確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法與流程

本發明涉及一種薄膜膜層分析方法，特別是涉及一種確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法。
背景技術：
：為使鍍膜產品滿足使用要求，需要鍍制多層薄膜，通過各膜層的匹配、互補以達到光學、力學、耐環境等綜合性能指標。如建筑節能低輻射(low-e)鍍膜玻璃鍍制的膜系包括低輻射功能層ag薄膜、保護ag膜層的nicr薄膜、改善ag膜層性能的zno薄膜、進行光學匹配的snznox、tiox、sinx薄膜、增強機械性能的sinx薄膜，根據不同性能要求產品膜系中膜層數量一般有5-10層。在膜系生產過程中，每層薄膜都有獨立的工藝條件，在連續生產時原材料成分、工藝氣氛、溫度等隨時間的累積變化，會使各膜層產生工藝漂移，主要表現為膜層的沉積速率隨時間改變，導致膜層厚度變化。此外，在以玻璃、鋁板等材料的大面積鍍膜中，由于工藝設備的局限性各膜層在不同位置處沉積速率不同，導致膜層厚度在大面積內存在不均勻性，表現為產品性能的不均勻，如建筑節能低輻射(low-e)鍍膜玻璃顏色會隨位置變化，其中顏色均勻性以cielab均勻空間的色差△e來表示(單位：cielab)，在《gb/t18915.2低輻射鍍膜玻璃》國家標準中要求低輻射鍍膜玻璃的朝向室外的表面的反射色差△e不應大于2.5cielab色差單位。由于膜系中各膜層對性能的影響各不相同，當在產品檢測中發現產品性能變化超出合理范圍后，很難直觀判斷導致性能變化的主要原因及膜層。技術實現要素：本發明的主要目的在于，提供一種新型確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，所要解決的技術問題是快速確定影響產品工藝波動及均勻性的主要膜層，制定工藝調整制度從而更加適于實用。本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本發明提出的一種確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其包括以下步驟:(1)在明確膜層順序、膜層光學常數的條件下，利用導納矩陣法建立膜系光學模型；(2)根據所述光學模型計算各膜層厚度預設范圍內光譜數據，根據所述光譜數據確定各膜層厚度預設范圍內的顏色數據l*、a*、b*；(3)對于包含m層薄膜，建立各膜層顏色數據趨勢矩陣，如下所示：每一層膜層形成該矩陣的行向量，每個行向量的元素分別對應于l*、a*、b*數值隨膜層厚度的單調變化趨勢；(4)建立工藝漂移趨勢矩陣，如下所示：該矩陣三行的元素分別對應于膜層玻面反射顏色l*、a*、b*數值相對與生產目標的玻面反射顏色l*、a*、b*數值的變化趨勢；(5)將膜層顏色數據l*、a*、b*分別在趨勢變化拐點位置劃分為n個不同的區域，建立顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣，如下所示：該矩陣中每個區域形成三行一列的向量，三行的元素分別對應膜層顏色l*、a*、b*數值隨測量點的變化趨勢；(6)工藝漂移分析：將所述各膜層顏色數據趨勢矩陣與所述工藝漂移趨勢矩陣相乘，得到工藝漂移結果矩陣；所述工藝漂移結果矩陣的行與膜層相對應，該結果矩陣中，與元素的絕對值最大的行對應的膜層為影響工藝漂移的主要膜層；(7)膜系均勻性分析：將所述各膜層顏色數據趨勢矩陣與所述顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣相乘，得到膜系均勻性顏色數據結果矩陣，所述膜系均勻性結果矩陣的行與膜層相對應，列與位置區域相對應，該結果矩陣的每列中，與元素的絕對值最大的行對應的膜層為該區域內影響膜系均勻性變化的主要膜層。本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中所述的顏色數據按照國際標準照明組織(cie)規定的l*、a*、b*顏色空間表示。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中所述的各膜層厚度預設范圍為各膜層厚度±2％范圍。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中所述的光譜數據包括透射光譜數據、膜面反射光譜數據和玻面反射光譜數據；所述顏色數據包括透射顏色數據、膜面反射顏色數據和玻面反射顏色數據。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中，在所述各膜層顏色數據趨勢矩陣中，規定顏色數值隨膜層厚度增加而單調遞增的趨勢為1，單調遞減的趨勢為-1，不單調為0；在所述工藝漂移趨勢矩陣中，規定實測玻面反射顏色數值相對于生產目標的玻面反射顏色數值增加的趨勢為1，遞減的趨勢為-1，相同或相似為0；在位置區域均勻性趨勢矩陣中，規定在各區域內顏色數據l*、a*、b*隨測量點單調遞增的趨勢為1、單調遞減的趨勢為-1。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中，在所述工藝漂移結果矩陣中，元素的值為正數表示是由于膜層厚度增加導致工藝漂移，元素的值為負數表示由于膜層厚度減小導致工藝漂移。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中，在所述膜系均勻性結果矩陣中，元素的值為正數表示是由于膜層厚度增加導致膜系均勻性變化，元素的值為負數表示由于膜層厚度減小導致膜系均勻性變化。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中，在分析工藝漂移時，各膜層顏色數據趨勢矩陣采用玻面反射顏色數據分析。優選的，前述的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，其中，在所述膜系均勻性分析中，所述影響膜系均勻性變化的主要膜層為根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣分析得到的主要膜層，根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣和膜系均勻性透射顏色數據結果矩陣分析取交集得到主要膜層或根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣、膜系均勻性透射顏色數據結果矩陣和膜系均勻性膜面反射顏色數據結果矩陣分析取交集得到主要膜層。借由上述技術方案，本發明確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法至少具有下列優點：本發明根據實際生產的膜系結構建立光學模型，得到每層薄膜厚度變化對產品性能的影響，形成對應于各膜層并體現產品性能變化趨勢的矩陣；同時將產品性能的實際檢測結果的變化狀態用矩陣表示，并將兩矩陣相乘，由計算結果確定影響產品工藝波動及均勻性的主要影響膜層，本發明采用矩陣方式分析各膜層對產品性能的影響，計算方法清晰簡單便于識別，可以使分析過程計算程序化、達到自動監控分析。利用本發明可以快速確定影響產品工藝波動(工藝漂移)及均勻性的主要膜層，便于制定工藝調整制度，有利于連續生產中對工藝進行修正，保障生產的穩定、連續性。上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本發明的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。附圖說明圖1是本發明的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法的流程圖。圖2是實施例各膜層玻面反射(rg)顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢圖。圖3是實施例各膜層透射(t)顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢圖。圖4是實施例大面積鍍膜產品玻面反射(rg)顏色均勻性測量結果圖。圖5是實施例大面積鍍膜產品透射(t)顏色均勻性測量結果圖。具體實施方式為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所采取的技術手段及功效,以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出的確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法其具體實施方式、特征及其功效，詳細說明如后。在下述說明中，不同的“一實施例”或“實施例”指的不一定是同一實施例。此外，一或多個實施例中的特定特征或特點可由任何合適形式組合。本發明的一個實施例提出的一種確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，流程圖如圖1所示，其包括以下步驟:(1)在明確膜層順序、膜層光學常數的條件下，利用導納矩陣法建立膜系光學模型；(2)根據所述光學模型計算各膜層厚度預設范圍內光譜數據，根據所述光譜數據確定各膜層厚度預設范圍內的顏色數據l*、a*、b*；所述顏色數據按照國際標準照明組織(cie)規定的l*、a*、b*顏色空間表示；所述光譜數據包括透射(t)光譜數據、膜面反射(rf)光譜數據和玻面反射(rg)光譜數據；所述顏色數據包括透射(t)顏色數據、膜面反射(rf)顏色數據和玻面反射(rg)顏色數據；較佳的，本發明的實施例所述的各膜層厚度預設范圍為各膜層厚度±2％范圍；(3)對于包含m層薄膜，建立各膜層顏色數據趨勢矩陣，如下所示：對膜系膜層數量為m層，將形成m×3的矩陣，每層膜層及順序與矩陣的行相對應，該矩陣每一層膜層形成矩陣的行向量，每個行向量的元素分別對應于l*、a*、b*數值隨膜層厚度的變化趨勢；其中，規定顏色數值隨膜層厚度增加而單調遞增的趨勢為1，單調遞減的趨勢為-1，不單調為0；本發明根據實際縮小分析各膜層厚度預設范圍使在重點分析的區間內變化趨勢是單調的；(4)建立工藝漂移趨勢矩陣，如下所示：該矩陣三行的元素分別對應于膜層玻面反射顏色l*、a*、b*數值相對于生產目標的玻面反射顏色l*、a*、b*數值的變化趨勢；其中，規定玻面反射顏色數值相對于生產目標的玻面反射顏色數值增加的趨勢為1，遞減的趨勢為-1，與目標相同或近似相同為0，此變化趨勢形成3×1矩陣，即三行一列的向量；(5)將膜層顏色數據l*、a*、b*分別在趨勢變化拐點位置劃分為n個不同的區域，建立顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣，如下所示：該矩陣中每個區域形成三行一列的向量，三行的元素分別對應膜層顏色l*、a*、b*數值隨測量點的變化趨勢；在位置區域均勻性趨勢矩陣中，規定在各區域內顏色數據l*、a*、b*隨測量點遞增的趨勢為1、遞減的趨勢為-1；所有區域的向量組成3×n的矩陣，n為區域的個數；(6)工藝漂移分析：將所述各膜層顏色數據趨勢矩陣與所述工藝漂移趨勢矩陣相乘，對于膜系膜層數量為m層，得到m×1工藝漂移結果矩陣；所述工藝漂移結果矩陣的行與膜層相對應，m對應膜層數，矩陣的元素值可能為3、2、1、0、-1，-2或-3，該結果矩陣中，與元素的絕對值最大的行對應的膜層為影響工藝漂移的主要膜層，具體的為：元素絕對值越大相應膜層影響越大，正數表示是由于厚度增加導致工藝漂移，負數表示由于厚度減小導致工藝漂移；如當元素值為3或-3時，與該元素行對應的膜層即為影響工藝漂移的主要膜層，元素值為3時是由于該膜層沉積速率增加即厚度增加導致工藝漂移，當元素值為-3時是由于該膜層沉積速率減小即厚度減少導致工藝漂移；當工藝漂移復雜、受多層薄膜影響時，需要本發明提出的方法多次分析主要影響膜層，并開展工藝調整，使最終工藝狀態分析恢復目標狀態；在分析工藝漂移時，各膜層顏色數據趨勢矩陣首先根據玻面反射顏色數據分析，不能全面的分析出工藝漂移時，接著采用透射顏色數據分析；(7)膜系均勻性分析：將所述各膜層顏色數據趨勢矩陣與顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣相乘，對于膜系膜層數量為m層，得到m×n的膜系均勻性顏色數據結果矩陣，所述膜系均勻性結果矩陣的行與膜層相對應，m對應膜層數，列與位置區域相對應，n為位置區域數；該結果矩陣的每列中，矩陣的元素值可能為3、2、1、0、-1，-2或-3，元素所在的列為被分析的位置區域，元素絕對值越大相應膜層影響越大，正數表示是由于厚度增加導致該區域均勻性變化，負數表示由于厚度減小導致該區域均勻性變化，與元素的絕對值最大的行對應的膜層為該區域內影響膜系均勻性變化的主要膜層，如當元素值為3或-3時，該元素所在的行對應的膜層即為影響均勻性的主要膜層，元素值為3時是由于該區域膜層厚度增加導致該區域均勻性變化，當元素值為-3時是由于該區域膜層厚度減小導致該區域均勻性變化。較佳的，本實施例確定影響膜系工藝漂移及均勻性的主要膜層的分析方法，在所述膜系均勻性分析中，所述影響膜系均勻性變化的主要膜層為根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣分析得到的主要膜層，對根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣和膜系均勻性透射顏色數據結果矩陣分析取交集得到主要膜層或對根據膜系均勻性玻面反射顏色數據結果矩陣、膜系均勻性透射顏色數據結果矩陣和膜系均勻性膜面反射顏色數據結果矩陣分析取交集得到主要膜層。具體的為：在分析膜系均勻性時，先利用膜層玻面反射的顏色數據分析，當玻面反射顏色數據不能全面的分析出膜系均勻性時，采用利用膜層玻面反射數據和透射顏色數據分析出的相應結果取交集得到的膜層為最主要的影響因素膜層，最后采用利用膜層玻面反射數據、膜面反射顏色數據、和透射顏色數據分析出的相應結果取交集得到的膜層為最主要的影響因素膜層；其中，在分析膜系均勻性時，兩個矩陣相乘，其中兩個矩陣的元素值同時為根據同類顏色數據分析得到的值，即所述各膜層顏色數據趨勢矩陣與顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣相乘，膜層顏色數據趨勢矩陣和顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣中的元素值同時為根據玻面反射顏色數據、透射顏色數據或膜面反射顏色數據分析得到的值。實施例以磁控濺射鍍制大面積低輻射鍍膜玻璃為例，生產線配置靶位靶材及相應膜層順序如表1所示，該產品為單銀低輻射膜系產品。表1生產線配置靶位靶材及相應膜層順序順序12345靶材sinicragnicrsi膜層sinxnicragnicrsinx通常在大面積連續生產過程中玻璃基片尺寸寬2440mm、長3660mm，基片寬度方向與靶材平行，長度方向垂直靶材，鍍膜過程玻璃基片依次經過相應靶材，其中氮化硅sinx膜層是使用si靶材通入氮氣n2反應濺射生成，由于陰極磁場、反應氣氛等原因將導致玻璃基片寬度方向沉積速率不能完全一致，對于非反應濺射鍍制nicr、ag膜層也存在陰極磁場不均勻導致膜層沉積速率不一致現象；在連續生產過程中由于靶材消耗、熱量累積等原因將導致各膜層的實際生產條件發生變化；由于各膜層對產品性能影響幅度不同，因此各膜層的均勻性及工藝波動疊加后的膜系性能變化會很復雜。在表1所示的生產配置下選擇了相應的靶材靶位，構成了表1的膜系結構，按照導納矩陣法建立膜系光學模型，本實施例建立的光學模型如表2所示，該模型的光譜計算結果與生產的目標狀態一致，表3為模型及相應生產目標的顏色性能。表2生產膜系光學模型順序12345膜層sinxnicragnicrsinx厚度(nm)21.21.210.81.555.4表3模型及生產目標顏色性能透射玻面反射膜面反射l*83.353.9035.94a*-1.55-4.61-3.03b*3.16-7.23-20.25各陰極在安裝調試中會將均勻性調整到±2％以內，本實施例以表2所示膜系模型的厚度為平均厚度，獲得各膜層厚度在±2％范圍內膜系光譜數據，根據光譜數據得到該膜層厚度范圍內顏色數據，顏色數據以國際標準照明組織(cie)規定的l*、a*、b*顏色空間來表示，對應包括透射顏色、膜面反射顏色、玻面反射顏色。圖2為各膜層玻面反射(rg)顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢，圖2中的a1為第一層膜層玻面反射顏色l*隨厚度的變化趨勢，為單調遞減，b1為第一層膜層玻面反射顏色a*隨厚度的變化趨勢，為單調遞增，c1為第一層膜層玻面反射顏色b*隨厚度的變化趨勢，為單調遞增；a2、b2、c2分別為第二層膜層玻面反射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；a3、b3、c3分別為第三層膜層玻面反射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；a4、b4、c4分別為第四層膜層玻面反射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；a5、b5、c5分別為第五層膜層玻面反射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢。由圖2所示各膜層玻面反射顏色數據l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢建立各膜層玻面反射顏色趨勢矩陣如式(1)；其中，每層膜層及順序與該矩陣的行相對應，該矩陣每一層膜層形成矩陣的行向量，每個行向量的元素分別對應于l*、a*、b*數值隨膜層厚度的單調變化趨勢，規定單調遞增為1，單調遞減為-1。由圖2及式(1)可知，第二、三、四變化玻面顏色趨勢相同，但第三層是ag膜層，由于ag膜層的導電屬性，膜層厚度增加膜系的面電阻會降低，因此可以通過結合面電阻的變化確定膜層的影響。圖3各膜層透射(t)顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢。圖3中的d1為第一層膜層透射顏色l*隨厚度的變化趨勢，為單調遞增，e1為第一層膜層透射顏色a*隨厚度的變化趨勢，為單調遞減，f1為第一層膜層透射顏色b*隨厚度的變化趨勢，為單調遞減；d2、e2、f2分別為第二層膜層透射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；d3、e3、f3分別為第三層膜層透射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；d4、e4、f4分別為第四層膜層透射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢；d5、e5、f5分別為第五層膜層透射顏色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢。由圖3所示各膜層透射顏色數據色l*、a*、b*隨厚度的變化趨勢建立各膜層玻面反射顏色趨勢矩陣如式(2)；其中，每層膜層及順序與該矩陣的行相對應，該矩陣每一層膜層形成矩陣的行向量，每個行向量的元素分別對應于反射顏色l*、a*、b*數值隨膜層厚度的單調變化趨勢，規定單調遞增為1，單調遞減為-1。對比式(1)、(2)可以看出，利用透射顏色變化趨勢時第三層與第二、四層不同，因此當變化趨勢相同是可以結合透射顏色進行分析。從式(1)、(2)可以看出第二層、第四層對于透射、玻面反射影響一致，因此可以根據實際靶材消耗、膜層附著力等情況調節，增加了調整的可選范圍，如在一個設備維護周期內，發生了與第二層、第四層相關的工藝漂移，通過趨勢矩陣分析增加厚度可以使產品顏色性能恢復，而由于長期生產已經使第二層薄膜對應的靶材消耗較多，可以通過增加第四層厚度達到相同的效果，同時避免了對第二層薄膜對靶材的消耗。表4為生產中工藝漂移后玻面反射顏色結果和目標的對比，工藝漂移后l*減小，相應的工藝漂移趨勢矩陣元素值為-1；a*增加，相應的工藝漂移趨勢矩陣元素值為1；b*增加，相應的工藝漂移趨勢矩陣元素值為1，根據表4的工藝漂移趨勢建立工藝漂移趨勢矩陣，如式(3)。表4生產中工藝漂移后顏色結果和目標的對比玻面反射rg目標漂移后工藝漂移趨勢l*53.9053.22-1a-4.61-4.551b-7.23-6.981將各膜層玻面反射顏色趨勢矩陣式(1)與工藝漂移趨勢矩陣(3)相乘，如式(4)；由該結果矩陣可知第一行元素值為3，說明是由第一層膜層的厚度增加導致的工藝漂移，因此需要通過工藝調整減少第一層厚度使產品工藝狀態恢復至目標狀態。當工藝漂移復雜、受多層薄膜影響時，需要本發明提出的方法多次分析主要影響膜層，并開展工藝調整，使最終工藝狀態分析恢復目標狀態，表5為生產目標、工藝漂移及調整過程結果。表5生產目標、工藝漂移及調整過程結果將各膜層玻面反射顏色趨勢矩陣式(1)與根據表5得中的漂移趨勢得到的工藝漂移趨勢矩陣相乘，如式(5)；工藝漂移的結果分析如式(5)，由該結果矩陣可知該工藝漂移是由于第5層薄膜厚度增加導致，因此需要減少第5層厚度，結果如表5中的第一次調整結果，經過第一次減少第5層的調整后相對應目標的趨勢沒有變化，需要繼續減少第5層厚度，結果如表5中第二次調整結果，其中a*與生產目標近似相同，b*與生產目標的趨勢和第一次調整后不同。將各膜層玻面反射顏色趨勢矩陣式(1)與根據表5中的第二次調整后趨勢得到的工藝漂移趨勢矩陣相乘，如式(6)；工藝漂移的結果分析如式(6)，從結果矩陣可以看出是由于第一層薄膜厚度相對目標減少導致工藝漂移，因此應增加第一層厚度，按照此方法直到生產結果滿足目標允許范圍。膜系均勻性分析：圖4為大面積鍍膜產品玻面反射(rg)顏色均勻性測量結果，按照本發明的方法，根據將玻面反射顏色數據l*、a*、b*在趨勢變化拐點位置劃分為不同的區域，本實施例將其劃分為4個區域，建立玻面反射顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣，如式(7)，在該矩陣中，每個區域形成三行一列的向量，三行的元素分別對應膜層顏色l*、a*、b*數值隨測量點的單調變化趨勢；在玻面反射顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣中，規定在各區域內玻面反射顏色數據l*、a*、b*隨測量點單調遞增的趨勢為1、單調遞減的趨勢為-1。將式(1)與式(7)相乘，如式(8)，式(8)的結果矩陣中，每一列代表相應的測量位置區域，每一行對應相應的膜層；由式(8)的結果矩陣可知：第一區域內的均勻性變化是由于第五層膜層厚度隨測量位置增加導致，第二區域內的均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置增加導致，第三區域內的均勻性變化是由于第二、三、四層膜層厚度隨測量位置增加導致，第四區域均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置減小導致。圖5為該大面積鍍膜產品透射(t)顏色均勻性測量結果，按照本發明的方法，根據將透射顏色數據l*、a*、b*在趨勢變化拐點位置劃分為不同的區域，本實施例將其劃分為4個區域，根據圖5建立透射顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣，如式(9)，在該矩陣中，每個區域形成三行一列的向量，三行的元素分別對應膜層透射顏色l*、a*、b*數值隨測量點的單調變化趨勢；在該透射顏色數據位置區域均勻性趨勢矩陣中，規定在各區域內透射顏色數據l*、a*、b*隨測量點單調遞增的趨勢為1、單調遞減的趨勢為-1。將式(2)與式(9)相乘，如式(10)，式(10)的結果矩陣中，每一列代表相應的測量位置區域，每一行對應于相應的膜層；由式(10)的結果矩陣可知：第一區域內的均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置減小、第五層膜層厚度隨測量位置增加導致，第二區域內的均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置增加、第五層膜層厚度隨測量位置減小導致，第三區域內的均勻性變化是由于第三膜層厚度隨測量位置增加導致，第四區域均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置減小導致、第五層膜層厚度隨測量位置增加導致。將依據玻面反射(rg)顏色分析結果式(8)和透射(t)顏色分析結果式(10)取交集，可知，第一區間內的均勻性變化是由于第五層膜層厚度隨測量位置增加導致，第二區間內的均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置增加，第三區間內的均勻性變化是由于第三膜層厚度隨測量位置增加導致，第四區間均勻性變化是由于第一層膜層厚度隨測量位置減小導致。以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，并非對本發明作任何形式上的限制，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍內。當前第1頁12