超高壓電磁閥的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種超高壓電磁閥。
【背景技術】
[0002]現有高壓電磁閥包括閥體，所述閥體內設有主閥腔，所述主閥腔依次分為主閥進口腔、主閥中腔和主閥出口腔，所述主閥中腔內安裝有一個導向套，所述導向套內設有一個與導向套軸向移動配合的閥杯，所述閥杯的底部表面上設有主閥閥杯密封面，所述導向套的下方是位于所述主閥腔內的主閥座，所述主閥座上設有與所述主閥閥杯密封面一同構成主閥密封副的主閥閥座密封面，所述主閥閥座密封面的中央是連通主閥出口腔和主閥中腔的主閥孔，所述導向套的下端同所述主閥閥座密封面之間留有供介質通過的間距，所述閥杯的側面下部設有連通閥杯內外的阻尼孔，所述閥體設有閥蓋，所述閥蓋固定安裝在所述閥體主體部分的頂部，封閉住閥體主體部分的上方敞口，所述閥蓋上面設有支架，所述支架和閥蓋之間設有副閥腔，所述副閥腔依次分為副閥進口腔、副閥中腔和副閥出口腔，所述副閥進口腔與所述主閥中腔連通，所述副閥出口腔與所述主閥出口腔連通，所述支架上安裝有與其軸向移動配合的閥桿，閥桿的下端連接或用作副閥瓣，所述副閥出口腔和副閥中腔之間設有副閥座，所述副閥座上設有副閥閥座密封面，所述副閥閥座密封面的中央是連通副閥出口腔和副閥中腔的副閥孔，所述閥桿的下端設有與所述副閥閥座密封面一同構成副閥密封副的副閥瓣密封面，所述支架上安裝有能夠帶動所述閥桿上下移動的電磁頭，閥門開啟時，電磁頭通電帶動閥桿向上移動，打開副閥密封副，使主閥中腔與主閥出口腔經副閥腔連通，主閥中腔的壓力下降，進而使閥杯在主閥進口腔壓力的作用下向上移動，開啟主閥密封副，使閥門處于開啟狀態，關閉閥門時，電磁頭斷電，閥桿在彈簧力的作用下下移，關閉副閥密封副，切斷經副閥腔的介質通道，主閥進口腔介質經閥杯上的阻尼孔逐漸流入位于閥杯上方的主閥中腔，使閥杯上方的壓力逐漸增大，直至推動閥杯向下移動關閉主閥密封副，使閥門處于關閉狀態。這種高壓電磁閥缺陷是由于采用上裝式閥杯結構，使得閥蓋與閥體之間連接密封和閥蓋導流通道與閥體導流通道之間連接密封難以同時達到要求，不僅要求的加工精度和裝配精度高，而且在介質壓力升高到一定程度后，易于出現泄露，適應的介質壓力受到一定的限制。
【發明內容】
[0003]為了克服現有技術的上述缺陷，本發明提供了一種超高壓電磁閥，這種電磁閥密封性能好，有利于降低加工和裝配的精度要求，適宜于更高的介質壓力。
[0004]本發明所采用的技術方案是:一種超高壓電磁閥，包括閥體，所述閥體內設有主閥腔，其特征在于所述閥體由主閥體和安裝在所述主閥體底部的閥蓋組成，所述主閥腔依次分為主閥進口腔、主閥下腔、主閥中腔和主閥出口腔，所述主閥下腔內設有能夠上下移動的閥瓣，所述閥瓣的頂部設有朝上的閥瓣密封面，所述主閥中腔和主閥下腔之間設有主閥座，所述主閥座位于所述閥瓣的上方，所述主閥座上設有能夠與所述閥瓣密封面形成主閥密封的朝下的主閥閥座密封面，所述主閥閥座密封面呈環形，其中間為連通所述主閥下腔和主閥中腔的主閥孔，所述主閥下腔的底部中間向下延伸出主閥底腔，所述主閥底腔的側壁為垂直側壁，所述閥瓣的外側面呈柱形且與所述主閥底腔的側壁間隙配合，所述主閥體的上部設有副閥腔，所述副閥腔依次分為副閥進口腔、副閥中腔和副閥出口腔，所述副閥進口腔的進口端開口于所述主閥底腔且該開口位于所述閥瓣移動區間的下方，所述副閥出口腔的出口端開口于所述主閥中腔，所述副閥中腔和副閥出口腔之間設有副閥座，所述副閥座上設有朝上的副閥閥座密封面，所述副閥閥座密封面呈環形，其中間為連通所述副閥中腔和副閥出口腔的副閥孔，所述主閥體的上部設有能夠上下移動的副閥瓣，所述副閥瓣位于所述副閥座的上方，所述副閥瓣的底部設有能夠與所述副閥閥座密封面形成副閥密封的朝下的副閥瓣密封面。
[0005]本發明的有益效果為:通過采用下裝式閥瓣結構，使得主閥體可以由頂部開口改為底部開口，通過底部開口裝配閥體內的閥瓣等件，由此將閥蓋與副閥腔分隔開來，閥蓋與閥體之間的密封與副閥腔的密封互不相關，通過不同件間的密封實現，裝配閥蓋時無需同時實現閥蓋與主閥體之間的連接密封和閥蓋導流通道與主閥體導流通道之間的連接密封，消除實踐中無法同時兼顧這兩方面密封要求的技術難題，由此明顯降低了相關件的加工和裝配精度要求，明顯改善了密封效果，提高了密封的耐壓能力，由此，本發明能夠適應于遠超出現有技術下同類高壓閥門所適應的高壓范圍，且密封的可靠性得以明顯提高，而副閥的設置不受閥蓋的制約，有利于優化副閥構造，保證閥門啟閉的可靠性和靈活性。
【附圖說明】
[0006]圖1是本發明在主視方向上的剖面示意圖；
圖2是與圖1對應的在側視方向上的剖面示意圖。
【具體實施方式】
[0007]參見圖1，本發明提供了一種超高壓電磁閥，包括閥體，所述閥體由主閥體11和安裝在所述主閥體底部的閥蓋12組成，所述主閥體底部開口，用于安裝閥瓣21等內部件，通過所述閥蓋封閉住所述主閥體的底部開口，所述閥體內設有主閥腔，所述主閥腔依次分為主閥進口腔41、主閥下腔42、主閥中腔44和主閥出口腔45，所述主閥進口腔、主閥下腔、主閥中腔和主閥出口腔為主閥腔的不同區域，依次相互連通，所述主閥腔為閥體內的主介質通道，介質經閥門進口流入主閥進口腔后，順序流經主閥下腔、主閥中腔和主閥出口腔，進而從閥門出口流出，所述主閥進口腔和主閥出口腔的對外開口構成所述閥門進口和閥門出口。
[0008]所述主閥下腔內設有能夠上下移動的閥瓣21，所述閥瓣的頂部設有朝上的閥瓣密封面，所述閥瓣的頂面上可以設有從周邊部位向上凸的環形凸起22，將該環形凸起的頂面磨削成可以用作閥瓣密封面的平面，以簡化閥瓣密封面的加工工藝，保證密封效果。
[0009]所述主閥中腔和主閥下腔之間設有主閥座23，所述主閥座位于所述閥瓣的上方，所述主閥座上設有能夠與所述閥瓣密封面形成主閥密封的朝下的主閥閥座密封面，所述主閥閥座密封面呈環形，其中間為連通所述主閥下腔和主閥中腔的主閥孔。所述閥瓣和主閥座構成的主閥密封副可用于開啟或切斷主閥下腔到主閥中腔的介質通道，進而實現主介質通道的開啟和關閉。
[0010]所述主閥下腔的底部中間向下延伸出主閥底腔43，所述主閥底腔的側壁為垂直側壁(母線為垂直線)，所述閥瓣的外側面呈柱形且與所述主閥底腔的側壁間隙配合，通過這種配合方式限定了所述閥瓣能夠且只能夠在垂直方向上移動。
[0011]所述主閥體的上部設有副閥腔，所述副閥腔依次分為副閥進口腔51、副閥中腔(或稱為副閥上腔)52和副閥出口腔53，所述副閥進口腔、副閥中腔和副閥出口腔為副閥腔的不同區域，依次相互連通，所述副閥腔為閥體內的副介質通道，所述副閥進口腔的進口端開口于所述主閥底腔且該開口位于所述閥瓣移動區間的下方，即所述副閥進口腔在主閥底腔上的開口位置位于所述閥瓣在主閥底腔內的移動區域的下方，由此實現了所述副閥進口腔與所述主閥底腔的底部(所謂主閥底腔的底部指主閥底腔中所述閥瓣下方的部分，該部分的大小可以隨著所述閥瓣的上下移動而變化，但位于閥瓣行程中的最低點以下的部分，始終不被閥瓣占用，保持為能夠容納介質的空腔)之間的連通，所述副閥出口腔的出口端開口于所述主閥中腔，由此實現了所述副閥出口腔與所述主閥中腔之間的連通。
[0012]所述副閥中腔和副閥出口腔之間設有副閥座33，所述副閥座上設有朝上的副閥閥座密封面，所述副閥閥座密封面呈環形，其中間為連通所述副閥中腔和副閥出口腔的副閥孔，所述主閥體的上部設有能夠上下移動的副閥瓣31，所述副閥瓣位于所述副閥座的上方，所述副閥瓣的底部設有能夠與所述副閥閥座密封面形成副閥密封的朝下的副閥瓣密封面。所述副閥瓣和副閥座構成的副閥密封副可用于開啟或切斷副閥中腔到副閥出口腔的介質通道，進而實現副介質通道的開啟和關閉。
[0013]優選的，所述主閥下腔與所述主閥底腔的底部之間通過且僅通過阻尼介質通道48連通，所述阻尼介質通道可以為所述主閥底腔的側壁與所述閥瓣的側壁之間的間隙，或者在所述閥瓣和所述主閥底腔的側壁上設置所述的阻尼介質通道，也可以另行設置上下穿透所述閥瓣的阻尼通孔，還可以采用其他任意適宜的構造，所述阻尼介質通道截面的大小可以依據阻尼要求設定，其數量通常可為一個，也可以是多個，可根據實際需要確定。由此，所述主閥下腔中的介質在進口側介質壓力的作用下，能夠通過相應的阻尼介質通道進入所述主閥底腔的底部。介質進入所述主閥底腔的底部后，基本上可以無阻力地連通或進入所述副閥進口腔，當副閥密封開啟時，進入主閥底腔底部的介質經副介質通道進入主閥中腔，進而混入主介質通道的出口側介質流，由于該路徑的阻力遠遠大于閥門開啟狀態下主介質通道的阻力，因此在閥門開啟狀態下經該路徑的介質流量基本上可以忽略不計，當副閥密封關閉后，進入所述主閥底腔的底部的介質無法通過副介質通道流出，使所述主閥底腔的底部的介質壓力超過主閥中腔的介質壓力并逐漸升高，達到一定程度后推動閥瓣向上移動，進