技術(shù)特征：
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一個磁共振成像(MRI)系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一個產(chǎn)生主磁場B0的主場磁鐵。此外，該系統(tǒng)還包括集成磁體設(shè)備。所述集成磁體設(shè)備具有包括主場相移線圈和場相移護罩線圈，所述之主場相移線圈是被放置在比所述相移護罩線圈更靠近在成像體積中被成像的物體。梯度線圈是位于主場相移線圈和場相移護罩線圈之間。其包括至少一個基材層為場相移線圈和梯度線圈提供機械支撐。
技術(shù)研發(fā)人員：杰龍·安德烈·賓德塞爾;查德·泰勒·哈里斯;威廉·布拉德菲爾德·漢德勒;布萊恩·亞歷山大·克羅尼克
受保護的技術(shù)使用者：圣納普醫(yī)療（巴巴多斯）公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.02.23
技術(shù)公布日：2017.10.13