化、高靈敏度化并能夠實現微量測定的特別是進行材料、復合電子部件等所包括的有害物質的檢測的分析手法而被期待普及。
[0003]在進行這樣的熒光X射線分析的裝置中，需要將測定對象物的樣品與照射到樣品的初級X射線的照射位置(水平方向的位置)和焦點位置(高度方向的位置)進行位置對準。歷來，作為水平方向的位置調整，例如，在專利文獻I中記載有以初級X射線的照射位置與樣品觀察位置(例如，由CCD攝像機得到的樣品觀察像的中心)一致的方式預先設定的方法。此外，在專利文獻2中記載有通過對初級X射線的照射位置照射激光而利用直接觀察或樣品觀察像來確認測定位置的方法。
[0004]進而，在引用文獻3中記載有以下方法:在預先存儲或測量初級X射線的照射位置與樣品觀察位置(例如，樣品觀察像的中心)之間的距離并將樣品配置在觀察像的測定位置之后，通過使樣品挪動預先存儲或測量的距離來使樣品移動到初級X射線的照射位置。
[0005]另一方面，作為高度方向的位置調整，例如，在專利文獻2中記載有以使初級X射線的焦點位置(高度位置)與樣品觀察像的焦點一致的高度預先一致的方式設定的方法。此夕卜，記載有從樣品的斜上照射激光并且以使在樣品觀察像的中心或指定的位置激光被照射的高度位置與初級X射線的焦點位置一致的方式預先設定的方法、即通過以使激光來到樣品觀察像的中心或預先指定的位置的方式調整樣品的高度來將樣品調整到X射線的焦點位置的方法。
[0006]此外，在專利文獻4中記載有以下方法:在預先存儲或測量初級X射線的焦點位置與在上述方法中在樣品觀察像中指定的高度位置(從斜側照射的激光來到樣品觀察像的中心的位置、樣品觀察像的焦點位置)之間的距離并且將樣品設定為在樣品觀察像中指定的高度位置之后，通過使樣品挪動預先測量的距離來使樣品移動到初級X射線的焦點位置。
[0007]進而，在專利文獻5中記載有通過激光位移計等測定初級X射線的照射點的高度的方法。
[0008]現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第4650330號公報；
專利文獻2:日本特開2006 - 329944號公報； 專利文獻3:日本特開平5 - 118999號公報；
專利文獻4:日本專利第5269521號公報；
專利文獻5:日本特開2011 - 47898號公報。
[0009]發明要解決的課題
在上述現有技術中，殘留以下的課題。
[0010]S卩，在上述現有技術中，存在如下不妥:在將樣品設置在樣品臺時難以通過直接觀察來判別樣品的高度位置與初級X射線的焦點位置相比是遠還是近。因此，為了進行上述判別而需要觀察由CCD攝像機等得到的樣品觀察像，而操作性差。進而，在使用激光的情況下，在高度偏離到激光不進入到樣品觀察像的程度的情況或焦點很大地偏離等情況下需要進行高度的粗調整，但是，在該粗調整時也難以進行樣品的高度位置是遠還是近的判斷。
【發明內容】
[0011]本發明是鑒于前述的課題而完成的，其目的在于提供一種能夠通過直接觀察來容易地判別樣品的高度位置相對于初級X射線的焦點位置是遠還是近的判別而容易進行位置調整的X射線分析裝置。
[0012]用于解決課題的方案
本發明為了解決上述課題而采用了以下的結構。即，第一發明的X射線分析裝置的特征在于，具備:樣品臺，能設置樣品；χ射線源，對所述樣品照射初級X射線；檢測器，檢測從被照射所述初級X射線的所述樣品產生的次級X射線；位置調整機構，對所述樣品臺與所述初級X射線的相對位置進行調整；第一光源，朝向所述初級X射線的焦點位置或者在水平方向上離所述焦點位置規定距離的規定位置照射第一光線；以及第二光源，朝向所述焦點位置或者所述規定位置從與所述第一光線和所述初級X射線不同的角度照射第二光線，所述第一光線和所述第二光線具有在被照射到所述樣品臺或設置在所述樣品臺之上的所述樣品時在所述樣品臺上或設置在所述樣品臺之上的所述樣品上能彼此通過目視進行辨別的視覺辨認性。
[0013]在該X射線分析裝置中，以彼此不同的角度照射的第一光線和第二光線具有在被照射到樣品臺或設置在樣品臺之上的樣品時在樣品臺上或設置在樣品臺之上的樣品上能彼此通過目視進行辨別的視覺辨認性，因此，能夠通過直接觀察來確認第一光線和第二光線的照射位置，從而能夠根據這些光線的照射位置的相對關系通過直接觀察來判別樣品臺的樣品的高度是遠還是近。此外，將第一光線的照射位置與第二光線的照射位置重疊的位置設定為焦點位置或在水平方向上離焦點位置規定距離的規定位置，由此，只要使這些光線的照射位置一致或以成為規定的配置的方式調整位置，就能夠使樣品臺的樣品與初級X射線的焦點位置或離該焦點位置規定距離的規定位置一致。
[0014]第二發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一發明中，所述第一光線和所述第二光線的顏色彼此不同。
[0015]即，在該X射線分析裝置中，由于第一光線和第二光線的顏色彼此不同，所以，能夠根據被照射的光線的顏色通過直接觀察來進行第一光線和第二光線的判別。
[0016]第三發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一或第二發明中，所述第一光線和所述第二光線的所述樣品臺上的照射直徑彼此不同。
[0017]S卩，在該X射線分析裝置中，由于第一光線和第二光線的樣品臺上的照射直徑彼此不同，所以，能夠根據被照射的光線的照射直徑的大小通過直接觀察來進行第一光線和第二光線的判別。
[0018]第四發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一至第三發明的任一個中，所述第一光線和所述第二光線的所述樣品臺上的照射形狀彼此不同。
[0019]S卩，在該X射線分析裝置中，由于第一光線和第二光線的樣品臺上的照射形狀彼此不同，所以，能夠根據被照射的光線的照射形狀的不同通過直接觀察來進行第一光線和第二光線的判別。
[0020]第五發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一至第四發明的任一個中，所述第一光線和所述第二光線中的任一方忽亮忽滅。
[0021]S卩，在該X射線分析裝置中，由于第一光線和第二光線中的任一方忽亮忽滅，所以，能夠根據忽亮忽滅的有無通過直接觀察來容易地判別第一光線和第二光線。
[0022]第五發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一至第四發明的任一個中，所述第一光線的照射方向與所述初級X射線的光軸一致。
[0023]即，在該X射線分析裝置中，由于第一光線的照射方向與初級X射線的光軸一致，所以，只要將樣品的位置與第一光線的照射位置對準，就能夠使樣品與水平方向上的初級射線的照射位置一致。
[0024]第六發明的X射線分析裝置的特征在于，在第一至第五發明的任一個中，具備:觀察機構，所述觀察機構具有能觀察所述樣品臺的光學系統，所述第一光