一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法及鋁合金制品的制作方法
【專利說明】一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法及鋁合金制口叩
技術領域
[0001]本發明涉及金屬表面處理技術領域，尤其涉及一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法及應用該鋁合金陽極氧化后實現高光logo方法制成的鋁合金制品。
【背景技術】
[0002]隨著生活水平的不斷提高以及手機技術的持續發展，近年來，各種手機殼體越來越趨于個性化設計，尤其是對手機殼體的logo (商標、標志)設計，對于logo的獨特設計在對手機殼體裝飾的同時，對突出手機的品牌效應能夠起到畫龍點睛的作用，因而不僅受到了消費者的青睞，更成為了商家的主要關注點之一。
[0003]目前手機殼體大多采用鋁合金制成，在鋁合金的手機殼體等鋁合金制品表面制作logo的方法多種多樣，例如:1、將鋁合金制品陽極氧化后再鐳雕logo，這樣的制作方式使得logo不夠高亮，無法突出logo ;2、將鋁合金制品進行CNC精加工處理后再貼不銹鋼高光logo，這樣的制作方式雖然能保持logo的光亮，突出logo，但是制作成本比較高，且貼合的logo在長時間使用后很容易被磨損和刮掉；3、在對鋁合金制品進行機械處理后，對鋁合金制品進行化學蝕刻或者鐳雕，形成logo，之后將形成logo后的鋁合金制品進行著色處理；或者是在對鋁合金制品進行著色處理后，采用移印、填磨等方式在鋁合金上形成logo，這種作業和設計的logo，時間久了很容易被磨損和刮掉，logo就會慢慢消失。
[0004]基于以上問題，亟需一種新的在鋁合金制品表面實現高光logo的方法，以解決現有logo制作后不夠高亮、制作成本高以及容易磨損和刮掉的問題。
【發明內容】
[0005]本發明的一個目的在于提出一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法，該方法可以使制作后的logo保持高光亮的效果，且也不容易磨損和被刮掉。
[0006]本發明的另一個目的在于提出一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法，該方法的制作成本低，制作的帶有logo的鋁合金制品的表面質量高。
[0007]本發明的又一個目的在于提出一種應用上述鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法制作的鋁合金制品。
[0008]為達此目的，本發明采用以下技術方案:
[0009]提供一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法，包括以下步驟:
[0010]S100、精加工logo:提供經第一次陽極氧化處理后的鋁合金基材，在此鋁合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主軸電機的轉速不小于20000r/min ;
[0011]S200、第二次陽極氧化處理:對精加工logo后的鋁合金基材進行第二次陽極氧化處理，在logo表面以及鋁合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次陽極氧化處理的電壓為8?10V，氧化溫度為18?22°C，第二氧化膜的厚度為4?5 μπι。
[0012]還提供一種鋁合金制品，所述鋁合金制品應用如上所述的鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法制成。
[0013]本發明的有益效果為:
[0014]本發明提供了一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法，該方法與現有技術相對比，采用高轉速的CNC對鋁合金基材進行logo加工，可以形成高光logo，且CNC精加工后的logo不會被磨損和刮掉，保證了招合金制品上logo的完整性；在精加工logo后進行第二次陽極氧化處理，可以在logo上形成第二氧化膜，且由于膜厚較薄，不僅可以保證logo不被氧化和腐蝕，還可以保證logo的高光性，提高整個鋁合金制品的表面質量。
[0015]本發明提供了一種鋁合金制品，此鋁合金制品上的logo具有高光效果，不容易被腐蝕和氧化，且也不容易磨損和被刮掉。
【附圖說明】
[0016]圖1是根據本發明的一實施例提供的鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法的流程圖。
[0017]圖2是根據本發明的一實施例提供的步驟S200的流程圖。
[0018]圖3是根據本發明的另一實施例提供的步驟S200的流程圖。
[0019]圖4是根據本發明的又一實施例提供的步驟S200的流程圖。
[0020]圖5是根據本發明的一實施例提供的步驟S100的流程圖。
【具體實施方式】
[0021]為使本發明解決的技術問題、采用的技術方案和達到的技術效果更加清楚，下面將結合附圖對本發明實施例的技術方案作進一步的詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0022]圖1是根據本發明的一實施例提供的鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法的流程圖。如圖1所示，于本實施例中，一種鋁合金陽極氧化后實現高光logo的方法包括如下步驟:
[0023]S100、精加工logo:提供經第一次陽極氧化處理后的鋁合金基材，在此鋁合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主軸電機的轉速不小于20000r/min ;
[0024]S200、第二次陽極氧化處理:對精加工logo后的鋁合金基材進行第二次陽極氧化處理，在logo表面以及鋁合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次陽極氧化處理的電壓為8?10V，氧化溫度為18?22°C，第二氧化膜的厚度為4?5 μπι。
[0025]本發明通過在陽極氧化處理后的鋁合金基材上通過CNC精加工logo，且CNC的主軸電機轉速不小于20000r/m，高轉速的CNC使得加工后的logo更加高光；通過在加工有logo的鋁合金基材表面進行第二次陽極氧化處理，且在鋁合金基材以及logo的表面形成4?5 μπι的第二氧化膜，第二氧化膜可以在保證logo不被氧化的同時保證氧化膜不遮蓋logo，使logo保持高光狀態。
[0026]在本實施例中，CNC采用北京精雕機，如金童WJA400型精雕機。
[0027]圖2是根據本發明的一實施例提供的步驟S200的流程圖。如圖2所示，于本實施例中，步驟S200包括依序的如下步驟:
[0028]S210、除油處理，對精加工logo后的鋁合金基材進行除油處理；
[0029]S220、氧化處理:將精加工logo后的鋁合金基材放置在濃度為200g/L、溫度為18?22°C的硫酸溶液中，氧化電壓保持8?10V，進行陽極氧化處理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4?5 μπι的第二氧化膜。通過采用上述工藝條件的硫酸溶液對精加工logo后的鋁合金基材進行第二次陽極氧化處理，可以在logo上形成較薄的第二氧化膜，既可以保證logo不被氧化，還可以保證logo的高光度。
[0030]圖3是根據本發明的另一實施例提供的步驟S200的流程圖，如圖3所示，于本實施例中，步驟S200包括依序的如下步驟:
[0031]S210'、除油處理:對精加工logo后的鋁合金基材進行除油處理；
[0032]S220r、氧化處理:將精加工logo后的鋁合金基材放置在濃度為200g/L、溫度為18°C的硫酸溶液中，氧化電壓保持8V，進行陽極氧化處理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4 μπι的第二氧化膜；
[0033]S230'、封閉處理:將第二次陽極氧化處理后的鋁合金基材放置在濃度8g/L、溫度為95°C、PH5.5的醋酸鎳溶液中，靜置20min。封閉處理可以提高鋁合金制品的耐腐蝕性，增加鋁合金制品的抗臟污能力。
[0034]圖4是根據本發明的另一實施例提供的步驟S200的流程圖，如圖4所示，于本實施例中，步驟S200包括依序的如下步驟:
[0035]S210"、除油處理:對精加工logo后的鋁合金基材進行除油處理；
[0036]S220"、水洗處理:將除油處理后的鋁合金基材進行水洗處理；
[0037]S230"、氧化處理:將精加工logo后的鋁合金基材放置在濃度為200g/L、溫度為20°C的硫酸溶液中，氧化電壓保持8V，進行陽極氧化處理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成5 μπι的第二氧化膜；
[0038]S240"、水洗處理:將氧化處理后的鋁合金基材進行水洗處理；
[0039]S250"、封閉處理:將第二次陽極氧化處理后的鋁合金基材放置在濃度8g/L、溫度為95°C、PH5.5的醋酸鎳溶液中，靜置20min。封閉處理可以提高鋁合金制品的耐腐蝕性，增加鋁合金制品的抗臟污能力