滑動式回壓關斷閥的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種回壓關斷閥，該回壓關斷閥在維持應用于半導體及LCD等的半導體制造過程或化學產品制造過程等的一定壓力或者將氣體等流體的流動維持正方向的配管系統突然發生大氣流入或流體反向流動現象時迅速地關斷而能夠予以防止，更具體地說，涉及如下的滑動式回壓關斷閥:其包括:閥主體，其由流體流入部、流體流出部及流體通過空間部構成；移送體，其上部安裝了所述流體回壓時關斷流體流動的關斷板，且在回壓關斷時，該移送體向所述流體通過空間部水平移動；以及移送體移動單元，其使所述移送體水平移動，平時由于閥的流體空間通路沒有阻礙物而像直管一樣地不妨礙流體的流動，當配管內發生回壓時所述移送體水平移動到關斷位置，在所述關斷位置，安裝在所述移送體的關斷板浮起而關斷流體的流動，從而在發生粉末的制程也能順利地運行。
【背景技術】
[0002]在半導體生產線上等通常會使用真空設備，此時為了形成真空而使用真空栗。所述半導體制造設備在真空狀態(或非常低的氣壓狀態)下進行沉積或蝕刻之類的基本處理，真空栗忽然發生故障或停止運轉時大氣壓會倒過來流入到真空設備內，在真空室內的產品上生成粒子(particle)，從而對所述基本處理造成較大損失。
[0003]為了防止該問題而在真空室與真空栗之間使用回壓關斷閥，如專利授權第706661號所示，現有的回壓關斷閥中執行回壓關斷功能的關斷板是憑借重力進行動作的，其結構是流路折彎一次以上的蜿蜒(meander)形態，因此瞬間流速增加及流體發生流動時非常脆弱。
[0004]而且，半導體等的制造過程中化學氣相沉積(CVD:Chemical Vapor Deposit1n)制程是一種在真空狀態下噴射反應氣體后在晶片上涂敷薄膜的制程，制程進行完畢后分解的二氧化硅(S12)及氧化鋁(Al2O3)之類的粒子狀物質(以下簡稱“粉末(powder)”)會發生很多，由于所述回壓關斷閥的關斷板一直暴露于流路，因此所述粉末將導致所述關斷板變形而在關斷時影響到準確壓力下的反復動作性及準確密封(sealing)性。
[0005]而且，如果所述粉末層疊在關斷板上，由于回壓關斷時所述關斷板與密封件之間存在粉末而導致無法準確地密封，因此發生泄漏而無法實行回壓關斷功能。
[0006]而且，層疊在所述關斷板上的粉末會引起關斷板的質量變化，該現象會在關斷時增加關斷板的上升壓力而使得關斷板無法浮起，從而造成無法關斷回壓的嚴重問題。
[0007]而且，通用的一般閘閥(gate valve)無法執行回壓關斷功能，雖然由于其結構不具備流路曲折的蜿蜒(meander)形態而沒有對瞬間流速增加及流體流動脆弱的問題，但粉末長時間層疊到內部驅動部及關斷板上時粉末將存在于關斷板與密封件之間而導致無法準確地密封，從而發生泄漏而無法發揮出關斷功能。
【發明內容】
[0008]技術課題
[0009]為了解決現有技術的所述問題，本發明的目的是提供一種滑動式回壓關斷閥，該回壓關斷閥可以在適用于半導體及LCD等的半導體制造過程或化學產品制造過程等的配管系統突然發生大氣流入或流體反向流動現象時迅速地關斷而能夠予以防止，該回壓關斷閥的新結構具備安裝了關斷板的移送體，平時在閥的流體通路空間部不存在阻礙物而得以像直管一樣地不妨礙流體流動，但是配管內發生回壓時，所述移送體會水平移動到關斷位置并且安裝在所述移送體的關斷板在所述關斷位置浮起而關斷流體的流動，因此在粉末發生量較多的制程、需要提高栗唧(pumping)速度的制程、安裝閥時電導(conductance)劣化而以往無法使用的場所，也仍可通過改善所述問題而得以適用。
[0010]而且，本發明的另一個目的是提供一種滑動式回壓關斷閥，該回壓關斷閥還包括:閥主體；移送體，其上部安裝有封閉所述流體流入部的關斷板，在發生回壓時，該移送體移動到所述流體通過空間部的位置；以及移送體移動單元，其移動所述移送體，在所述閥主體還包括防粉末流入缸，在所述防粉末流入缸的內部具備憑借從外部供應的壓縮空氣而上下移動的防粉末流入環，憑借所述防粉末流入環得以從源頭上阻止粉末流入到收容所述移送體等的空間。
[0011]解決課題手段
[0012]為了達到所述目的，本發明的滑動式回壓關斷閥包括:閥主體，其上下配置有流體流入部與流體流出部，且在所述流體流入部與流體流出部之間包括流體通過空間部，該流體通過空間部形成了用于所述流體通過的空間；移送體，其上部安裝有封閉所述流體流入部的關斷板，在關斷流體時，該移送體移動到所述流體通過空間部的位置；以及移送體移動單元，其移動所述移送體，在從外部發生回壓生成信號時，所述移送體移動單元將所述移送體移送到封閉所述流體流入部的位置，安裝在所述移送體上的關斷板因所述閥主體內的回壓所引起的壓力差而浮起，從而封閉所述流體流入部而關斷回壓。
[0013]而且，本發明的所述移送體移動單元將所述移送體結合在空壓缸或電馬達這樣的驅動單元的旋轉軸上，利用所述旋轉軸的旋轉而使得所述移送體移動到封閉所述流體流入部的位置。
[0014]而且，本發明的所述移送體包括與所述旋轉軸結合的旋轉軸結合部及安裝所述關斷板的移送體主體，所述移送體主體形成了小于所述關斷板的直徑的開放的圓形空間而得以安裝所述關斷板。
[0015]而且，本發明的所述移送體移動單元在空壓缸或電馬達這樣的驅動單元連接連桿單元的一端部并在所述連桿單元的另一端部結合所述移送體，當所述驅動單元進行動作而所述連桿單元伸展時，所述移送體移動到封閉所述流體流入部的位置。
[0016]而且，所述移送體包括安裝所述關斷板的移送體主體和結合所述連桿單元的連桿單元結合部，所述移送體主體形成了小于所述關斷板的直徑的開放的圓形空間而得以安裝所述關斷板。
[0017]而且，本發明的所述移送體主體具備用于實現順利移動的輪子。
[0018]而且，本發明的所述關斷板為圓板形，其外徑大于所述流體流入部的直徑，在所述關斷板的下部面形成有突起部，當所述關斷板被安裝于所述移送體時，該突起部限制所述關斷板的水平移動。
[0019]而且，本發明在如下部位安裝O型環，以維持氣密，該部位是在如下情況中在所述閥主體與所述關斷板抵接的部位，該情況為，所述關斷板因所述閥主體內的回壓引起的壓力差而浮起，因此封閉所述流體流入部，關斷了回壓。
[0020]而且，本發明的所述閥主體中安裝了所述O型環的面與所述移送體的上部面之間的高度(A)或者與所述突起部突出的下部面之間的高度(D)小于所述關斷板的厚度(B)與形成于所述關斷板的下部面的突起部的高度(C)之和[A或D〈(B+C)]。
[0021]而且，本發明在所述閥主體還包括防粉末流入缸，
[0022]在所述防粉末流入缸的內部具備利用從外部所供應的壓縮空氣及壓縮氣體而上下移動的防粉末流入環，通過所述防粉末流入環阻止粉末流入到收容所述移送體和移送體移動單元的空間內。
[0023]而且，本發明的所述防粉末流入環是兩段折彎的圓筒型，借助于供應給所述防粉末流入缸所具備的壓縮空氣流入部的壓縮空氣而上下移動。
[0024]而且，在本發明中，在從外部發生回壓時，將壓縮空氣或壓縮氣體供應到防粉末流入缸，使得所述防粉末流入環先開始開放，即使在所述防粉末流入環完全開放之前也能使所述移送體移動單元將所述移送體移送到封閉所述流體流入部的位置，在所述移送體中安裝所述關斷板的移送體主體的下部形成有一定厚度(t)的空間。
[0025]而且，本發明的形成于所述移送體主體的下部的一定厚度(t)的空間是具有Imm以上厚度的空間。
[0026]而且，本發明為了防止粉末吸附在所述防粉末流入環的內周面或所述閥主體的內周面及形成于閥內部的間隙，所述閥主體具備從外部供應防粉末吸附用氣體的氣體流入部，且所述閥主體具備使從所述氣體流入部供應的所述防粉末吸附用氣體沿著所述閥主體的內周面流動的氣體流出部。
[0027]而且，本發明的所述氣體流出部以使防粉末吸附用氣體沿著所述閥主體的內周面流動的方式形成為圓形流路。
[0028]而且，在本發明中，在所述閥主體的內部還配備圓筒型形狀的氣體流路引導環，該氣體流路引導環的直徑小于所述閥主體的內徑，為了進一步提高從所述氣體流出部流出的所述防粉末吸附用氣體的防吸附效果而向所述閥主體的內周面進行引導。
[0029]發明效果
[0030]本發明的滑動式回壓關斷閥平時由于閥的流體通路空間部沒有阻礙物而像直管一樣地維持高流速而改善流體流動，當配管內發生回壓時，所述移送體水平移動到關斷位置，在所述關